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ZEMAX軟件技術應用專題:在 OpticStudio 中
模
擬
高階雷射光束
但是,在此限制下,使用 Laguerre-Gaussian DLL 在 OpticStudio 中對這些
模
態進行建模在計算上更有效。隨著 e 接近 ∞,當由 Ince-Gaussian DLL 計算的特徵值解
發
散時,就會到達一個點。這種
發
散行為是計算算法的限制。當達到
發
散點時,Ince-Gaussian DLL 產
生
的結果變得不準確。
2057
w**elab86_Swsp
??? 3年前
帖子
Ansys Zemax光學設計軟件技術教程:眼科鏡片設計
同時,OpticStudio具有優越的運算能力,可以進行規
模
較大的系統和更多影像參數的
模
擬
。得益於此,眼科鏡片的設計可以有更進一步的改善,我們將在以下的文章中詳述。傳統設計方式對於人眼而言,存在一個虛
擬
的“遠點”,這個點代表了我們可以清楚看到物體的極限距離。在這個點之外的景物,將會成像於視網膜前方。當眼球
轉
動時遠點的距離不會改變,因此會以這個距離為半徑形成一個“遠點球”。
2212
w**elab86_Swsp
??? 3年前
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Zemax光學設計技術教程:如何使用Jones Matrix表面
在
模
擬
的過程中,會將入射光因為元件表面鍍膜、反射和吸收而造成的能量損耗納入考量。一般的情況下,OpticStudio可以對大多數的鍍膜或雙折射材料進行完整的分析。但有時因為分類數據報告(Prescription data)不夠齊全,在進行
模
擬
時會需要簡化後的模型。舉例而言,當我們無法得到真實的鍍膜資訊時,OpticStudio中的理想(IDEAL)和表定(TABLE)鍍膜設定就可以派上用場。
2425
w**elab86_Swsp
??? 3年前
帖子
ZEMAX軟件技術應用專題:利用Kogelnik方法
模
擬
體積全像光柵的繞射效率
如果厚度從t到t'
發
生
變化,則可以透過修改K∥計算出新的光柵向量,如方程式(4)。圖 4. 當全像材料收縮時,厚度從t 減少到 t'。我們現在已經介紹了體積全像圖模型的基礎知識。要了解有關如何在 OpticStudio 中應用該理論、如何設置序列和非序列系統以及下載範例系統的更多信息,您可以在此處取得本知識庫文章的全部內容。
2122
w**elab86_Swsp
??? 3年前
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