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此外，當(dāng)前OpticStudio不支援在例如Y-Z平面上顯示橫截面PSF。如參考文獻(xiàn)[4]中所述，需要一個巨集來掃描不同Z位置的PSF並創(chuàng)建圖。1.4 參數(shù)化 DOE 矢高-> POP像上述方法一樣，可以透過在OpticStudio中對二進(jìn)制矢高建模來模擬菲涅耳波帶片。但是，對於這種類型的DOE，光線追跡引擎將無法正常工作。垂直入射到DOE上的光線不會改變其方向，因?yàn)楸砻?em>沒有傾斜。

探測器檢視器(Detector Viewer)可以顯示探測器上輻射特性的測量結(jié)果，但它不顯示從雷射雷達(dá)光源返回到雷射雷達(dá)探測器的光線經(jīng)過的距離。這就是ZOS-API派上用場的時候！自訂分析可以顯示探測器到物體的距離資料，從而反映飛行時間的資訊。使用光線資料庫檢視器讀取ZRD檔光線的路徑長度可以在ZRD檔中讀取，這些檔是光線資料庫檔。

圖 3 很好地證明了這種轉(zhuǎn)變Bandres 和 Gutiérrez-Vega 的論文：2作者直接提供的另一個圖也顯示了這種轉(zhuǎn)變（對於 p = 4）：2當(dāng) e 接近 0 時，Ince-Gaussian DLL 準(zhǔn)確地再現(xiàn)了 Laguerre-Gaussian 模態(tài)的結(jié)果。

透鏡參數(shù)在光學(xué)設(shè)計(jì)上常使用的最小化Seidel斜向像散的方法可透過在OpticStudio的評價函數(shù)中加入ASTI操作數(shù)達(dá)成目的，此時我們將目標(biāo)值設(shè)為0、加大權(quán)重，並且使用單一波長。在縮小遠(yuǎn)點(diǎn)球面上最小模糊圈的方面，我們可以透過OpticStudio的預(yù)設(shè)優(yōu)化函數(shù)和光點(diǎn)半徑標(biāo)準(zhǔn)等功能達(dá)成目的。

但有時因?yàn)榉诸?em>數(shù)據(jù)報(bào)告(Prescription data)不夠齊全，在進(jìn)行模擬時會需要簡化後的模型。舉例而言，當(dāng)我們無法得到真實(shí)的鍍膜資訊時，OpticStudio中的理想(IDEAL)和表定(TABLE)鍍膜設(shè)定就可以派上用場。相似的，Jones Matrix可以在缺乏實(shí)際模型的情況下，用來表示偏振元件。

Zemax OpticStudio把這些稱之為 “ray” 係數(shù)。因?yàn)楣?em>路徑長是沿著光線方向計(jì)算的，並且光線長度在薄膜中會隨著角度增加，因此光線的相位會以 1/cos(theta) 的變化方式近似，這樣才是增加膜層相位的光路徑長時，正確表示方式。請注意Zemax OpticStudio在偏振追跡中，會同時回報(bào) “ray” 以及 “field” 兩種係數(shù)，因而使用者可以同時查看兩者。

本文將逐步介紹如何在OpticStudio中創(chuàng)建商業(yè)上可用的OCT模型。模型系統(tǒng)健康人眼的角膜和虹膜（A）以及視網(wǎng)膜組織（B）的橫截面圖像如下所示。 顏色變化對應(yīng)於返迴光強(qiáng)度的變化。 這表明發(fā)生了重大變化。代表性的OCT系統(tǒng)如下所示。 光束應(yīng)均勻地分成兩臂，其中一個在樣品體積上會聚，以最小化給定掃描的照射面積。

使用 OpticsBuilder，機(jī)構(gòu)工程師可以創(chuàng)建複雜的透鏡邊緣、安裝特徵和模組外殼，同時利用 Zemax 光線追跡直接查看這些元件如何影響光學(xué)性能。在這種情況下，鏡頭邊緣可能會為雜散光提供路徑以污染圖像。 OpticsBuilder 不僅可以在透鏡之間創(chuàng)建擋板，而且還允許設(shè)計(jì)團(tuán)隊(duì)了解抑制雜散光源的有效性。

這兩種光柵在光學(xué)系統(tǒng)中的作用幾乎是一樣的，但在製造和模擬方面卻有很大的不同。 圖 1. (a) 表面反射光柵 (b) 體積全像光柵 圖1(b)所示的VHG是通過在感光材料薄膜上曝光兩個或多個光束來製造。然後將薄膜進(jìn)行化學(xué)或熱顯影：這就是光柵。光柵上的表面是光滑的，但光柵內(nèi)部的折射率是正弦調(diào)變的。

陣列透鏡是照明系統(tǒng)中有用的光學(xué)元件。它是將單個光學(xué)元件組裝或形成為單個光學(xué)元件的二維陣列，用於在照明平面上將光從非均勻分佈空間轉(zhuǎn)換為均勻輻照度分佈。這篇文章討論了複眼空間光學(xué)積分器在數(shù)位投影機(jī)中的使用，以及如何在 OpticStudio 中對此類元素進(jìn)行建模。在數(shù)位投影器設(shè)計(jì)中，我們希望確保數(shù)位光源在輻照度分佈方面與投影圖像相匹配。

設(shè)計(jì)變更的主導(dǎo)權(quán)，已大幅度的由傳統(tǒng)式的只做代工向上提升，每一批模具代工至少有一半以上的模具，是由 Tokyo Seiki 主導(dǎo)修改產(chǎn)品設(shè)計(jì)，例如最近接手的印表機(jī)組件的流道不平衡問題，以及某知名國際相機(jī)廠牌的產(chǎn)品翹曲改良。對癥下藥，增加產(chǎn)品強(qiáng)度：流動平衡與結(jié)合線問題改良流動平衡目的是避免成品後所發(fā)生變形的主要改善方案，尤其針對精密性產(chǎn)品，在分析過程中常以流動平衡指數(shù)來作為比較數(shù)據(jù)。

波前的計(jì)算當(dāng)我們說波前時，事實(shí)上通常是指波前 “差”，或是光程差，指的是同一件事。OpticStudio預(yù)設(shè)使用出瞳作為波前差的計(jì)算參考。因此，當(dāng)我們要計(jì)算一條光線的OPD時，此光線會從物面出發(fā)後一路追跡穿過光學(xué)系統(tǒng)，最終到達(dá)像面後，在循原方向後退追跡到 “參考球面”。此參考球面的球心是主光線與像面的交點(diǎn)，半徑是主光線與像面交點(diǎn)到主光線與出瞳面的焦點(diǎn)。

我們在一個光學(xué)系統(tǒng)中有幾組透鏡元件，它們沿著光軸沿著預(yù)定義的軌跡移動，從而提供了光學(xué)系統(tǒng)最終焦距（變焦係數(shù)）的變化。在 Alvarez變焦鏡頭的情況下，我們有一對所謂的Alvarez鏡頭，這些鏡頭元件相互之間的橫向位移提供了光學(xué)系統(tǒng)焦距的變化。傳統(tǒng)變焦鏡頭與 Alvarez變焦鏡頭的主要區(qū)別在於，傳統(tǒng)系統(tǒng)鏡頭沿光軸運(yùn)動，而Alvarez系統(tǒng)鏡頭則沿垂直於光軸的方向運(yùn)動。

依托數(shù)字孿生來保持競爭力歐洲制造商現(xiàn)在該如何跟上這一快速發(fā)展的步伐？自動化工廠需要完整的數(shù)字化產(chǎn)品數(shù)據(jù)才行運(yùn)行 — 這些數(shù)據(jù)是生產(chǎn)過程中仿真模擬、虛擬調(diào)試及構(gòu)建數(shù)字孿生的基礎(chǔ)。 數(shù)字孿生（Digital Twins) 即物理產(chǎn)品、機(jī)器設(shè)備或整套設(shè)施的虛擬映射。 除純粹的幾何數(shù)據(jù)外，還需搭載智慧附加資訊，才能將三維模型轉(zhuǎn)化為功能齊全的數(shù)位化產(chǎn)物。

由於 Moldex3D 的基本程序與本手冊中所述相同， 因此本章將著重在 ScrewPlus 模組中。在按下 [加工精靈] (Process Wizard) 按鈕後，便會顯示以下資訊。

圖5 創(chuàng)建平面 如圖6所示，我們創(chuàng)建了某個子流體域的XY平面（Z=0），在該平面生成溫度的數(shù)據(jù)，即得到了子流體域內(nèi)XY平面上的溫度云圖。

此時，轉(zhuǎn)矩的變化區(qū)間約為1.25 N·m，這是因?yàn)闉樘嵘姍C(jī)功率密度，轉(zhuǎn)子磁路接近飽和，調(diào)整磁障間隔寬度對磁路的影響已經(jīng)相對較小。在此基礎(chǔ)上，磁障中插入永磁體，在保證永磁體用量不變條件下，電機(jī)的最大輸出轉(zhuǎn)矩隨磁障間隔改變規(guī)律，如圖6所示。

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