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所使用的光學(xué)機(jī)械參數(shù)和透鏡邊緣可以在CAD平臺(tái)上進(jìn)行設(shè)計(jì)，然后在Ansys Speos中進(jìn)行修改。這個(gè)例子主要涵蓋了整個(gè)工作流程中的Speos部分，介紹了雜散光分析的概念，并演示了Speos的功能：Zemax Importer工具, light expert (LXP)光線追跡和序列檢測(cè)雜散光。操作流程概述上圖是使用Ansys工具分析相機(jī)系統(tǒng)雜散光的典型工作流程。

7月11日，Ansys 將推出「成像系統(tǒng)雜散光工作流更新」主題網(wǎng)絡(luò)研討會(huì)，介紹Ansys鏡頭雜散光解決方案的新進(jìn)展，使用Zemax OpticStudio、Speos和Lumerical綜合考量鏡頭和CMOS特性，通過(guò)光線追跡、序列檢測(cè)等方法分析雜光來(lái)源，并對(duì)系統(tǒng)進(jìn)行優(yōu)化。講師：馬鎏學(xué) | Ansys 高級(jí)應(yīng)用工程師Ansys 高級(jí)應(yīng)用工程師。

Speos分析雜散光Speos是Ansys 公司旗下的一款專業(yè)的光學(xué)仿真分析工具，現(xiàn)在我們通過(guò)Speos的光路追跡功能實(shí)現(xiàn)HUD的雜散光分析。我們?cè)谧龉饴贩治鰰r(shí)，依據(jù)是光線可逆原則。

為適應(yīng)我國(guó)光電行業(yè)飛速發(fā)展的需要，提高我國(guó)光學(xué)設(shè)計(jì)人員的專業(yè)水平，武漢宇熠將在2023年2月23日-24日舉辦線上培訓(xùn) —— 『Ansys Zemax 照明設(shè)計(jì)與雜散光分析』。 培訓(xùn)將為大家系統(tǒng)性地介紹非序列模式的建模邏輯、光源建模、優(yōu)化方法、雜散光分析等主題。

雜散光問(wèn)題出現(xiàn)在幾乎所有的光機(jī)系統(tǒng)或者照明系統(tǒng)中。通過(guò)遮擋或者移除零件、表面涂漆或者在光學(xué)器件表面鍍膜都可以減少或者消除雜散光。在本案例中，我們將闡述雜散光的定義并且介紹怎樣利用FRED來(lái)分析和避免雜散光問(wèn)題。 1. 什么是雜散光？ 簡(jiǎn)單來(lái)說(shuō)，雜散光就是系統(tǒng)不需要的噪音，它是由光機(jī)結(jié)構(gòu)、視場(chǎng)外光源或者不完善的光學(xué)零件產(chǎn)生的，還有可能是由光學(xué)或系統(tǒng)自身的熱輻射引起的。

如何分析雜散光？此前，進(jìn)行雜散光分析需要借助物理原型。這意味著雜散光只有在相關(guān)流程結(jié)束時(shí)才能進(jìn)行測(cè)量，但此時(shí)對(duì)產(chǎn)品設(shè)計(jì)進(jìn)行修改為時(shí)已晚。單色儀和光譜輻射儀等工具可幫助工程師了解雜散光，但代價(jià)是增加構(gòu)建整個(gè)設(shè)備的時(shí)間和成本。如今，工程師依靠Ansys Optics仿真軟件對(duì)光學(xué)系統(tǒng)進(jìn)行建模，并早在構(gòu)建物理原型之前就主動(dòng)解決雜散光的影響。

進(jìn)行雜散光分析時(shí)，最終的目標(biāo)為找出雜散光的來(lái)源并嘗試改善。而在這篇文章中，我們會(huì)繼續(xù)以同一個(gè)示例檔案進(jìn)行設(shè)計(jì)，說(shuō)明如何辨別雜散光的特定光線路徑，以及如何藉由鏡面鍍膜改善這些非預(yù)期的能量來(lái)源。 使用篩選字串辨別雜散光路徑 首先，我們要找出雜散光的來(lái)源并試著改善。在下方的結(jié)果圖中，我們可以看到許多非預(yù)期的反射光（鬼影）出現(xiàn)在像面上。

評(píng)估雜散光水平是用幾個(gè)離軸點(diǎn)光源。 第三階段是使用模型評(píng)價(jià)望遠(yuǎn)鏡在不同情況下的雜散光規(guī)避特性。這些計(jì)算用來(lái)確定離軸角度對(duì)系統(tǒng)雜散光性能的影響，并用來(lái)提出對(duì)望遠(yuǎn)鏡的擋板提出修改建議。考慮的改動(dòng)建議包括當(dāng)前設(shè)計(jì)的簡(jiǎn)單改動(dòng)，到完全重新設(shè)計(jì)擋板系統(tǒng)。第三階段工作的一個(gè)重要部分，是評(píng)價(jià)預(yù)備做的改動(dòng)會(huì)對(duì)UWBC 的視場(chǎng)有出什么影響。為了做這種評(píng)價(jià)，模型評(píng)估雜散光UWBC 轉(zhuǎn)動(dòng)部分兩個(gè)方向上的視場(chǎng)。

雜散光分析是光學(xué)和機(jī)械裝配驗(yàn)證的重要步驟。本文演示了在非序列模式下使用過(guò)濾字符串功能的雜散光分析技術(shù)，以及支持特性。下載聯(lián)系工作人員獲取附件簡(jiǎn)介 在進(jìn)行雜散光分析時(shí)，光學(xué)設(shè)計(jì)工程師可能會(huì)問(wèn)以下問(wèn)題:從各種光學(xué)或機(jī)械表面反射產(chǎn)生的鬼影影響有多大?反射超過(guò)四次的光線能傳遞多少能量?隔板在限制探測(cè)器雜散光方面有多有效?

本次培訓(xùn)即將于2023年9月18日-20日再次開(kāi)班，以下為本次培訓(xùn)具體詳情：培訓(xùn)大綱雜散光術(shù)語(yǔ);輻射度學(xué)基礎(chǔ);雜散光成因;雜散光影響、雜散光控制;雜散光分析和評(píng)價(jià)方法;ASAP雜散光分析流程、步驟;練習(xí)1 找關(guān)鍵和被照表面;練習(xí)2 重點(diǎn)區(qū)域位置和大小計(jì)算;練習(xí)3 雜散光PST計(jì)算;光學(xué)表面粗糙度、污染和微粒;

本文將說(shuō)明如何進(jìn)行機(jī)構(gòu)元件的雜散光分析。我們可以在原始的系統(tǒng)中匯入CAD檔案作為OpticStudio的一個(gè)物件，并賦予它特定的光學(xué)特性。藉由路徑分析功能的協(xié)助，我們可以明確的辨識(shí)出機(jī)構(gòu)元件產(chǎn)生的雜散光線。 在進(jìn)行光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì)時(shí)，光學(xué)工程師可根據(jù)分析的結(jié)果對(duì)機(jī)構(gòu)工程師提出系統(tǒng)改進(jìn)的要求。本文是雜散光分析系列文章中的最后一篇。

雜散光分析是光學(xué)和機(jī)械裝配驗(yàn)證的重要步驟。本文演示了在非序列模式下使用過(guò)濾字符串功能的雜散光分析技術(shù)，以及其他重要功能。簡(jiǎn)介在進(jìn)行雜散光分析時(shí)，光學(xué)設(shè)計(jì)工程師可能會(huì)問(wèn)以下問(wèn)題: 從各種光學(xué)或機(jī)械表面反射產(chǎn)生的鬼影影響有多大? 反射超過(guò)四次的光線能傳遞多少能量? 隔板在限制探測(cè)器雜散光方面有多有效?

如何找出這些由非預(yù)期光線所產(chǎn)生的能量，并試著以外加的光學(xué)元件吸收或阻擋這些光線，將是雜散光分析中至關(guān)重要的環(huán)節(jié)。 本文是三篇雜散光分析系列文章中的第一篇，將介紹如何將序列系統(tǒng)轉(zhuǎn)至非序列模式中，并觀察此時(shí)系統(tǒng)產(chǎn)生的雜散光。 簡(jiǎn)介 一般情況下，在進(jìn)行機(jī)構(gòu)的設(shè)計(jì)之前，我們必須先考慮雜散光的影響。

雜散光分析、評(píng)價(jià)方法、分析軟件對(duì)比 ASAP 雜散光分析流程、步驟：關(guān)鍵表面和照明表明 散光特性、散射模型 消光漆/表面處理 光學(xué)表面污染 散射特性測(cè)量?jī)x對(duì)比、重點(diǎn)區(qū)域采樣 衍射雜散光、 PST 分析：衍射元件的雜散光分析

紅外雜散光案例分析簡(jiǎn)介在紅外成像系統(tǒng)的設(shè)計(jì)中，雜散光始終是制約成像質(zhì)量的核心問(wèn)題。紅外波段的雜散光易源于光學(xué)元件反射、機(jī)械結(jié)構(gòu)漫反射及遮光設(shè)計(jì)缺陷，直接導(dǎo)致成像對(duì)比度下降、信噪比降低，甚至出現(xiàn)偽影，影響目標(biāo)識(shí)別精度。

本培訓(xùn)即將再次開(kāi)班，以下為本次培訓(xùn)的課程及詳情：01 培訓(xùn)大綱雜散光術(shù)語(yǔ);輻射度學(xué)基礎(chǔ);雜散光成因;雜散光影響、雜散光控制;雜散光分析和評(píng)價(jià)方法;ASAP雜散光分析流程、步驟;練習(xí)1 找關(guān)鍵和被照表面;練習(xí)2 重點(diǎn)區(qū)域位置和大小計(jì)算;練習(xí)3 雜散光

輻射度學(xué)基礎(chǔ) 雜散光成因 雜散光影響、雜散光控制 雜散光分析、評(píng)價(jià)方法、分析軟件對(duì)比 ASAP 雜散光分析流程、步驟 練習(xí) 1 — 找關(guān)鍵和被照表面

附件下載聯(lián)系工作人員獲取附件概要雜散光分析是光學(xué)和機(jī)械裝配驗(yàn)證的重要步驟。本文演示了在非序列模式下使用過(guò)濾字符串功能的雜散光分析技術(shù)，以及支持特性。簡(jiǎn)介在進(jìn)行雜散光分析時(shí)，光學(xué)設(shè)計(jì)工程師可能會(huì)問(wèn)以下問(wèn)題: 從各種光學(xué)或機(jī)械表面反射產(chǎn)生的鬼影影響有多大? 反射超過(guò)四次的光線能傳遞多少能量?

機(jī)械元件的雜散光分析簡(jiǎn)介在光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì)與工程實(shí)踐中，機(jī)械元件的雜散光問(wèn)題對(duì)系統(tǒng)性能有著不容忽視的影響。雜散光會(huì)降低光學(xué)系統(tǒng)的信噪比、圖像對(duì)比度，甚至導(dǎo)致系統(tǒng)功能失效。因此，準(zhǔn)確分析機(jī)械元件雜散光并采取有效抑制措施，是保障光學(xué)系統(tǒng)高質(zhì)量運(yùn)行的關(guān)鍵環(huán)節(jié)。

很明顯，探測(cè)器平面上不受歡迎的雜散光確實(shí)來(lái)自月球的“特定”區(qū)域。這些區(qū)域在下面的探測(cè)器查看器中高亮顯示。這一信息可能有助于確定哪種雜散光抑制技術(shù)可以用來(lái)減少來(lái)自月球的雜散光。