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ZEMAX軟件技術應用專題:如何為光學相干斷層
掃
描
系統建模
深度
掃
描
也稱為軸向
掃
描
或A
掃
描
,它根據反射到樣品中的距離來測量反射光的強度。 儘管它在OCT系統的類型之
間
有所不同,但深度
掃
描
通常由參考鏡執行,以使樣品返回的光對應於樣品和參考之
間
的特定光程差(OPD)。 透過以x或y方向旋轉
掃
描
鏡來執行橫向,橫向或b
掃
描
,從而在整個樣品
區
域上平移探測光束。我們從商用OCT系統中獲取目標規
格
。 軸向分辨率完全來自光源特性,應在5μm的數量級上。
2223
w**elab86_Swsp
??? 3年前
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ZEMAX軟件技術應用專題:如何在OpticStudio中設計DOE透鏡或超穎透鏡
注意,採用這種結構,透鏡的最大允許直徑可能嚴
格
取決於入射光束的相干程度和透鏡焦距。本文將不討論設計帶
區
透鏡的原理。Figure 3 菲涅耳波帶片系統佈局圖但是,如果現在使用POP分析建模相同的情況,則將觀察到光束開始聚焦在成像表面上,如圖4所示。在這裡,我們從束腰尺寸為2.6 mm的高斯光束開始並將光束聚焦下降到束腰約0.4毫米的斑點。
2189
w**elab86_Swsp
??? 3年前
帖子
ZEMAX軟件技術應用專題:基於 Alvarez自由曲面透鏡的光學變焦
沒有過度失真的可變焦距鏡頭被廣泛認為是非常理想和廣泛適用的,但儘管現有技術工作人員
失
敗
了,Alvarez還是設法提出了可變焦距鏡頭和系統。他的專利 (US3507565A 21.04.1970) 早已過期,但 DynaOptics 繼續使用我們的自由曲面透鏡技術。什麼是Alvarez 變焦鏡頭人們可能知道傳統變焦鏡頭的工作原理。
2220
w**elab86_Swsp
??? 3年前
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