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Ansys Zemax光學設計軟件技術教程:眼科鏡片
設計
透鏡
參
數
在光學
設計
上常使用的最小
化
Seidel斜向像散的方法可透過在OpticStudio的評價函
數
中加入ASTI操作
數
達成目的,此時我們將目標值設為0、加大權重,並且使用單一波長。在縮小遠點球面上最小模糊圈的方面,我們可以透過OpticStudio的預設優
化
函
數
和光點半徑標準等功能達成目的。
2212
w**elab86_Swsp
??? 3年前
帖子
ZEMAX軟件技術應用專題:如何在OpticStudio中
設計
DOE透鏡或超穎透鏡
如
參
考文獻[4]中所述,需要一個巨集來掃描不同Z位置的PSF並創建圖。1.4
參
數
化
DOE 矢高-> POP像上述方法一樣,可以透過在OpticStudio中對二進制矢高
建模
來模擬菲涅耳波帶片。但是,對於這種類型的DOE,光線追跡引擎將無法正常工作。垂直入射到DOE上的光線不會改變其方向,因為表面沒有傾斜。但是,垂直入射的光束可以用適當
設計
的菲涅耳波帶片聚焦。
2188
w**elab86_Swsp
??? 3年前
帖子
ZEMAX軟件技術應用專題:在 OpticStudio 中模擬高階雷射光束
“Gaussian Waist”光束定義的輸入
參
數
的進一步描述可以在標題為“關於物理光學傳播”的Help系統部分中找到。Laguerre-Gaussian 模態對於圓柱對稱的雷射腔
設計
,即具有圓形增益孔徑,Laguerre-Gaussian模態提供了對近軸波動方程的適當解。這些模式的電場分佈可以寫成Laguerre polynomials。
2057
w**elab86_Swsp
??? 3年前
帖子
ZEMAX軟件技術應用專題:用於
數
位元投影光學中均勻照明的陣列透鏡 (蒼蠅眼)
這篇文章討論了複眼空間光學積分器在
數
位投影機中的使用,以及如何在 OpticStudio 中對此類元素進行
建模
。在
數
位投影器
設計
中,我們希望確保
數
位光源在輻照度分佈方面與投影圖像相匹配。因此,這種限制要求投影器
設計
包含均勻照明的空間光調製器 - 通常採用 LCD 面板的形式。理論上,這聽起來很容易,但這種面板上的源光束通常是高斯的(即不均勻)。
2001
w**elab86_Swsp
??? 3年前
帖子
ZEMAX軟件技術應用專題:利用Kogelnik方法模擬體積全像光柵的繞射效率
這些分析對於
設計
用於虛擬實境 (VR) 和增強實境 (AR) 的抬頭顯示器 (HUD) 和頭戴型顯示器 (HMD) 等系統非常重要。我們將介紹模型中使用的理論和
參
數
。序列模式的體積全像在OpticStudio的所有版本上都可以使用,但是繞射效率分析只有訂閱制才能使用。DLL是訂閱制旗艦版本的功能。
2122
w**elab86_Swsp
??? 3年前
帖子
ZEMAX軟件技術應用專題:如何為光學相干斷層掃描系統
建模
儘管它在OCT系統的類型之間有所不同,但深度掃描通常由
參
考鏡執行,以使樣品返回的光對應於樣品和
參
考之間的特定光程差(OPD)。 透過以x或y方向旋轉掃描鏡來執行橫向,橫向或b掃描,從而在整個樣品區域上平移探測光束。我們從商用OCT系統中獲取目標規格。 軸向分辨率完全來自光源特性,應在5μm的
數
量級上。 來自樣品處光束半徑的橫向分辨率應為15μm。
2221
w**elab86_Swsp
??? 3年前
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