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帖子 ZEMAX軟件技術(shù)應(yīng)用專題:在 OpticStudio 中高階雷射光束
但是,在此限制下,使用 Laguerre-Gaussian DLL 在 OpticStudio 中對這些態(tài)進行建模在計算上更有效。隨著 e 接近 ∞,當由 Ince-Gaussian DLL 計算的特徵值解發(fā)散時,就會到達一個點。這種發(fā)散行為是計算算法的限制。當達到發(fā)散點時,Ince-Gaussian DLL 產(chǎn)的結(jié)果變得不準確。
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w**elab86_Swsp ??? 3年前
ZEMAX軟件技術(shù)應(yīng)用專題:在 OpticStudio 中模擬高階雷射光束
帖子 Ansys Zemax光學(xué)設(shè)計軟件技術(shù)教程:眼科鏡片設(shè)計
同時,OpticStudio具有優(yōu)越的運算能力,可以進行規(guī)較大的系統(tǒng)和更多影像參數(shù)的。得益於此,眼科鏡片的設(shè)計可以有更進一步的改善,我們將在以下的文章中詳述。傳統(tǒng)設(shè)計方式對於人眼而言,存在一個虛的“遠點”,這個點代表了我們可以清楚看到物體的極限距離。在這個點之外的景物,將會成像於視網(wǎng)膜前方。當眼球轉(zhuǎn)動時遠點的距離不會改變,因此會以這個距離為半徑形成一個“遠點球”。
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w**elab86_Swsp ??? 3年前
Ansys Zemax光學(xué)設(shè)計軟件技術(shù)教程:眼科鏡片設(shè)計
帖子 Zemax光學(xué)設(shè)計技術(shù)教程:如何使用Jones Matrix表面
的過程中,會將入射光因為元件表面鍍膜、反射和吸收而造成的能量損耗納入考量。一般的情況下,OpticStudio可以對大多數(shù)的鍍膜或雙折射材料進行完整的分析。但有時因為分類數(shù)據(jù)報告(Prescription data)不夠齊全,在進行時會需要簡化後的模型。舉例而言,當我們無法得到真實的鍍膜資訊時,OpticStudio中的理想(IDEAL)和表定(TABLE)鍍膜設(shè)定就可以派上用場。
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w**elab86_Swsp ??? 3年前
Zemax光學(xué)設(shè)計技術(shù)教程:如何使用Jones Matrix表面
帖子 ZEMAX軟件技術(shù)應(yīng)用專題:利用Kogelnik方法體積全像光柵的繞射效率
如果厚度從t到t'發(fā)變化,則可以透過修改K∥計算出新的光柵向量,如方程式(4)。圖 4. 當全像材料收縮時,厚度從t 減少到 t'。我們現(xiàn)在已經(jīng)介紹了體積全像圖模型的基礎(chǔ)知識。要了解有關(guān)如何在 OpticStudio 中應(yīng)用該理論、如何設(shè)置序列和非序列系統(tǒng)以及下載範例系統(tǒng)的更多信息,您可以在此處取得本知識庫文章的全部內(nèi)容。
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w**elab86_Swsp ??? 3年前
ZEMAX軟件技術(shù)應(yīng)用專題:利用Kogelnik方法模擬體積全像光柵的繞射效率
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