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本例的目的是研究智能手機Camera系統的雜散光。雜散光是指光向相機傳感器不需要的散光光或鏡面光，是在光學設計中無意產生的，會降低相機系統的光學性能。在本例中，光學透鏡系統使用Ansys Zemax OpticStudio (ZOS)進行設計，并使用新的“Zemax Importer”工具一鍵導入鏡頭系統到Speos中進行系統級雜散光分析。

雜散光問題出現在幾乎所有的光機系統或者照明系統中。通過遮擋或者移除零件、表面涂漆或者在光學器件表面鍍膜都可以減少或者消除雜散光。在本案例中，我們將闡述雜散光的定義并且介紹怎樣利用FRED來分析和避免雜散光問題。 1. 什么是雜散光？ 簡單來說，雜散光就是系統不需要的噪音，它是由光機結構、視場外光源或者不完善的光學零件產生的，還有可能是由光學或系統自身的熱輻射引起的。

如何分析雜散光？此前，進行雜散光分析需要借助物理原型。這意味著雜散光只有在相關流程結束時才能進行測量，但此時對產品設計進行修改為時已晚。單色儀和光譜輻射儀等工具可幫助工程師了解雜散光，但代價是增加構建整個設備的時間和成本。如今，工程師依靠Ansys Optics仿真軟件對光學系統進行建模，并早在構建物理原型之前就主動解決雜散光的影響。

進行雜散光分析時，最終的目標為找出雜散光的來源并嘗試改善。而在這篇文章中，我們會繼續以同一個示例檔案進行設計，說明如何辨別雜散光的特定光線路徑，以及如何藉由鏡面鍍膜改善這些非預期的能量來源。 使用篩選字串辨別雜散光路徑 首先，我們要找出雜散光的來源并試著改善。在下方的結果圖中，我們可以看到許多非預期的反射光（鬼影）出現在像面上。

評估雜散光水平是用幾個離軸點光源。 第三階段是使用模型評價望遠鏡在不同情況下的雜散光規避特性。這些計算用來確定離軸角度對系統雜散光性能的影響，并用來提出對望遠鏡的擋板提出修改建議。考慮的改動建議包括當前設計的簡單改動，到完全重新設計擋板系統。第三階段工作的一個重要部分，是評價預備做的改動會對UWBC 的視場有出什么影響。為了做這種評價，模型評估雜散光UWBC 轉動部分兩個方向上的視場。

任何光學系統都會存在雜散光，成像系統雜散光是可見光光學系統中需要重點分析的雜散光來源之一，預期設計的光線經過折射光學元件的過程中，會有少量的非預期光線經過散射、反射也到達像面，對正常光路成像產生負面影響。因此，在設計光學系統的過程中為保證系統的正常運行，要盡可能將雜散光降低。

雜散光分析是光學和機械裝配驗證的重要步驟。本文演示了在非序列模式下使用過濾字符串功能的雜散光分析技術，以及支持特性。下載聯系工作人員獲取附件簡介 在進行雜散光分析時，光學設計工程師可能會問以下問題:從各種光學或機械表面反射產生的鬼影影響有多大?反射超過四次的光線能傳遞多少能量?隔板在限制探測器雜散光方面有多有效?

本文將說明如何進行機構元件的雜散光分析。我們可以在原始的系統中匯入CAD檔案作為OpticStudio的一個物件，并賦予它特定的光學特性。藉由路徑分析功能的協助，我們可以明確的辨識出機構元件產生的雜散光線。 在進行光學系統設計時，光學工程師可根據分析的結果對機構工程師提出系統改進的要求。本文是雜散光分析系列文章中的最后一篇。

本次培訓即將于2023年9月18日-20日再次開班，以下為本次培訓具體詳情：培訓大綱雜散光術語;輻射度學基礎;雜散光成因;雜散光影響、雜散光控制;雜散光分析和評價方法;ASAP雜散光分析流程、步驟;練習1 找關鍵和被照表面;練習2 重點區域位置和大小計算;練習3 雜散光PST計算;光學表面粗糙度、污染和微粒;

如何找出這些由非預期光線所產生的能量，并試著以外加的光學元件吸收或阻擋這些光線，將是雜散光分析中至關重要的環節。 本文是三篇雜散光分析系列文章中的第一篇，將介紹如何將序列系統轉至非序列模式中，并觀察此時系統產生的雜散光。 簡介 一般情況下，在進行機構的設計之前，我們必須先考慮雜散光的影響。

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紅外雜散光案例分析簡介在紅外成像系統的設計中，雜散光始終是制約成像質量的核心問題。紅外波段的雜散光易源于光學元件反射、機械結構漫反射及遮光設計缺陷，直接導致成像對比度下降、信噪比降低，甚至出現偽影，影響目標識別精度。

本培訓即將再次開班，以下為本次培訓的課程及詳情：01 培訓大綱雜散光術語;輻射度學基礎;雜散光成因;雜散光影響、雜散光控制;雜散光分析和評價方法;ASAP雜散光分析流程、步驟;練習1 找關鍵和被照表面;練習2 重點區域位置和大小計算;練習3 雜散光

雜散光分析是光學和機械裝配驗證的重要步驟。本文演示了在非序列模式下使用過濾字符串功能的雜散光分析技術，以及其他重要功能。簡介在進行雜散光分析時，光學設計工程師可能會問以下問題: 從各種光學或機械表面反射產生的鬼影影響有多大? 反射超過四次的光線能傳遞多少能量? 隔板在限制探測器雜散光方面有多有效?

附件下載聯系工作人員獲取附件概要雜散光分析是光學和機械裝配驗證的重要步驟。本文演示了在非序列模式下使用過濾字符串功能的雜散光分析技術，以及支持特性。簡介在進行雜散光分析時，光學設計工程師可能會問以下問題: 從各種光學或機械表面反射產生的鬼影影響有多大? 反射超過四次的光線能傳遞多少能量?

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光源波長設定為 0.55μm，此波長處于可見光波段中心位置，是光學系統性能測試的常用基準波長，能夠有效反映系統在可見光范圍內的雜散光特性。探測器設置為精準捕捉雜散光信號并降低噪聲干擾，探測器進行了特殊的光線過濾設置。具體參數為生成子光線代數等于 2，通過該設置可對入射光線進行精細化拆分與追蹤，提高雜散光檢測的靈敏度與準確性，確保分析結果的可靠性。

很明顯，探測器平面上不受歡迎的雜散光確實來自月球的“特定”區域。這些區域在下面的探測器查看器中高亮顯示。這一信息可能有助于確定哪種雜散光抑制技術可以用來減少來自月球的雜散光。

機械元件的雜散光分析簡介在光學系統設計與工程實踐中，機械元件的雜散光問題對系統性能有著不容忽視的影響。雜散光會降低光學系統的信噪比、圖像對比度，甚至導致系統功能失效。因此，準確分析機械元件雜散光并采取有效抑制措施，是保障光學系統高質量運行的關鍵環節。

庫克三片式 雜散光分析的三維追跡圖庫克三片式 雜散光分析的鬼像探測器結果圖庫克三片式 雜散光分析的探測器結果圖總結以上案例詳細呈現了 OAS 軟件在庫克三片式雜散光分析中的應用。通過不斷調整設計參數并利用 OAS 軟件進行反復模擬驗證，可逐步優化庫克三片式鏡頭的光學性能，有效抑制雜散光的影響。