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10.2 基于一維光子晶體納米孔陣列的多波段全硅TM-pass起偏器10.3 基于多模干涉的薄膜鈮酸鋰偏振旋轉分束器 11.案例實操11.1 基于亞微米諧振器的超大自由光譜范圍的分插光學濾波器11.2 利用逆向設計算法優化基于絕熱耦合器的超緊湊硅基模分（解）復用器11.3 用于超寬帶高消光比偏振分束器的硅基多模反對稱切趾布拉格光柵 12.

圖1（a）所示的SRG，可以通過幾種方法製造，如電子束寫入，光刻，納米壓印，或鑽石車削。與VHG不同，SRG沒有空間變化的折射率。相反，光柵的表面是由周期性的微結構組成的。為了對SRG進行建模，需要採用類似傅里葉模態法（也叫RCWA）的算法。本文將介紹VHG的工具。

它定義了進入光學系統的光線束。由于在STOP前面沒有光學裝置，入口瞳孔就是STOP本身。eyebox規格可直接設置到STOP面。 在STOP表面上放置一個矩形孔來描述eyebox。場點表示虛像。STOP表面和擋風玻璃之間的距離推出了眼睛的位置。擋風玻璃在這里被定義為一個擴展多項式曲面。這鏡子就設置在它們的最終位置。

圖1.球形的軟焊料合金從焊球存儲槽轉移到噴絲毛細孔，直到它們熔化并噴射到需要連接的部件為止。焊接裝置安裝在能夠以6個自由度焊接部件的機械臂上[2]。

激光束以一定角度照亮圖像傳感器。我們測量耗盡區域吸收的功率分數與入射角的函數關系。每個角度都需要進行兩次仿真（TE 和 TM），以獲得偏振光和非偏振光的效率。 圖1 實驗裝置示意圖仿真設置CMOS_angle2D.fsp的屏幕截圖如下所示。從上到下，主要 Components是微透鏡陣列、紅/綠濾光片、金屬布線和過孔、抗反射 （AR） 涂層和硅襯底。

EBE：電子束蒸發，EBL：電子束光刻，ICP：感應耦合等離子體。彩色 SEM 圖像顯示等離子體 e) TFLN MZM，f) 相移器，以及 g為驗證該方案，我們自主制備了等離子體TFLN MZM（圖1d）。在180納米寬的等離子體槽上方進行傳統單步剝離工藝時，會導致金屬同時沉積在窄光刻膠的兩側壁上，在剝離過程中無法完全去除。