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ZEMAX軟件技術應用專題:在 OpticStudio 中
模
擬
高階雷射光束
但是,在此限制下,使用 Laguerre-Gaussian DLL 在 OpticStudio 中對這些
模
態進行建模在計算上更有效。隨著 e 接近 ∞,當由 Ince-Gaussian DLL 計算的特徵值解
發
散時,就會到達一個點。這種
發
散行為是計算算法的限制。當達到
發
散點時,Ince-Gaussian DLL 產生的結果變得不準確。
2058
w**elab86_Swsp
??? 3年前
帖子
Zemax光學設計技術教程:如何使用Jones Matrix表面
在
模
擬
的過程中,會將入射光因為元件表面鍍膜、反射和吸收而造成的能量損耗納入考量。一般的情況下,OpticStudio可以對大多數的鍍膜或雙折射材料進行完整的分析。但有時因為分類數據報告(Prescription data)不夠齊全,在進行
模
擬
時會需要簡化後的模型。舉例而言,當我們無法得到真實的鍍膜資訊時,OpticStudio中的理想(IDEAL)和表定(TABLE)鍍膜設定就可以派上用場。
2425
w**elab86_Swsp
??? 3年前
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