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PFC2D大尺度離散元快速成樣技術(shù)前言離散元的成樣方法有很多，比如顆粒膨脹法、分層壓實(shí)法、落雨法等。這些成樣方法都能夠很好地生成均勻的試樣，但是面臨大尺度的離散元模型試驗(yàn)?zāi)M時(shí)，巨大的顆粒數(shù)目使得個(gè)人PC的計(jì)算能力日益窘迫。

DO.007（2.2） 這個(gè)案例演示了如何設(shè)計(jì)和優(yōu)化一個(gè)二元衍射光學(xué)元件（DOE），并將其作為光束分束元件以來(lái)生成一個(gè)2D光斑陣列從而表示一個(gè)由bitmap文件定義的光圖案。

對(duì)于IPS、FFS等結(jié)構(gòu)來(lái)說(shuō)，其像素電極和公共電極在同一平面，因此不能用TechWiz LCD 1D軟件來(lái)仿真，需要至少能進(jìn)行2維模擬的軟件，本案例使用TechWiz LCD 2D來(lái)模擬一下單疇I(yíng)PS結(jié)構(gòu)。1. 建模任務(wù)1.1 模擬條件模擬區(qū)域：0~10um邊界條件：Periodic偏移角度：0°單位長(zhǎng)度：0.5um1.2堆棧結(jié)構(gòu)2.

在LC透鏡結(jié)構(gòu)中，可以通過(guò)TechWiz LCD 2D進(jìn)行光程差和焦距的計(jì)算，以及包括施加電壓的LC導(dǎo)向分布在內(nèi)的高級(jí)LC分析。2. 建模流程1. 增加了生成2D透鏡(Lens)結(jié)構(gòu)的功能。1） 添加掩膜:2） 生成透鏡掩膜結(jié)構(gòu)（Taper Model：Lens）3） 設(shè)置“透鏡厚度”、“曲率半徑”和“分層數(shù)”半徑: 輸入鏡頭的曲率半徑。

圖1 計(jì)算模型2、侵徹孔道三種方法的侵徹動(dòng)畫如圖2所示，對(duì)比侵徹動(dòng)畫發(fā)現(xiàn)三種方法所形成的侵徹孔道均有一定差異，采用全模型計(jì)算結(jié)束后鋼靶的米塞斯應(yīng)力云圖見(jiàn)圖3。圖2 三種計(jì)算方法的侵徹動(dòng)畫圖3侵徹過(guò)程中鋼靶的應(yīng)力云圖3、射流速度聚能射流part的速度變化曲線如圖4，可以看出2D和3D兩種方法速度曲線基本一致，然而采用3D單層所形成的射流速度較2D和3D更大。

在LC透鏡結(jié)構(gòu)中，可以通過(guò)TechWiz Ray 2D進(jìn)行光程差和焦距的計(jì)算，并進(jìn)行高級(jí)LC分析，包括LC指向矢隨外加電壓的分布。1. 建模任務(wù)1.1 模擬條件模擬區(qū)域：0~200邊界條件：Periodic偏移角度：0°單位長(zhǎng)度：0.51.2堆棧結(jié)構(gòu)2. 建模過(guò)程2.1創(chuàng)建堆棧結(jié)構(gòu)2.2修改各層參數(shù)和創(chuàng)建掩膜3.

我們可以在TechWiz LCD 2D軟件中調(diào)整電極的寬度，錐度，厚度和位置。 1. 案例結(jié)構(gòu) 2.

構(gòu)建0D/2D異質(zhì)結(jié)構(gòu)偏振發(fā)光材料的關(guān)鍵，不僅在于用不同尺寸的材料有效地錨定組件，還在于確保它們的光學(xué)特性能夠無(wú)縫協(xié)調(diào)。為了避免2D材料對(duì)0D發(fā)光材料激發(fā)和發(fā)射光之間的潛在吸收猝滅，研究團(tuán)隊(duì)采用了具有寬帶隙和高場(chǎng)靈敏度的鈷摻雜二氧化鈦（CTO）作為基礎(chǔ)色散元件。通過(guò)化學(xué)吸附誘導(dǎo)Ti-O-C鍵的形成，該團(tuán)隊(duì)成功合成了CDs/CTO異質(zhì)結(jié)的膠體溶液。

工采網(wǎng)代理的MS6212D是一款雙向電平轉(zhuǎn)換器，可以用作混合電壓的數(shù)字信號(hào)系統(tǒng)中。其使用兩個(gè)獨(dú)立構(gòu)架的電源供電，A端供電電壓范圍是1.65V到5.5V，B端供電電壓范圍是2.3V到5.5V。可用在電源電壓為1.8V、2.5V、3.3V和5V的邏輯信號(hào)轉(zhuǎn)換系統(tǒng)中。當(dāng)OE端為低電平時(shí)，所有IO端口為高阻態(tài)，這顯著降低了靜態(tài)功耗。當(dāng)VCCA上電后，OE端內(nèi)部集成了下拉電流源。

DO.007（2.2） 這個(gè)案例演示了如何設(shè)計(jì)和優(yōu)化一個(gè)二元衍射光學(xué)元件（DOE），并將其作為光束分束元件以來(lái)生成一個(gè)2D光斑陣列從而表示一個(gè)由bitmap文件定義的光圖案。

2D3D單層 3D圖2 三種計(jì)算方法的侵徹動(dòng)畫圖3侵徹過(guò)程中鋼靶的應(yīng)力云圖3、射流速度聚能射流part的速度變化曲線如圖4，可以看出2D和3D兩種方法速度曲線基本一致，然而采用3D單層所形成的射流速度較2D和3D更大。

Zone-B為本次研究的主要分析區(qū)域，其顆粒尺寸為0.05-0.2 m，為了減少計(jì)算量，Zone-A和Zone-C的顆粒尺寸為0.1-0.25m。滑帶位置的厚度為0.5m，顆粒尺寸為0.05-0.2 m。其顆粒和接觸參數(shù)見(jiàn)表5-1與5-2。在墻體內(nèi)生成顆粒后，使用切片工具進(jìn)行刪除，將模型切割為坡面30°的概化模型。本次試驗(yàn)構(gòu)建的PFC-FLAC模型共有469166個(gè)顆粒。

插件簡(jiǎn)介 CAD顆粒密堆積2D插件可用于生成二維狀態(tài)下重力堆積的隨機(jī)顆粒。插件可指定投放區(qū)域、顆粒的粒徑范圍、顆粒間的間距、顆粒個(gè)數(shù)等信息，同時(shí)可模擬顆粒彈性及摩擦摩擦系數(shù)。 插件采用物理引擎對(duì)顆粒行為進(jìn)行模擬，可實(shí)現(xiàn)顆粒在力場(chǎng)作用下的堆積、以及顆粒間的碰撞等。

1.建模任務(wù) 2.照明光束參數(shù)?波長(zhǎng)：532nm?激光光束直徑（1/e2）：500um 3.期望輸出場(chǎng)參數(shù)?位圖文件：DO.003_Diffuser_for_2D_Light_Mark_01.BMP?圖樣直徑：40mm X 40mm?效率：>60%?雜散光：≤10%?分辨率：200um

早在今年五月，北鯤云超算平臺(tái)邀請(qǐng)了平臺(tái)用戶——溫老師為大家做直播分享，分享主題為Maxwell 2D渦流場(chǎng)分析要點(diǎn)和心得。完整的回放可以在北鯤云官網(wǎng)或b站賬號(hào)中看到。溫老師曾發(fā)布《maxwelll電磁分析基礎(chǔ)系列和實(shí)戰(zhàn)系列》教程，被贊為“最容易學(xué)會(huì)的電磁教程”。

應(yīng)變?cè)隽縟ε由彈性增量dεe和塑性增量dεp組成，因此： 根據(jù)胡克定律得到彈性應(yīng)力增量如下： 式中D是彈性本構(gòu)矩陣。