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一般的情況下，OpticStudio可以對大多數(shù)的鍍膜或雙折射材料進行完整的分析。但有時因為分類數(shù)據(jù)報告(Prescription data)不夠齊全，在進行模擬時會需要簡化後的模型。舉例而言，當我們無法得到真實的鍍膜資訊時，OpticStudio中的理想(IDEAL)和表定(TABLE)鍍膜設定就可以派上用場。相似的，Jones Matrix可以在缺乏實際模型的情況下，用來表示偏振元件。

任何嘗試控制畸變的設計都將產(chǎn)生十分陡峭的基本曲線。因此很明顯的，對於一個已知屈光率的鏡片，在不參考任何配戴者或使用環(huán)境等相關條件的情況下，我們無法製造出擁有最佳成像品質(zhì)的光學設計。站在眼鏡設計者以及製造商的立場，較為關注的問題會是能否使基本曲線設計近可能符合商業(yè)的需求 (例如美觀和成本) ，同時盡可能的考慮所有設計參數(shù)。當然，成像品質(zhì)的改善和使用者視力的維護也必然是設計時不容忽視的考量。

這種方法的缺點是設計人員可能無法檢查整個系統(tǒng)的性能。例如，沒有辦法考慮所有繞射階數(shù)來檢查點擴展函數(shù)（PSF）。類似地，儘管可以追蹤“非有效”的順序光線，但沒有計算出繞射效率，因此沒有辦法知道雜散光路中的功率比。

這個庫是免費提供的，可以從 http://www.netlib.org/clapack/.4 下載From the beam waist and semi focal separation, a dimensionless ellipticity parameter may be calculated:根據(jù)束腰和半焦距，可以計算出無因次橢圓率參數(shù)：如 Bandres 和 Gutiérrez-Vega

Chong 先生指出：「由於憑傳統(tǒng)經(jīng)驗和直覺的設計方式已經(jīng)無法完全掌握日新月異的產(chǎn)品，因此以嚴謹?shù)?CAE 分析計算來決定模具設計品質(zhì)已成為該公司的絕佳競爭力和業(yè)務著力點，模流分析結(jié)果更是有效說服客戶修改設計的優(yōu)質(zhì)工具。」

換句話說，n1/n << 1，這在大多數(shù)實際情況下是正確的。一個參考用的經(jīng)驗法則是，對於反射全像，n1/n之比不應大於0.16，對於透射全像，n1/n之比不應大於0.06。[2] 厚度: 假設全像是厚的。經(jīng)驗上，我們是確保以下條件來保證耦合波理論仍然適用: 多階繞射: 這與厚度的限制相同。對於厚的全像，輸入光線的能量將只轉(zhuǎn)移到直接穿透的0階波或繞射的+1階波上。