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自定義 EPS 打印機（關鍵步驟） 命令行輸入PLOTTERMANAGER→ 雙擊「添加繪圖儀向導」 選擇「PostScript 設備」→ 型號選Adobe PostScript Level 3 自定義特性（關鍵參數）： 圖像：彩色 / 灰度→「黑白」（避免顏色干擾） 字體：「將 TrueType 字體下載為軟字體」→ 勾選「嵌入所有字體」 高級：PostScript

附件下載聯系工作人員獲取附件此示例顯示了設置和模擬出瞳擴展器 （EPE） 的工作流程，EPE 是波導型增強現實 （AR） 設備的重要組成部分。該工作流程將利用 Lumerical 和 Zemax OpticStudio 之間的動態鏈接功能 。為了使用動態鏈接，在Lumerical中構建了二維六邊形圓柱體和一維傾斜光柵的參數化模型。

圖 5 初始EPE系統和眼盒輻照度。 在附件中有一個OpticStudio中建立的整個EPE系統的zar文件。如圖 6所示，僅構建了第二個光柵一半的區域。這是因為系統具有對稱性。從圖 7 可以看出，探測器的參數鏡像設置為 1，這意味著在光線追跡期間，將始終對-x和+x部分進行鏡像。

? 編輯光柵參數調制功能，使其定義為可編程功能，光柵參數的預期線性調制由開始和結束位置的值定義（EPE 從左到右邊界，外耦合器從上到下）。 初始系統的生成在分別為 EPE 和耦出光柵定義調制后，可以通過 Optical Setup > New Parameter Optimization 啟動參數優化文檔。

圖 6 OpticStudio 中的 EPE 系統設置。 圖7 探測器的鏡像參數設置為 1，這意味著該探測器在 x 方向上鏡像。 可以看出， 系統中的所有光柵物體都已使用動態鏈接 DLL 進行設置，如圖 8所示。 圖 8 為 EPE 系統中的光柵加載動態鏈接 DLL。

最后，利用optiSLang對光柵模型進行整體控制，實現整個EPE系統所需的光學性能。 概述 設計具有EPE的AR系統，可以增加眼盒的尺寸，這對系統級的優化來說是一個挑戰，因為它需要大量的參數。在本文中，波導由三個在Lumerical中設計的1D傾斜光柵組成。

? 編輯光柵參數調制功能，使其定義為可編程功能，光柵參數的預期線性調制由開始和結束位置的值定義（EPE 從左到右邊界，外耦合器從上到下）。 初始系統的生成 在分別為 EPE 和耦出光柵定義調制后，可以通過 Optical Setup > New Parameter Optimization 啟動參數優化文檔。

為了分析和規劃 EPE 的光柵參數，考慮歸一化波矢 更有用，其中 是真空中同一條射線的波矢。請注意，這個歸一化波矢 n*（L，M，N） 在哈密頓光學中稱為光動量。由于矢量分量 N 總是可以用 N=sqrt（1-L^2+M^2） 從 L 和 M 計算出來，因此任何一條射線都可以完全由其歸一化波矢量 （nL， nM） 的 x 和 y 分量表示，而不會丟失任何信息，如圖 5 右側所示。

這些系統的設計工具涵蓋了器件的布局，以及耦合和EPE區域的光柵參數。 在這里，我們關注兩個與布局相關的工具:k-Layout Visualization和Layout Design，適用于具有可分離的1D-1D出瞳擴展和1D周期光柵結構的設備，如Hololens 1。觀看下面的用例，了解更多關于它們令人興奮的潛力!

這些系統的設計工具涵蓋了器件的布局，以及耦合和EPE區域的光柵參數。在這里，我們關注兩個與布局相關的工具:k-Layout Visualization和Layout Design，適用于具有可分離的1D-1D出瞳擴展和1D周期光柵結構的設備，如Hololens 1。觀看下面的用例，了解更多關于它們令人興奮的潛力!

? 編輯光柵參數調制功能，使其定義為可編程功能，光柵參數的預期線性調制由開始和結束位置的值定義（EPE 從左到右邊界，外耦合器從上到下）。初始系統的生成在分別為 EPE 和耦出光柵定義調制后，可以通過 Optical Setup > New Parameter Optimization 啟動參數優化文檔。

附件下載聯系工作人員獲取附件簡介此示例顯示了設置和模擬出瞳擴展器 （EPE） 的工作流程，EPE 是波導型增強現實 （AR） 設備的重要組成部分。該工作流程將利用 Lumerical 和 Zemax OpticStudio 之間的動態鏈接功能。為了使用動態鏈接，在Lumerical中構建了二維六邊形圓柱體和一維傾斜光柵的參數化模型。

? 編輯光柵參數調制功能，使其定義為可編程功能，光柵參數的預期線性調制由開始和結束位置的值定義（EPE 從左到右邊界，耦出合從上到下）。 初始系統的生成在分別為 EPE 和輸出耦合器定義調制后，可以通過 Optical Setup > New Parameter Optimization 啟動參數優化文檔。

? 編輯光柵參數調制功能，使其定義為可編程功能，光柵參數的預期線性調制由開始和結束位置的值定義（EPE 從左到右邊界，耦出合從上到下）。 初始系統的生成在分別為 EPE 和輸出耦合器定義調制后，可以通過 Optical Setup > New Parameter Optimization 啟動參數優化文檔。

最后，利用optiSLang通過修改光柵模型，對系統級優化進行整體控制，實現整個EPE系統所需的光學性能。 概述 設計具有EPE的AR系統，可以增加眼盒的尺寸，這對系統級的優化來說是一個挑戰，因為它需要大量的參數。

(8)工藝參數配合的影響:澆注溫度，澆注速度，真空度等工藝參數配合不當會引起皺皮。當澆注速度加快時，流股變粗，如果沒有相應提高真空度，常會出現皺皮。B．防止措施(1)采用低密度EPS或EPMMA作模樣材料;較大的鑄件或直澆道，可采用空心的模樣和直澆道以減少發氣量，模料密度0.016~0.022 gcm3為宜。

參數優化基于 OAS 的靈敏度分析與多參數聯動優化功能，以 “衍射效率最大化”“串擾最小化” 為目標，迭代調整耦入光柵周期與 EPE 折射率，自動生成優化曲線，最終確定最優參數組合。

首先是參數物理意義明確且極易獲取，相比其他復雜的力學模型，JC 模型的參數可以通過標準的高速拉伸或霍普金森壓桿（SHPB）試驗輕松測得，工程實用性極高。其次是計算效率與數值穩定性極佳，它的數學形式簡潔高效，非常適合顯式動力學子程序（如 VUMAT）進行大規模并行計算，不易發生數值發散。

OPC軟件以邊緣放置誤差（EPE）為核心評價指標，反復對比當前掩模版曝光仿真結果與目標設計圖形的EPE差異，通過不斷調整各短柵格的位置來縮小誤差，直至EPE達到預設的容差范圍，完成基礎修正。第四步是多因素綜合補償。