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掠入射反射仿真

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創(chuàng)建者：匿名 創(chuàng)建時間：2026-01-21
掠入射反射仿真圖1

掠入射反射仿真的實例教程

摘要 掠入射反射光學元件在X射線光路中廣泛使用，特別是Kirkpatrick-Baez（KB）橢圓反射鏡系統(tǒng)。（A. Verhoeven, et al., Journal of Synchrotron Radiation 27.5 (2020): 1307-1319）聚焦是通過使用兩個物理分離的橢圓反射鏡聚焦二維光束來實現(xiàn)的。進入系統(tǒng)的X射線可以通過系統(tǒng)聚焦到納米尺度大小的光斑。該系統(tǒng)在VirtualLab Fusion中進行了建模和仿真，并計算了焦點位置的電場。 建模任務(wù) 分析設(shè)計橢圓反射鏡（1） 分析設(shè)計橢圓反射鏡（2） 分析設(shè)計橢圓反射鏡（3） 焦平面上的能量密度和電場 軟件界面 VirtualLab Fusion操作流程 設(shè)置輸入高斯場 - 基本光源模式（教學視頻） 設(shè)置組件的位置和方向 - LPD II 位置和方向 （教學視頻） 可編程的橢圓界面 - 如何使用可編程界面和示例 （球面）（應(yīng)用案例） VirtualLab Fusion技術(shù) 文檔信息 拓展閱讀 - 用于x射線成像的單光柵干涉儀
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摘要 掠入射反射光學元件在X射線光路中廣泛使用，特別是Kirkpatrick-Baez（KB）橢圓反射鏡系統(tǒng)。（A. Verhoeven, et al., Journal of Synchrotron Radiation 27.5 (2020): 1307-1319）聚焦是通過使用兩個物理分離的橢圓反射鏡聚焦二維光束來實現(xiàn)的。進入系統(tǒng)的X射線可以通過系統(tǒng)聚焦到納米尺度大小的光斑。該系統(tǒng)在VirtualLab Fusion中進行了建模和仿真，并計算了焦點位置的電場。 建模任務(wù) 系統(tǒng)參數(shù)來源于A. Verhoeven, et al., Journal of Synchrotron Radiation 27.5 (2020): 1307-1319. 分析設(shè)計橢圓反射鏡（1） 分析設(shè)計橢圓反射鏡（2） 分析設(shè)計橢圓反射鏡（3） 焦平面上的能量密度和電場 軟件界面
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摘要 掠入射反射光學元件在X射線光路中廣泛使用，特別是Kirkpatrick-Baez（KB）橢圓反射鏡系統(tǒng)。（A. Verhoeven, et al., Journal of Synchrotron Radiation 27.5 (2020): 1307-1319）聚焦是通過使用兩個物理分離的橢圓反射鏡聚焦二維光束來實現(xiàn)的。進入系統(tǒng)的X射線可以通過系統(tǒng)聚焦到納米尺度大小的光斑。該系統(tǒng)在VirtualLab Fusion中進行了建模和仿真，并計算了焦點位置的電場。 建模任務(wù) 系統(tǒng)參數(shù)來源于A. Verhoeven, et al., Journal of Synchrotron Radiation 27.5 (2020): 1307-1319. 分析設(shè)計橢圓反射鏡（1） 分析設(shè)計橢圓反射鏡（2） 分析設(shè)計橢圓反射鏡（3） 焦平面上的能量密度和電場 軟件界面
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掠入射反射仿真圖2

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摘要 掠入射反射光學元件在X射線光路中廣泛使用，特別是Kirkpatrick-Baez（KB）橢圓反射鏡系統(tǒng)。（A. Verhoeven, et al., Journal of Synchrotron Radiation 27.5 (2020): 1307-1319）聚焦是通過使用兩個物理分離的橢圓反射鏡聚焦二維光束來實現(xiàn)的。進入系統(tǒng)的X射線可以通過系統(tǒng)聚焦到納米尺度大小的光斑。該系統(tǒng)在