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利用蒙特卡羅存檔了解公差擾動如何被執行前面我們介紹如何把靈敏度計算時用到的系統設定儲存下來。而對于蒙特卡羅來說，則比較單純，使用者只需要在蒙特卡羅保存數字段中填入要儲存的檔案數量即可，如下圖：有時候如果我們想要了解許多不同的公差同時被套用在系統中時的效果，則可以利用蒙特卡羅的這個存檔功能。

我們設置500個蒙特卡羅運行數 確認完畢后即按 “OK” 執行公差分析如下圖一樣，如果使用四核心電腦，就可以看到電腦一次會計算4個蒙特卡羅系統。

使用蒙特卡羅分析工具，在 Lumerical Multiphysics 工具中基于制造工藝變化進行良率分析。線路設計使用代工廠 PDK 和定制的 Ansys Verilog-A 模型進行電光集成電路設計。

當我重寫 Wolfram 語言代碼使其不是我的迭代 Python 代碼風格的逐字副本時，我的蒙特卡羅模擬在速度上與我的原始 Python 代碼示例相當。 任務的最后一步在 Wolfram 語言中很容易：創建直方圖并從我的蒙特卡羅模擬輸出中獲取均值、標準差以及上下 5% 分位數。

重點研究的兩個方面是敏感度公差分析和蒙特卡羅公差分析。在靈敏度分析中，對各公差參數的光學性能進行擾動，并對系統的各項性能進行分析。在蒙特卡羅分析中，對所有參數添加隨機擾動并分析統計結果。蒙特卡羅分析參數的設置是保證統計結果能夠反映實際制造誤差的關鍵。不幸的是，這一步經常被忽略，要么是由于時間限制，要么是缺乏經驗，要么是照明系統與成像系統的數據化分析（如MTF）相比過于抽象。

圖 14.在Q型非球面上使用 TEZI 操作數進行公差分析 當我們運行公差分析并保存蒙特卡羅文件時，您可以輕松檢查公差結果。 圖 15. 蒙特卡羅分析設置 我們還可以打開一個蒙特卡羅隨機文件來驗證并更好地了解操作數如何向表面添加不規則度。

?這個案例使用了稍微修改過的案例LBS.001的光束整形器系統，應用單參數和蒙特.卡羅方法來對系統進行公差分析。? 4.建模任務 分析系統的以下公差： 5.

Fallon | Ansys主任應用工程師Diamond Liu | SynMatrix產品經理費用：免費參與本次活動您將收獲： 探究如何通過交叉耦合與傳輸零點設計降低插入損耗的濾波器綜合方法 學習在 HFSS 中自動生成微帶幾何結構的高效方法 應用 AI/ML 優化工作流程加速標準與開環微帶濾波器設計 了解蒙特卡羅分析如何評估制造公差帶來的影響

什么是 Monte Carlo 模擬及python案例蒙特卡羅模擬是一種強大的計算技術，用于通過隨機采樣來估計復雜系統的行為。由于依賴隨機性，該方法以蒙特卡洛賭場命名，用于各個領域，包括金融、工程和科學，以模擬不確定性和預測結果。在本文中，我們將探討蒙特卡洛仿真背后的數學原理，并提供一個 Python 代碼的實際示例。

圖 14.在Q型非球面上使用 TEZI 操作數進行公差分析當我們運行公差分析并保存蒙特卡羅文件時，您可以輕松檢查公差結果。圖 15. 蒙特卡羅分析設置我們還可以打開一個蒙特卡羅隨機文件來驗證并更好地了解操作數如何向表面添加不規則度。如圖 16 所示，Q 型非球面上增加了一個復合組件面，該表面帶有 TDE 中指定的 Zernike 標準矢高擾動項。圖 16.

調制傳遞函數和成像質量評估· OpticStudio 中的坐標系統· 坐標間斷面及其使用技巧· 序列模式中的棱鏡模型第二天· 實例：掃描振鏡· 實例：科勒照明· 轉換為非序列模式· 黑盒系統· OpticStudio 中的優化工具· 尋找最佳非球面/轉換非球面類型· 公差分析簡介· 制造誤差和裝配誤差· 公差評價標準· 靈敏度/反靈敏度/蒙特卡羅分析

圖 14.在Q型非球面上使用 TEZI 操作數進行公差分析 當我們運行公差分析并保存蒙特卡羅文件時，您可以輕松檢查公差結果。 圖 15. 蒙特卡羅分析設置 我們還可以打開一個蒙特卡羅隨機文件來驗證并更好地了解操作數如何向表面添加不規則度。

此外，當使用過多多項式或者網格矢高點時，將不存在一個像蒙特卡羅那樣的實用公差統計分析方法來分析它們可能包含的各種不規則度。我們可以從加工過程中預測金剛石車削引起的中頻旋轉對稱不規則度[3]。本文我們提出一種將多個表面組合起來，以形成一個用戶自定義表面的方法，來完成諸如公差分析這類需要改變參數的任務。

然后還可用蒙特卡羅公差分析，計算全部公差的累積效應。該分析可提供制造良率統計，讓您了解多大比例的成品系統符合規格。 用OpticStudio導入、優化和導出CAD元件 對光程中的元件，可動態打開原生的 PTC Creo Parametric 和 Autodesk Inventor 元件，且在 OpticStudio 中進行優化。

然后還可用蒙特卡羅公差分析，計算全部公差的累積效應。該分析可提供制造良率統計，讓您了解多大比例的成品系統符合規格。　　用OpticStudio導入、優化和導出CAD元件　　對光程中的元件，可動態打開原生的PTC Creo Parametric和Autodesk Inventor元件，且在OpticStudio中進行優化。或利用內建的CAD程序零件設計，為任何應用創建定制形狀。

</strong>：針對45lp/mm特征頻率進行100次蒙特卡羅隨機誤差仿真，結果顯示：80%樣本MTF＞0.16，50%樣本MTF＞0.19，成像質量下降幅度小，系統對誤差具有良好魯棒性，同時為實際生產提供了精準的公差容限值，降低加工與裝調難度。

重點研究的兩個方面是敏感度公差分析和蒙特卡羅公差分析。在靈敏度分析中，對各公差參數的光學性能進行擾動，并對系統的各項性能進行分析。在蒙特卡羅分析中，對所有參數添加隨機擾動并分析統計結果。蒙特卡羅分析參數的設置是保證統計結果能夠反映實際制造誤差的關鍵。不幸的是，這一步經常被忽略，要么是由于時間限制，要么是缺乏經驗，要么是照明系統與成像系統的數據化分析（如MTF）相比過于抽象。

此外，當使用過多多項式或者網格矢高點時，將不存在一個像蒙特卡羅那樣的實用公差統計分析方法來分析它們可能包含的各種不規則度。我們可以從加工過程中預測金剛石車削引起的中頻旋轉對稱不規則度[3]。本文我們提出一種將多個表面組合起來，以形成一個用戶自定義表面的方法，來完成諸如公差分析這類需要改變參數的任務。

模式1 - 無序列文件：在這種模式下，Speos使用標準的蒙特卡羅光線傳播引擎來模擬3D場景和光學系統。它考慮了光學和系統內的鏡面和散射相互作用。為了增加光線進入光學系統孔徑進行直接模擬的概率，在光學系統的第一個面引入了一個目標區（邊界框）來引導光線。這種方法也適用廣角鏡頭，使從廣角進入的光線也可以有效追跡。

公差分析和操作詳細步驟，蒙特卡羅結果分析及闡釋。 ZEMAX照明設計課程　　　　☆本課程為Zemax照明學習課程，針對工業及特殊照明產品的設計優化而設定的，涵蓋了室內外照明燈具、工業照明等方面的建模設計和分析優化，主要內容包括：　　1、光源的精確建立、復雜物體的各種構建方式、探測器的建立和分析。