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因此很明顯的，對於一個(gè)已知屈光率的鏡片，在不參考任何配戴者或使用環(huán)境等相關(guān)條件的情況下，我們無法製造出擁有最佳成像品質(zhì)的光學(xué)設(shè)計(jì)。站在眼鏡設(shè)計(jì)者以及製造商的立場，較為關(guān)注的問題會是能否使基本曲線設(shè)計(jì)近可能符合商業(yè)的需求 (例如美觀和成本) ，同時(shí)盡可能的考慮所有設(shè)計(jì)參數(shù)。當(dāng)然，成像品質(zhì)的改善和使用者視力的維護(hù)也必然是設(shè)計(jì)時(shí)不容忽視的考量。

這篇解釋了 Alvarez 變焦鏡頭的主要原理，並包括在 Zemax OpticStudio 中對 Alvarez 變焦鏡頭計(jì)算和建模的演示。Luis Walter Alvarez（生於1911 年 6 月 13 日 – 卒於1988 年 9 月 1 日）是美國實(shí)驗(yàn)物理學(xué)家、發(fā)明家和教授。他還是 1968 年諾貝爾物理學(xué)獎(jiǎng)獲得者。

一個(gè)參考用的經(jīng)驗(yàn)法則是，對於反射全像，n1/n之比不應(yīng)大於0.16，對於透射全像，n1/n之比不應(yīng)大於0.06。[2] 厚度: 假設(shè)全像是厚的。經(jīng)驗(yàn)上，我們是確保以下條件來保證耦合波理論仍然適用: 多階繞射: 這與厚度的限制相同。對於厚的全像，輸入光線的能量將只轉(zhuǎn)移到直接穿透的0階波或繞射的+1階波上。

像圖像模擬或相對照明這樣的分析是不可能的。Figure 2 工作流程的增強(qiáng)版本，如圖1所示。在製造之前，設(shè)計(jì)人員可以使用POP和FDTD來檢查最終的PSF。

CPS電源仿真的另一內(nèi)容則是電源的瞬態(tài)分析，因?yàn)镃PM提供工作時(shí)的變化電流曲線，所以在電路工具中通過瞬態(tài)分析可以直接得到芯片工作時(shí)電源管腳上的瞬態(tài)噪聲，使得仿真結(jié)果更加易于設(shè)計(jì)評估。 CPM的全稱是Chip Power Model，由Ansys的半導(dǎo)體旗艦產(chǎn)品RedHawk提取。