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ZEMAX軟件技術應用專題:利用Kogelnik方法
模
擬
體積全像光柵的繞射效率
這篇Blog介紹了 OpticStudio 中的原生體積全像
模
擬
功能,該功能可以在考慮其物理特性的情況下,在序列模式下
對
全像光柵進行全面
模
擬
和分析。在非序列模式下也透過使用 DLL 展示了相同的功能。這些分析
對
於設計用於虛
擬
實
境 (VR) 和增強
實
境 (AR) 的抬頭顯示器 (HUD) 和頭戴型顯示器 (HMD) 等系統非常重要。我們將介紹模型中使用的理論和參數。
2123
w**elab86_Swsp
??? 3年前
帖子
ZEMAX軟件技術應用專題:如何在OpticStudio中設計DOE透鏡或超穎透鏡
但是,
對
於包含 DOE 或超穎透鏡的系統進行
模
擬
和設計總是很棘手的。沒有通用的方法可以處理所有情況。設計人員需要根據具體情況決定其系統的策略。許多設計過程需要兩種不同的光學理論/算法來分別處理光束在自由空間和微結構中的傳播,而其他一些過程僅使用純光線追跡來達到目
標
。由於
模
擬
技術發展迅速,因此本文可能沒有涵蓋所有可用方法。
2188
w**elab86_Swsp
??? 3年前
帖子
Ansys Zemax光學設計軟件技術教程:眼科鏡片設計
但人眼系統具有相
對
較小的光瞳尺寸,因此在此類系統的設計上,一般會認為球差和彗差並不十分重要。同理,其餘的像差在此也可先行忽略。隨著自由曲面製程技術的演進,光學設計者得以摒除許多以往的限制條件。同時,OpticStudio具有優越的運算能力,可以進行規
模
較大的系統和更多影像參數的
模
擬
。得益於此,眼科鏡片的設計可以有更進一步的改善,我們將在以下的文章中詳述。
2212
w**elab86_Swsp
??? 3年前
帖子
Zemax光學設計技術教程:如何使用Jones Matrix表面
在
模
擬
的過程中,會將入射光因為元件表面鍍膜、反射和吸收而造成的能量損耗納入考量。一般的情況下,OpticStudio可以
對
大多數的鍍膜或雙折射材料進行完整的分析。但有時因為分類數據報告(Prescription data)不夠齊全,在進行
模
擬
時會需要簡化後的模型。舉例而言,當我們無法得到真
實
的鍍膜資訊時,OpticStudio中的理想(IDEAL)和表定(TABLE)鍍膜設定就可以派上用場。
2425
w**elab86_Swsp
??? 3年前
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