光學薄膜的案例
基于計算機輔助的光學薄膜優(yōu)化設(shè)計方法
基于計算機輔助的光學薄膜優(yōu)化設(shè)計方法
金揚利，馬勉軍，陳壽，王濟洲，蘭州物理研究所
摘要：概述了光學薄膜優(yōu)化設(shè)計的發(fā)展和原理，介紹了當前光學薄膜優(yōu)化設(shè)計中集中常用方法，預(yù)測了優(yōu)化設(shè)計方法的趨勢。
關(guān)鍵詞：光學薄膜，優(yōu)化設(shè)計，計算機輔助
論文簡介
1.引言：光學薄膜作為一門學科，已經(jīng)走上百年的路程。如今，光學薄膜在光學、激光、航天等領(lǐng)域都得到了廣泛的應(yīng)用。隨著新的精密光學儀器的不斷涌現(xiàn)，對鍍膜光學元件的光譜性能要求也越來越高，常規(guī)解析法設(shè)計的光學薄膜膜系結(jié)構(gòu)已不能完全滿足使用要求。
計算機技術(shù)的飛速發(fā)展為數(shù)值方法應(yīng)用于光學薄膜設(shè)計提供了便利，如今，基于計算機輔助的光學 薄膜優(yōu)化設(shè)計已經(jīng)成為一種廣泛應(yīng)用的膜系設(shè)計方法。
2.光學薄膜優(yōu)化設(shè)計的發(fā)展
3.光學薄膜優(yōu)化設(shè)計的原理和評價函數(shù)
3.1光學薄膜優(yōu)化設(shè)計的原理
3.2評價函數(shù)
4 幾種常用的光學薄膜優(yōu)化設(shè)計方法
4.1 單純形法
4.2 模擬退火法
4.3 針形法
4.4 遺傳算法
4.5優(yōu)化方法的改進
5 總結(jié)和發(fā)展趨勢
基于計算機輔助的光學薄膜優(yōu)化設(shè)計方法.pdf
展開 原來它們是造成光學薄膜損傷的影響因素
今天為大家分享一下關(guān)于造成光學薄膜損傷影響因素的內(nèi)容，歡迎大家學習一下哦！
薄膜厚度
隨著光學薄膜的厚度增加，LIDT會迅速減小。首先，光學薄膜中可能出現(xiàn)的駐波場分布直接受光學薄膜厚度大小的影響，從前面的分析可知，激光與薄膜相互作用的場效應(yīng)首先發(fā)生在靠近空氣的幾個膜層厚度中；其次，由于應(yīng)力的累積效應(yīng)，單一膜層內(nèi)的應(yīng)力總是會隨著膜層數(shù)目的增加而增加：最后，雜質(zhì)缺陷吸收的概率隨著光學薄膜的厚度逐漸增大而增加，導(dǎo)致吸收源變多，從而使薄膜更易于發(fā)生損傷。
薄膜內(nèi)雜質(zhì)缺陷
對于一般的電介質(zhì)光學薄膜來說，非線性吸收效應(yīng)作用不大，此時光學薄膜中的雜質(zhì)缺陷是導(dǎo)致激光破壞的重要因素。鍍膜前對基底的加工、清洗、處理等過程會不可避免地引入雜質(zhì)：蒸發(fā)鍍膜過程中，往往在鍍膜材料中會形成雜質(zhì)，主要有異于原材料的污染介質(zhì)、膜層非正常生長而形成的結(jié)瘤和微孔以及材料非正常結(jié)合的覆蓋物等。由于雜質(zhì)缺陷在光學薄膜中的存在，增大了激光作用時被損傷破壞的可能，降低了光學薄膜的LIDT。另外，作為吸收激光能量的潛在熱源，膜層內(nèi)雜質(zhì)區(qū)域熱量的異常吸收和積累總是會引起局部區(qū)域材料體積膨脹，膜層內(nèi)部產(chǎn)生應(yīng)力，進而發(fā)生損傷。
薄膜制備工藝
由于光學薄膜的沉積技術(shù)、制備原理、方法和工藝的不同，導(dǎo)致薄膜特性差異明顯，如微觀結(jié)構(gòu)不同、折射率等光學參數(shù)不同、雜質(zhì)缺陷的引入量不同等，這些因素都會影響薄膜的激光損傷破壞機理和過程，因此有不同的破壞閾值。對于蒸鍍法，適當增大沉積速率會促使薄膜向著顆粒細小且致密的方向生長形成膜層，增大了薄膜的折射率。而薄膜的晶粒尺寸、吸收效應(yīng)和殘余應(yīng)力都會隨沉積溫度的升高而變大，這些都會減小薄膜的LIDT。例如，離子束輔助沉積最突出的特點是使薄膜變得致密，有利于提高LIDT。
展開 第二十二屆江蘇省光學薄膜技術(shù)交流會在南京順利召開
五月的南京夏意盎然，由江蘇省光學學會主辦，薄膜光學技術(shù)專業(yè)委員會承辦，南京波長光電科技股份有限公司協(xié)辦的“第二十二屆江蘇省光學薄膜技術(shù)交流會”于2023年5月26日在南京順利召開了！
來自江蘇、上海、浙江、吉林、天津、北京、廣東、四川等地的專家、企業(yè)代表等百余人參加了本次會議。江蘇省光學學會副理事長、薄膜光學專委會主任查家明出席會議并致歡迎詞，南京波長光電科技股份有限公司總經(jīng)理吳玉堂先生代表協(xié)辦方進行了致辭，江蘇省光學學會的領(lǐng)導(dǎo)也進行了相關(guān)致辭！
本次會議特別邀請了同濟大學先進技術(shù)研究院院長、精密光學工程技術(shù)研究所創(chuàng)始人王占山先生作題為《精密光學薄膜技術(shù)及其產(chǎn)業(yè)發(fā)展展望》的報告，還特邀了浙江大學光電學院教授/博士生導(dǎo)師沈偉東先生作了題為《超低反射減反射膜研制》的報告，天津津航技術(shù)物理研究所研究員季一勤先生作了主題為《硫系鍍膜表面鍍膜》的報告，以及西南技術(shù)物理研究所研究員馬孜先生作主題為《光學薄膜的納米壓痕技術(shù)》的報告。
此外，會議還邀請到在薄膜光學技術(shù)研究、制備技術(shù)、解決方案等方面做出出色工作的研究員、教授，技術(shù)工程師等等作了各種各樣的報告。精彩的報告引起了參會代表的反響，在現(xiàn)場參會代表對相關(guān)主題的報告進行了積極提問和交流。
在此之前，“江蘇省光學薄膜技術(shù)交流會”成功舉辦了21屆，已經(jīng)成為江蘇省光學界一個品牌性學術(shù)活動。通過光學薄膜技術(shù)交流會這個平臺，會議增進了圈內(nèi)代表的友誼，為很好地溝通交流提供了一個好的機會。此外本次會議也把技術(shù)交流和產(chǎn)品展示很好地融合在了一起。會議的規(guī)模和影響力在逐年擴大，為薄膜光學技術(shù)和制造能力的提高起到了積極推動作用，為江蘇省乃至全國光學相關(guān)領(lǐng)域的產(chǎn)研搭建了高質(zhì)量的交流平臺。
展開 VirtualLab Unity光學薄膜設(shè)計流程演示
鑒于篇幅，全文內(nèi)容，請點此下載：VirtualLab Unity光學薄膜設(shè)計流程演示.pdf
我國光學薄膜精密微復(fù)制技術(shù)取重要突破 破國外壟斷
新華社武漢11月10日電（記者譚元斌）經(jīng)過3年科技攻關(guān)，我國光學薄膜精密微復(fù)制技術(shù)取得重大突破，成功打破國外技術(shù)壟斷。這是記者10日從湖北省國防科工辦和湖北航天化學技術(shù)研究所獲得的消息。
據(jù)介紹，光學薄膜精密微復(fù)制技術(shù)是在光學薄膜基材表面精密涂布特定配方樹脂，然后在擁有特定設(shè)計納微尺度幾何結(jié)構(gòu)的雕刻輥上成型的技術(shù)。其廣泛應(yīng)用于液晶平板顯示器背光模組增亮膜和擴散膜、道路交通標識微棱鏡反光膜、液晶顯示器保護用防反射膜和防窺膜、裸眼3D顯示功能膜以及家電用仿金屬拉絲高光膜等。這些產(chǎn)品附加值高，市場需求大，關(guān)鍵技術(shù)一直掌握在國外公司手中。
2014至2016年，湖北航天化學技術(shù)研究所承擔湖北省重大科技專項“光學薄膜精密微復(fù)制工藝制備關(guān)鍵技術(shù)開發(fā)及應(yīng)用”，先后開展了結(jié)構(gòu)設(shè)計、刻印樹脂配方研究和涂布工藝研究，近日已通過湖北省科技廳驗收。
湖北航天化學技術(shù)研究所相關(guān)負責人說，他們設(shè)計出特殊表面涂層微結(jié)構(gòu)，開發(fā)出特殊刻印涂層樹脂配方，在光學薄膜刻印涂層背面采用防眩、防劃傷或防靜電處理，提高產(chǎn)品收益率20%以上，極大地提高了我國新材料產(chǎn)業(yè)鏈科技水平。
據(jù)介紹，目前，這項技術(shù)已在重要國防項目中得到應(yīng)用，申報發(fā)明專利10件。
展開 第十七屆TFCalc光學薄膜設(shè)計軟件培訓(xùn)（2023年6月7-9日）
地點和時間
開課時間：2023年6月7-9日
開課地點：南京
主辦單位
光研科技南京有限公司(TFCalc軟件亞太地區(qū)獨家總代)
南京波長光電科技股份有限公司
OPSS新加坡光學與光子學學會
特邀專家
宋治平先生
高級工程師，江蘇省光學學會鍍膜專業(yè)委員會副主任，任茂萊光學副董事長、副總經(jīng)理、總工程師。從事光學真空鍍膜30余年，具有豐富的設(shè)計與實操經(jīng)驗。
李全民先生
光學工程碩士，高級工程師，南京波長光電科技股份有限公司鍍膜技術(shù)總監(jiān)。25年鍍膜專業(yè)設(shè)計和工藝經(jīng)驗，曾設(shè)計和制作過光通訊各種濾光片，光學塑膠鏡片常見膜系，高功率激光薄膜，紅外薄膜等，波長范圍含蓋了從紫外到中遠紅外，尤其在激光高損傷閾值膜系和各種紅外膜系方向有豐富的設(shè)計和實操經(jīng)驗。
謝玉春先生
光學工程學士，資深工程師，現(xiàn)任南京波長光電科技股份有限公司智能事業(yè)部總經(jīng)理。研究主要方向是光機自動化與控制、高能激光傳輸以及光學薄膜設(shè)計。出版的TFCalc和ZEMAX中文使用手冊成為了光學愛好者學習不可缺少的書籍資料。開發(fā)ZEMAX GB Drawer軟件，此軟件已經(jīng)列入美國ZEMAX公司產(chǎn)品目錄。獲得多項專利，并被評為江寧先進科技工作者。
展開 TFCalc.v3.5.6(著名的光學薄膜設(shè)計軟件
TFC.Essential.Macleod.v9.7.0 1CD（完備的光學薄膜分析與設(shè)計的軟件包）
Macleod 設(shè)計軟件英文手冊
Macleod 中文圖解說明書
OpTaliX-LT v8.3.9.Win64 1CD
Optcalc v2001 1CD
LED.Tool.v5.0 1CD
TechWiz LCD 3D v15.0.10.1202-ISO 1CD(液晶模擬系統(tǒng))
TFCalc.v3.5.6(著名的光學薄膜設(shè)計軟件)
TFCalc 材料庫
TFCalc 用戶手冊（中文）
薄膜光學——理論與實踐
薄膜光學的基礎(chǔ)理論（中文）
鍍膜工藝與鍍膜系統(tǒng)配置（中文）
光學鍍膜技術(shù)（中文）
Readiris Corporate 16.0.0.9472 1CD
Readiris Pro 16.0.0.9472 1CD
Readiris.Pro.11 1CD(中文版.領(lǐng)先的光學文字識別-OCR軟件)
Specman.Pro.2006 1CD（對1D和2D數(shù)據(jù)進行NMR光譜分析的軟件）
Synopsys v11.159 1CD
Masechinensuh
專業(yè)提供各類行業(yè)軟件，誠信為本，歡迎您的資咨
MP：18980583122 扣扣：1140988741
Thinfilms&Nanotech conference 2004 1CD
UVPC v3.91 1CD
實用光學設(shè)計方法和現(xiàn)代光學系統(tǒng)（中文）
CAST.WYSIWYG.Suite.R32-ISO 1CD(3D燈光設(shè)計軟體)
霓虹燈軟件NEON2005.v3.6 1CD
Apollo Photonics產(chǎn)品：
Apollo Photonic Solutions Suite v2.2 1CD(光子學設(shè)計軟件，可用于光材料、器件、波導(dǎo)和光路等的設(shè)計
展開 POL | 2022年偏光片及光學薄膜元件市場將達6.604億平米
CINNO Research產(chǎn)業(yè)資訊，日本矢野經(jīng)濟研究所于近日公布了顯示屏用偏光片和光學薄膜元件的全球市場（生產(chǎn)面積）調(diào)查。盡管存在電視機面板制造商調(diào)整生產(chǎn)等負面因素，但由于電視機大屏幕化趨勢的影響，2022年的生產(chǎn)面積預(yù)計將達6.604億 m2，比2021年增長6.2%。
據(jù)日媒EETimes報道，矢野經(jīng)濟研究所本次調(diào)查對象的產(chǎn)品包括用于TFT-LCD面板和AMOLED（有源矩陣式OLED）等顯示屏的偏光片和主要光學薄膜元件（相位差膜、PVA保護膜、表面處理膜）。調(diào)查期間為2021年9～10月。
偏光片的全球產(chǎn)量變化和預(yù)測 出處：矢野經(jīng)濟研究所
根據(jù)調(diào)查顯示，2021年全球偏光片和光學薄膜元件市場將達6.217億 m2，比2020年增長7.8%。按LCD模式劃分，總產(chǎn)量的99%將用于LCD-TFT。
但是，也存在一些市場增長放緩因素。自2021年10月起，偏光片和光學薄膜元件對液晶顯示屏制造商的出貨量一直在下降。由新冠疫情引起的居家消費需求已經(jīng)消退，55英寸和43英寸以下的電視機面板呈減產(chǎn)趨勢。預(yù)計這一趨勢將持續(xù)到2022年2月。在這種情況下，值得期待的是65英寸以上的電視面板的大尺寸化。根據(jù)預(yù)測，面板尺寸的增大將促進出貨面積的增長，2022年后將繼續(xù)以每年約5%的速度增長。
展開 VirtualLab Unity光學薄膜設(shè)計流程演示
鑒于篇幅，全文內(nèi)容，請點此下載： VirtualLab Unity光學薄膜設(shè)計流程演示.pdf
Macleod薄膜光學：吸收工具
對于Essential Macleod而言，薄膜材料的消光系數(shù)就是與吸收相關(guān)的參數(shù)。它所代表的損失取決于它的測量方法。因此我們寫了一個光學薄膜
1=R+T+A (1)
如果結(jié)果以百分比表示，則左側(cè)變?yōu)?00。這就是設(shè)計吸收率的計算方法。
現(xiàn)在讓我們考慮一層厚度為dt的薄層埋在膜層內(nèi)。每單位面積薄層中的功率損失將是凈入射輻照度（Ienter）和凈出射輻照度（Iexit）之間的差值。這可以通過各種方式進行操作。
將入射到整個涂層上的輻射強度設(shè)為Iincidence，薄片的吸收率為dA，勢吸收率為da。則
（2）
（3）
然后，膜層中的總吸收率簡單地是（2）在膜厚度上的積分。
圖1顯示了使用具有無吸收低折射率材料（SiO2）和輕微吸收的高折射率材料（TiO2）薄膜的窄帶濾光片的一些結(jié)果。電場分布的平方很好地解釋了吸收率變化。勢吸收率幾乎相同，因為反射率為零，但膜層前面部分的吸收降低了墳?zāi)股系腎enter的值，因此膜層后部的吸收率逐漸增加。
圖1.具有吸收高折射率材料和無吸收低折射率材料的窄帶濾光片的計算。由于反射率為零，吸收率和勢吸收率幾乎相同。
展開 TFCalc.v3.5.6(著名的光學薄膜設(shè)計軟件)
Win32_64 1DVD\
iSIGHT 英文培訓(xùn)教程(初級、中級、高級)\
Move 2009.1 1CD（主流的構(gòu)造模擬軟件，包括2DMove、3DMove和4DMove）\
NI LabVIEW 2010\
Pointwise.Gridgen.v16.0.R2\
Valor Genesis v9.1 d1 for Win2K\
VERO Machining Strategist v10 Multilanguage\
234\
PipelineStudio v3.4.0.0 Final-ISO 1CD(穩(wěn)定版,化工管道仿真技術(shù)）.rar
STAAD_BEAM_V2.0.rar
STAGE Scenario 5.0圖.rar
Surfer8.0 漢化注冊版 1CD(地質(zhì)工作者必備的專業(yè)成圖軟件)中文版.rar
SurvOPT v3.4b6.rar
Aspen Plus 7.3.2\
AutoPOL For Windows\
AutoPOL.for.Windows.v1.14(鈑金展開軟件)\
Datamine NPV Scheduler v4.19.3025.0\
Earthworks Mine2-4D v12.0.1619.0\
ENGENUITY.STAGE.SCENARIO.V5\
JMAG-Designer10.5 Win64-ISO\
Mastercam X6 SP0 v15.0.4.3\
Masechinensuh
專業(yè)提供各類行業(yè)軟件，誠信為本，歡迎您的資咨
MP：18980583122 扣扣：1140988741
PCselCAD v7.0-ISO 1CD(機電-電氣CAD繪圖軟件\
SurvOPT v3.4b6\
Synopsys Synplify vF-2012.03 Linux32_64 2DVD\
TFCalc.v3.5.6(著名的光學薄膜設(shè)計軟件
展開 
面向光柵薄膜光學性能探究的Rsoft建模與仿真
光柵薄膜被廣泛運用于光伏發(fā)電，光學薄膜和減反射涂層的場景中。不同的光柵尺寸設(shè)置可以達到不同的減反射效果。本案利用Rsoft軟件介紹光柵薄膜的建模與仿真。
1. 新建仿真模塊
Simulation tool選擇DiffractionMOD，即衍射模塊求解工具。由于目標模型是周期性光柵結(jié)構(gòu)，一次仿真Dimension選擇2D。
2. 添加模型結(jié)構(gòu)幾何體
點擊segment后在需要建立的位置畫出該幾何體的大致樣子，主要是確定幾何體的兩個端位置。
右擊生成的幾何體，具體編輯其尺寸和材料屬性。在模塊尚未引入任何材料的前提下，需要添加接下來使用的材料。點擊Materials控件，進入編輯材料。
本模型中光柵基底為Si材料，光柵為InP材料，因此需要在材料庫中查詢半導(dǎo)體材料。雙擊semiconductor后展開材料庫，依次點擊選擇InP和Si后，點擊右方Use Material，將兩種材料引入模型。
在幾何體上依次編輯材料下拉框選擇屬性。
材料屬性定義完成后繼續(xù)定義幾何體尺寸。
*注意Rsoft軟件中長度單位默認為um。
3. 定義全局變量
在Rsoft中，一種方便確定各數(shù)值大小的方法是定義全局變量，使用全局變量進行數(shù)值大小確定，在依賴性較強的設(shè)置中非常實用。
點擊Edit Symbols，添加變量名稱和數(shù)值。
點擊New symbol后編輯變量名稱name和表達式。這里需要定義光柵常數(shù)即用period周期值表示，本案中設(shè)為1um。
4. 設(shè)定光柵和基底的寬度
同樣分別右擊光柵和基底，在Component Width中輸入該式。注意本案中光柵常數(shù)為1um，光柵寬為0.5um。
展開 這些光學軟件值得關(guān)注
Ansys Speos光學軟件咨詢與訂購聯(lián)系方式
手機號：15051861513
微信號：13627124798
Ansys Lumerical光學仿真軟件
產(chǎn)品簡介：
Lumerical是Ansys公司開發(fā)的用于微納光子器件、芯片及系統(tǒng)的設(shè)計仿真軟件，融合了FDTD、EME等求解器，對微納結(jié)構(gòu)及其器件進行設(shè)計仿真分析。
Ansys Lumerical光學軟件咨詢與訂購聯(lián)系方式
手機號：15051861513
微信號：13627124798
TFCalc光學薄膜設(shè)計軟件
產(chǎn)品簡介：
光研科技南京有限公司代理的TFCalc光學薄膜設(shè)計軟件功能非常強大，是光學薄膜設(shè)計和分析的通用工具。可用于設(shè)計各種類型的減反、高反、帶通、分光、相位等膜系。
TFCalc軟件咨詢與訂購聯(lián)系方式
手機號：15051861513
微信號：13627124798
展開 VirtualLab Unity應(yīng)用：導(dǎo)入自定義光譜用于薄膜特性計算
摘要
光源是任何光學系統(tǒng)的重要組成部分，在實際應(yīng)用中，光源往往具有獨特的光譜分布、空間輻射特性或時間變化規(guī)律，通過自定義光源，可直接導(dǎo)入實測數(shù)據(jù)，確保仿真結(jié)果與物理原型高度一致。在本案例中，將演示如何在VirtualLab Unity軟件中導(dǎo)入一個自定義光源，并查看在該光源在經(jīng)過一個四層AR膜后的膜系的光譜。
創(chuàng)建項目
1、在開始選項卡中，用戶可以創(chuàng)建一個光學薄膜設(shè)計項目。
2、為新項目命名并確認后，將創(chuàng)建一個新的光學薄膜設(shè)計項目。
3、創(chuàng)建的新項目中默認采用波長為510nm的光源，默認的薄膜也只有一層，用戶可以在此窗口中定義所需的光源和膜系結(jié)構(gòu)。
導(dǎo)入四層AR膜
1、點擊“從光學薄膜庫導(dǎo)入”，就可以從薄膜庫中導(dǎo)入所需薄膜。
2、在薄膜庫中，選擇“Four Layer AR”，再點擊替換就可將選中的四層AR膜導(dǎo)入到項目中。
3、四層AR膜導(dǎo)入完成。
導(dǎo)入自定義光源
1、在膜層設(shè)計的系統(tǒng)配置下，將光源設(shè)置為通過導(dǎo)入光譜數(shù)據(jù)來自定義光源，可在上圖所示位置加載光譜數(shù)據(jù)。
2、在導(dǎo)入光譜數(shù)據(jù)文件后，將Rel Output這一行排除，并點擊下一步。
2、在導(dǎo)入光譜數(shù)據(jù)文件后，將Rel Output這一行排除，并點擊下一步。
3、在選擇列間的分隔符時，保持默認的“Tab鍵分隔”，并點擊下一步。
4、在選擇標題設(shè)置列的類型時，第一列設(shè)置為波長，第二列設(shè)置為相對強度，并點擊下一步。
展開 鈦酸鑭光學特性-鈦酸鑭光學特性 在薄膜技術(shù)領(lǐng)域
鈦酸鑭光學特性
在薄膜技術(shù)領(lǐng)域，損耗吸收低、機械性能優(yōu)良、易于制備，性能穩(wěn)定的鍍膜材料一直是工藝和設(shè)計人員的首選材料。鈦酸鑭(H4)薄膜在此方面顯示出無比優(yōu)越的性能，研究表明，該薄膜具有良好的工藝穩(wěn)定性，無論是室溫還是加熱沉積，或者無論蒸鍍過程中充氧多少(甚至不充氧)，蒸發(fā)束流高低，其折射率變化均不大，消光系數(shù)極小，激光損傷閾值穩(wěn)定。該材料是由氧化鈦和氧化鑭合成得到的，其化學成分為LaTiO3，光譜透明區(qū)為360~7 000 nm，是一種極具發(fā)展前途的光學鍍膜材料。
鑒于鈦酸鑭薄膜具有損耗吸收小、易于制備，性能穩(wěn)定的優(yōu)良特性，可作為激光薄膜制備的一種優(yōu)良鍍膜材料，因而具有極大的發(fā)展?jié)摿ΑＭ瑫r，不同波長的激光輻照處理，會對薄膜的不同性能改善起到意想不到的效果。
愛特斯專業(yè)生產(chǎn)鈦酸鑭，主要有燒結(jié)顆粒和晶體顆粒，純度可以達到99.99%以上，鈦酸鑭為鈦和鑭的混合物，10年以上的生產(chǎn)經(jīng)驗，品質(zhì)穩(wěn)定，技術(shù)過硬，遠銷歐美、日韓、東南亞等國家。
鈦酸鑭在薄膜技術(shù)領(lǐng)域，損耗吸收低、機械性能優(yōu)良、易于制備，性能穩(wěn)定，光譜透明區(qū)為360~7 000 nm
歡迎采購！
展開 