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2) 北方華創 PVD 優勢顯著：北方華創薄膜沉積產品線較為全面，具備 PVD、CVD、ALD 產品 供應能力，在 PVD 設備領域競爭優勢顯著，國內產線導入的國產 PVD 設備基本均出自北方華創。拓荊科技、中微公司尚不具備 PVD 產品供應能力。

磁控濺射（Magnetron Sputtering）是一種常見的物理氣相沉積 (PVD) 工藝，具有速度快、溫度低、損傷小等優點，其關鍵特點是使用一個磁場來控制并增強濺射過程。已發展成為工業鍍膜中非常重要的技術之一，其次由于具有濺射速率高，沉積速率高，沉積溫度低，薄膜質量好的等優點，越來越受到有關方面的關注。

薄膜制備工藝按照其成膜方法可分為兩大類：物理氣相沉積(PVD)和化學氣相沉積（CVD），其中CVD工藝設備占比更高。 化學氣相沉積(Chemical Vapor Deposition 簡稱CVD) 是利用氣態或蒸汽態的物質在氣相或氣固界面上發生反應生成固態沉積物的過程。

3、PVD北方華創磁控濺射技術屬于PVD（物理氣相沉積）技術的一種，是制備薄膜材料的重要方法之一。它是利用帶電荷的粒子在電場中加速后具有一定動能的特點，將離子引向被濺射的物質制成的靶電極（陰極），并將靶材原子濺射出來使其沿著一定的方向運動到襯底并在襯底上沉積成膜的方法。磁控濺射設備使得鍍膜厚度及均勻性可控，且制備的薄膜致密性好、粘結力強及純凈度高。

對于試模分析，一定要對試模后的料帶進行分析逐個工步進行分析，并且 要附上紅丹料帶。26.對于產品破裂，可以采取在前期拉伸時加包、擠料、增加片桿成型面積， 開孔等多種方式進行，在改模之前要進行CAE分析。27.

不銹鋼材料的模具成型件，不能使用TD，要使用（TICN）或稱PVD。

不銹鋼材料的模具成型件，不能使用TD，要使用（TICN）或稱PVD。