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請(qǐng)注意Zemax OpticStudio在偏振追跡中，會(huì)同時(shí)回報(bào) “ray” 以及 “field” 兩種係數(shù)，因而使用者可以同時(shí)查看兩者。當(dāng)使用者需要增加膜層相位到光路徑長(zhǎng)時(shí)，就使用ray係數(shù)。而當(dāng)使用者要與薄膜程式交叉比對(duì)時(shí)，則field係數(shù)可以讓這個(gè)步驟變得較為方便。

表面反射光柵與體積全像光柵的比較在介紹這個(gè)模型之前，我們先簡(jiǎn)單解釋一下表面反射光柵（SRG）和體積全像光柵（VHG）的區(qū)別。這兩種光柵在光學(xué)系統(tǒng)中的作用幾乎是一樣的，但在製造和模擬方面卻有很大的不同。 圖 1. (a) 表面反射光柵 (b) 體積全像光柵 圖1(b)所示的VHG是通過在感光材料薄膜上曝光兩個(gè)或多個(gè)光束來製造。

要驗(yàn)證這個(gè)敘述，讓我們打開這個(gè)內(nèi)建範(fàn)例： \Documents\Zemax\Samples\Sequential\Objectives\Double Gauss 28 degree field.ZMX。讓我們?cè)谙衩嬷靶略?em>兩個(gè)面，第一個(gè)面的厚度給予設(shè)定求解 = Pupil Position，第二個(gè)面給予設(shè)定求解 = Pickup，設(shè)定為前一個(gè)面的厚度乘以-1。

此外，E具有{Ex, Ey, Ez}三個(gè)複數(shù)型式的分量。而傳播向量k的三個(gè)分量{l, m, n}則是電磁波在x, y, z方向上的Cosine分量。為了使下方的式子成立，E和k必須互相垂直。將E和k分別以分量的形式帶入，我們可以得到下方的結(jié)果。任意兩種材料間的介面都可以使入射光產(chǎn)生偏極化的現(xiàn)象，而OpticStudio可以將這個(gè)結(jié)果完整的呈現(xiàn)。

如下圖所示：來自紅色行人的散射光到達(dá)了雷射雷達(dá)探測(cè)器的一個(gè)單位圖元上。雷射雷達(dá)會(huì)將接收到返回信號(hào)花費(fèi)的時(shí)長(zhǎng)記錄下來，即飛行時(shí)間，並將飛行時(shí)間轉(zhuǎn)換為距離。圖元的位置可表明入射光的方向。這兩個(gè)值都表明散射光線來自站在離貨車10米遠(yuǎn)的紅色行人。OpticStudio實(shí)際上測(cè)量的不是時(shí)間，而是光線路徑長(zhǎng)度，也就是物體和探測(cè)器之間的距離。

光束應(yīng)均勻地分成兩臂，其中一個(gè)在樣品體積上會(huì)聚，以最小化給定掃描的照射面積。 光源應(yīng)為一束準(zhǔn)直的寬帶光束；大帶寬意味著低相干性和高精度定位產(chǎn)生相干性的深度。深度掃描也稱為軸向掃描或A掃描，它根據(jù)反射到樣品中的距離來測(cè)量反射光的強(qiáng)度。 儘管它在OCT系統(tǒng)的類型之間有所不同，但深度掃描通常由參考鏡執(zhí)行，以使樣品返回的光對(duì)應(yīng)於樣品和參考之間的特定光程差（OPD）。

因此，材料供應(yīng)商以及鏡片製造商通常都會(huì)提供精度超過小數(shù)點(diǎn)後兩位的折射率資料。然而除了單一波長(zhǎng)的折射率以及阿貝數(shù) (Abbe Number) 外，通常就不會(huì)有更多相關(guān)資料了。單一波長(zhǎng)方面我們通常會(huì)選擇使用e線 (546.1nm)，因?yàn)樵摬ㄩL(zhǎng)更接近相對(duì)光度函數(shù)曲線(relative luminosity curve)的最大值。但在某些特殊的情況下，d線 (587.6 nm)的使用也是有可能的。

許多設(shè)計(jì)過程需要兩種不同的光學(xué)理論/算法來分別處理光束在自由空間和微結(jié)構(gòu)中的傳播，而其他一些過程僅使用純光線追跡來達(dá)到目標(biāo)。由於模擬技術(shù)發(fā)展迅速，因此本文可能沒有涵蓋所有可用方法。如果用戶提供新訊息或有任何要求，請(qǐng)隨時(shí)與我們聯(lián)繫，我們可以相應(yīng)地更新本文。

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