Ansys Lumerical | 光子 PDK 合作代工廠速覽

摩爾芯創

2026年1月19日 16:46

隨著硅光技術與光子集成電路（PIC）快速發展，半導體代工廠的工藝設計套件（PDK）已成為鏈接設計與制造的關鍵橋梁。Ansys Lumerical 多年來與全球多家領先半導體代工廠深度合作，為其 PDK 開發提供高精度仿真能力與驗證流程支持，助力客戶更快實現可制造、可量產的光子芯片設計。本篇將帶你快速了解 Lumerical 已合作的代工廠及其PDK生態。

CompoundTek

Foundry PDK

最新版本：V3.0

發布日期：2022年6月

工藝技術

SOISiNEpitaxial Ge

Ansys Lumerical解決方案

器件設計

使用 Ansys Lumerical process file和layer builder，在 Ansys Lumerical Multiphysics 工具中進行與代工廠兼容的自定義器件設計。在 Cadence Virtuoso 中動態地將設計版圖傳輸到Lumerical Multiphysics 工具中生成 3D 幾何體。

線路設計

使用 Lumerical INTERCONNECT 緊湊模型在 INTERCONNECT 中進行電光集成電路設計并與 Virtuoso進行電光聯合仿真。使用 Ansys Verilog-A 模型在 Virtuoso 中進行電光集成電路設計與仿真。使用蒙特卡羅分析工具，對采用 INTERCONNECT 和 Verilog-A 模型設計的電路進行基于代工廠工藝變化的良率分析。將 INTERCONNECT 中的電路原理圖轉換為 GDSFactory 中的線路版圖。

更多資源：Blog

GlobalFoundries

Foundry PDK

最新版本：45SPCLO_v1.0_4.1a

發布日期：2024年2月16日

工藝技術

SOISiN

Ansys Lumerical解決方案

器件設計

使用 Ansys Lumerical process file和layer builder，在 Ansys Lumerical Multiphysics 工具中進行與代工廠兼容的自定義器件設計。在 Cadence Virtuoso 中動態地將設計版圖傳輸到 Lumerical Multiphysics 工具中生成 3D 幾何體。使用蒙特卡羅分析工具，在 Lumerical Multiphysics 工具中基于制造工藝變化進行良率分析。

線路設計

使用代工廠 PDK 和定制的 Ansys Verilog-A 模型進行電光集成電路設計。

更多資源： Webinar, White Paper, Blog, News

Tower Semiconductor

Foundry PDK

工藝技術

PH18（180nm 硅光）TPS45PH（45nm 硅光）

Ansys Lumerical解決方案

器件設計

使用 Ansys Lumerical process file和layer builder，在 Ansys Lumerical Multiphysics 工具中進行與代工廠兼容的自定義器件設計。在 Cadence Virtuoso 中動態地將設計版圖傳輸到 Lumerical Multiphysics 工具中生成 3D 幾何體。

線路設計