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帖子 ZEMAX軟件技術應用專題:在 OpticStudio 模擬高階雷射光束
存在依賴於給定係統性的其他正交解集。1 它們可用於高階光束模式進行建模。在這篇Blog,我們描述了 OpticStudio 可用於表徵高階雷射光束的模型。定義後,此類光束可以在 OpticStudio 使用物理光學傳播設計的任何光學系統傳播。
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w**elab86_Swsp ??? 3年前
ZEMAX軟件技術應用專題:在 OpticStudio 中模擬高階雷射光束
帖子 ZEMAX軟件技術應用專題:基於 Alvarez自由曲面透鏡的光學變焦
由於此功能,Alvarez 變焦在智慧型手機等纖薄應用非常有用。圖1. 傳統光學變焦鏡頭(左)和Alvarez變焦鏡頭(右)Alvarez 鏡組如何運行 要首先了解 Alvarez 縮放的工作原理,我們應該看看 Alvarez 鏡組。每個 Alvarez 透鏡都是一個自由曲面光學元件,只有一個平面。 Fig 3.
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w**elab86_Swsp ??? 3年前
ZEMAX軟件技術應用專題:基於 Alvarez自由曲面透鏡的光學變焦
帖子 ZEMAX軟件技術應用專題:在薄膜計算Ray以及Field系數是什麼?
於光線追跡,光學相位的超前或延遲都是沿著光線觀察的。Zemax OpticStudio直接追跡光線到基板的位置,忽略間的膜層及其厚度。膜層被假設鍍在基板表面之前。正確計算光線的相位需要把電場逆向傳播到薄膜起始的位置,並且修正薄膜的相位計算方式為沿著光線方向,而不是表面法向量方向。Zemax OpticStudio把這些之為 “ray” 係數。
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w**elab86_Swsp ??? 3年前
ZEMAX軟件技術應用專題:在薄膜計算中Ray以及Field系數是什麼?
帖子 Ansys Zemax光學設計軟件技術教程:眼科鏡片設計
我們可以輸入鏡片後表面頂點處的屈光率作為此表面的一組解,此時系統便只剩鏡片前表面的曲率半徑(或為基本曲線)這個唯一變數。下圖我們可以看到前述的-3.00D範例的LDE設定 (此時後表面頂點的屈光率是-0.003mm^-1)。材質CR-39是由附件的OPHTALMIC.agf玻璃庫取得的,與MISC玻璃庫的CR39有些不同,更多資訊請看下方的玻璃庫說明。
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w**elab86_Swsp ??? 3年前
Ansys Zemax光學設計軟件技術教程:眼科鏡片設計
帖子 ZEMAX軟件技術應用專題:如何為光學相干斷層掃描系統建模
深度掃描也為軸向掃描或A掃描,它根據反射到樣品的距離來測量反射光的強度。 儘管它在OCT系統的類型之間有所不同,但深度掃描通常由參考鏡執行,以使樣品返回的光應於樣品和參考之間的特定光程差(OPD)。 透過以x或y方向旋轉掃描鏡來執行橫向,橫向或b掃描,從而在整個樣品區域上平移探測光束。我們從商用OCT系統獲取目標規格。 軸向分辨率完全來自光源特性,應在5μm的數量級上。
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w**elab86_Swsp ??? 3年前
ZEMAX軟件技術應用專題:如何為光學相干斷層掃描系統建模
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