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ZEMAX軟件技術應用專題:利用Kogelnik方法模擬體積全像光柵的
繞
射效率
然後,光柵向量可由下式定義:顯影後,當全像被重建平面波kp照亮時,
繞
射波kd,可透過解方程式確定:其中kp和kd是重建波向量和全像感光材料內部的
繞
射波前(圖2(b))。注意光柵向量K可以從兩個反向
方向
選擇。方程式(2)的符號約定,假設K的
方向
選擇滿足K.kp>0。 圖 2.
2123
w**elab86_Swsp
??? 3年前
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ZEMAX軟件技術應用專題:如何在OpticStudio中設計DOE透鏡或超穎透鏡
垂直入射到DOE上的光線不會改變其
方向
,因為表面沒有傾斜。但是,垂直入射的光束可以用適當設計的菲涅耳波帶片聚焦。此效果應由OpticStudio中的POP處理。如圖3所示,在該系統中,準直光束入射在玻璃板上。在玻璃板的背面,已使用菲涅耳波帶片表面類型創建了同心二元結構。在布局圖視窗中,您可以看到光線沒有改變其傳播
方向
,並且光束保持準直,從物件到成像表面傳播。
2189
w**elab86_Swsp
??? 3年前
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ZEMAX軟件技術應用專題:基於 Alvarez自由曲面透鏡的光學變焦
我們在一個光學系統中有幾
組
透鏡元件,它們沿著光軸沿著預定義的軌跡移動,從而提供了光學系統最終焦距(變焦係數)的變化。在 Alvarez變焦鏡頭的情況下,我們有一對所謂的Alvarez鏡頭,這些鏡頭元件相互之間的橫向位移提供了光學系統焦距的變化。傳統變焦鏡頭與 Alvarez變焦鏡頭的主要區別在於,傳統系統鏡頭沿光軸運動,而Alvarez系統鏡頭則沿垂直於光軸的
方向
運動。
2220
w**elab86_Swsp
??? 3年前
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ZEMAX軟件技術應用專題:如何為光學相干斷層掃描系統建模
透過以x或y
方向
旋轉掃描鏡來執行橫向,橫向或b掃描,從而在整個樣品區域上平移探測光束。我們從商用OCT系統中獲取目標規格。 軸向分辨率完全來自光源特性,應在5μm的數量級上。 來自樣品處光束半徑的橫向分辨率應為15μm。800 nm範圍內的光將用於避免
組
織中的高吸收,這會限制穿透。光源規格OCT將干涉測量技術與寬帶近紅外光結合使用。
2223
w**elab86_Swsp
??? 3年前
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ZEMAX軟件技術應用專題:在 OpticStudio 中模擬高階雷射光束
可以使用 OpticStudio 安裝提供的“Laguerre beam”DLL 在 OpticStudio 中對此類模式進行建模:該模型的輸入是光束在徑向 (n) 和方位角 (l)
方向
上的順序、束腰 (wo) 和模式旋轉角 (phi0)。
2058
w**elab86_Swsp
??? 3年前
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