氧化鋯分析儀的案例
極限電流型氧化鋯氧氣傳感器在發酵罐尾氣在線分析儀中的應用
近年來通過檢測發酵尾氣CO2和O2檢測分析技術已日臻成熟。其性能穩定，可靠性高，可實現連續在線檢測獲取發酵過程重要的呼吸代謝參數CER,OUR,RQ等。這些參數反映了微生物的代謝狀況，可以得到更多細胞代謝信息，更加深入了解發酵過程，掌握發酵規律，從而優化工藝，全面控制發酵過程，提高產率。尾氣分析儀作為發酵罐標配設備已成為一種趨勢。
因是從尾氣取氣分析，對發酵無任何影響；也無需高溫滅菌，故為其應用創造了有利條件。發酵尾氣分析技術應用現代傳感器及信息技術，實時在線檢測發酵罐尾氣中CO2和O2百分比濃度，同步計算呼吸代謝參數CER、OUR及RQ，旨在獲取發酵過程細胞代謝信息，實現生物信息軟測量，藉此深入了解發酵規律，優化工藝，控制過程，提高產率，是發酵工程新的重要分析手段。發酵尾氣分析儀實時監測微生物發酵過程中氧氣的消耗速率和二氧化碳的產生速率是現代發酵工業中監控微生物代謝狀態的最有效手段，通過控制氧氣消耗率和二氧化碳產生率進行微生物發酵工藝的工業放大最為有效。為我國生物產業發展提供了先進技術設備。用于監控微生物發酵過程中微生物對于氧氣的代謝速率和二氧化碳的產生速率可采用工采網提供的極限電流型氧化鋯氧氣傳感器- SO-E2-250。
用氧電極可以直接測量微生物的呼吸活性。測量的原理基本上都是用適合的微生物電極與氧電極組成，利用微生物的同化作用耗氧，通過測量氧電極電流的變化量來測量氧氣的減少量，從而達到測量底物濃度的目的。極限電流型氧化鋯氧氣傳感器- SO-E2-250因為在氧化結電解質中電流的載體是氧離子，所以當電壓施加到氧化錯電解槽時，氧氣通過氧化錯盤被抽到陽極。如果給電解槽陰極加上一個帶孔的蓋子，氧氣流向陰極的速率就會受到限制。受到這個速率的限制，隨著所施加的電壓逐漸增加，電解槽內的電流會達到飽和。
展開 氧化鋯氧氣傳感器在氧氣測量儀中的技術方案
氧氣測量儀是用于檢測環境中氧含量不足或氧含量過高的儀器設備，其工作原理是由傳感器的原理決定。氧氣測量儀的工作過程是當環境中有被測氣體或液體揮發時，傳感器即產生與空氣中被測氣體濃度成正比的電信號，該信號傳給控制器，控制器經處理后顯示出被測氣體濃度。當被測氣體濃度達到或超過設定值時，控制器即發出聲、光報警信號并輸出有關控制信號、啟動相應控制裝置，從而避免重大事故的發生。如氧氣測量儀常用的傳感器有電化學傳感器原理、氧化鋯傳感器等，在鋼鐵，石油化工，醫療等行業都廣泛使用。下面工采網小編和大家看看氧化鋯傳感器在氧氣測量儀中的應用方案。
在實際應用中，有時由于儀表出廠后經過較長時間才安裝使用，導致氧量計測量值可能發生偏差，其測量空氣含氧量為19%左右，與實際情況有較大偏差。這個時候可以對氧含量分析儀進行校正。氧化鋯氧含量分析儀系統都經過嚴格的檢測標定，現場初次安裝時無需重新標定。當系統運行一段時間后，建議每間隔6個月對系統進行標一次定。現場有條件時，可進行2點標定，即系統的零點、滿度標定。現場無條件時，進行單點標定即可，即系統的滿度標定。系統滿度標定氣采用空氣即可，獲取容易。
氧化鋯測氧儀采用的是固體電解質氧傳感器。儀器中的核心部件氧化鋯管是以氧化鋯摻以一定比例的氧化釔或氧化鈣，經高溫燒結而形成穩定的氧化鋯陶瓷燒結體。由于氧化釔或氧化鈣分子的存在，其立方晶格中存在氧離子空穴，在高溫下是良好的氧離子導體，當氧化鋯管兩側氣體中氧含量不同時，兩側電極上由于正負電荷的堆積而形成一定的電勢。
工采網提供的極限電流型氧化鋯氧氣傳感器 - SO-A0-250在氧化鋯電解質中電流的載體是氧離子，所以當電壓施加到氧化鋯電解槽時，氧氣通過氧化鋯盤被抽到陽極。如果給電解槽陰極加上一個帶孔的蓋子，氧氣流向陰 極的速率就會受到限制。
展開 Moldex3D模流分析之粉末射出模擬改善氧化鋯人工牙根翹曲
大綱
粉末射出成型(PIM)常用于制造復雜制品，例如本案例的一體式氧化鋯人工牙根(圖一)。然而此雙射成型制程中，也產生了翹曲和體積收縮問題。因此本案例將著重于使用田口方法來優化制程參數，以改善翹曲、達到更小的體積收縮，以及均勻的粉末濃度。過程中并使用Moldex3D的充填、保壓、翹曲分析，模擬不同參數下的產品質量。
圖一 一體式氧化鋯人工牙根產品，包含第一射(左)和第二射(右)
挑戰
雙射成型產品的尺寸變形問題
不均勻的粉末濃度
PIM成型周期須縮短
解決方案
藉由Moldex3D粉末射出成型(PIM)及多材質射出成型(MCM)模塊，分析產品質量，并用田口方法找到最佳成型參數設定，以優化產品設計
效益
將翹曲降低，并改善粉末濃度均勻度
第一射的產品質量提高12.12%，第二射產品質量提高59.03%
減少修模時間和成本
成功縮短產品研發周期
案例研究
本案例目標為改善燒結前生胚的不均勻的收縮及粉末濃度。為解決此問題，高應大團隊利用Moldex3D尋找較佳的多材質射出(MCM)制程參數。
首先藉由Moldex3D粉末射出成型模塊仿真原始設計的成型條件。仿真結果顯示此雙射生胚有不均勻的體積收縮，會造成嚴重的翹曲變形，且會影響產品結構強度。
接下來以田口方法決定充填時間、保壓壓力、模溫和料溫等成型參數，直交表包含此四個變量各有三個階層，并根據優化的成型參數進行氧化鋯人工牙根進行模擬分析。最終結果顯示，產品翹曲都已降低：第一射翹曲由0.488 mm降為0.145 mm；第二射翹曲則由0.059 mm降為0.022 mm (圖二及圖三)。粉末濃度也變得更均勻(圖四及圖五)。產品整體質量改善了，可避免掉重復的修模成本。
展開 “ 氣體檢測儀 ” 和 “ 氣體分析儀 ” 的區別？
在設備選型和采購時，經常會遇到氣體檢測儀和氣體分析儀兩者之間的困惑。有人會疑問這兩者都是檢測氣體成分的，為什么價格相差很大？兩者之間是否可以通用？這里詳細介紹一下這兩者的異同點。
01
1、概述
氣體檢測儀，是一種對氣體泄露濃度檢測或報警的儀表工具，主要分為手持式/固定式氣體檢測儀。
它是利用氣體傳感器來檢測環境中存在的氣體種類，一般用來檢測有毒氣體、可燃氣體或氣體含氧量等。例如，平常說的煤氣報警器就是屬于氣體檢測儀類別的一種檢測儀器。下面是常見的一些氣體檢測儀圖示。
氣體分析儀，是一種測量氣體成分的流程分析儀器儀表工具，主要分為便攜式/在線式氣體分析儀。在很多生產過程中，特別是在存在燃燒、化合、催化等化學反應的生產過程中，僅僅根據溫度、壓力、流量等物理參數對工藝進行自動控制常常是不夠的，需要更精密、科學的氣體分析儀進行輔助檢測。
由于被分析氣體的千差萬別和分析原理的多種多樣，氣體分析儀的種類繁多。根據測量原理分類常用的有：奧氏氣體分析儀、熱導式氣體分析儀、電化學式氣體分析儀、紅外線吸收式分析儀和激光式氣體分析儀等。
根據被測氣體分類常用有：煙氣分析儀、氧量分析儀、氫氣分析儀、CO2 分析儀、露點儀等。例如，用于鍋爐調控和環保監測的煙氣分析儀就是屬于氣體分析儀的一種分析儀器。下面是常見的一些氣體分析儀圖示。
雖然氣體檢測儀與氣體分析儀在原理上都是采用各類氣體傳感器來測量氣體濃度，且在石化、煤炭、冶金、化工、市政燃氣、環境監測、鋼鐵、電力等多種場所均有廣泛應用。
展開 
分析手持式光譜儀與直讀光譜儀有什么樣的區別?
光譜儀有許多種類，包括我們常用的手持式光譜儀與直讀光譜儀，便攜式光譜儀等，那么，你知道手持式光譜儀與直讀光譜儀有什么區別嗎?
直讀光譜儀:
? 直讀光譜儀是定量分析，測量結果準確，重復性好，長期穩定。
手持式光譜儀:
手持式光譜儀是定性和半定量分析。用于標識材料等級。該測試很方便，但是不能測量精度要求很高的材料。
一、檢測試樣的大小不同
直讀光譜儀對樣品量有嚴格的要求。樣品必須至少具有不小于激發腔的平坦表面，并且厚度不得小于1.5mm(通常建議不小于3mm)，并且手持式光譜儀的尺寸和厚度應與樣品。沒有如此高的要求，可以測試普通樣品。
二、檢測環境不同
??直讀光譜儀只能在實驗室使用，環境溫度和濕度的波動不應太大，嚴重影響檢測效果;手持式光譜儀可以檢測室內或室外工作。
三、測試樣品的損壞程度不同
??直讀光譜儀是一種破壞性測試。在激發過程中，將在材料表面形成直徑約8毫米的小凹坑。直讀光譜儀不適用于貴重和裝飾性金屬。手持式光譜儀是非破壞性測試。測試本身不會影響樣品。有任何不良影響。在靈活性方面，手持式光譜儀還具有很高的利用率。用于測試樣品的直讀光譜儀的尺寸必須適合該表。測試前必須銷毀過多和較長的樣本。
四、數據的準確性不同
??碳和氮的兩個元素只能通過直讀光譜儀檢測。建議使用直讀光譜儀來準確地確定非金屬元素，例如磷和硫，以及對準確性有較高要求的地方(要求數據波動低于0.05%);通常建議使用手持式光譜儀進行品牌識別或其他定性和半定性定量精度要求。
展開 伽安科技—手提泵吸式復合氣體分析儀—移動式多合一氣體檢測儀
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</figure><p><br></p><p><strong>產品別稱：</strong></p><p>手提泵吸式復合式氣體檢測儀、手提泵吸式復合氣體監測系統、手提泵吸式多參數氣體分析儀、手提泵吸式多合一氣體分析系統、手提泵吸式大氣監測系統、手提泵吸式多參數氣體分析系統、手提泵吸式多參數氣體分析儀、手提泵吸式多參數氣體分析系統、多參數過多合一氣體分析系統、移動式復合氣體檢測箱、移動式多合一氣體分析儀、移動式大氣監測站、數據存儲型復合氣體分析箱等等</p><p> </p><p><br></p><p><br></p><figure style="text-align: center;" class="ql-align-center">
<figure class="figure-image" contenteditable="false" data-img="https://img.jishulink.com/202510/attachment/10c72c5191b54d57bb01a95d964446b7.png" style="display: inline-block;" data-regular="true">
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展開 三角試樣、圓柱試樣、熱分析儀、直讀光譜儀四種爐前控制手段解析
3、熱分析儀
國內外許多工廠在爐前使用熱分析儀控制灰鑄鐵的質量。熱分析儀是將鐵液澆入裝有熱電偶的樣杯里，在其冷卻過程中，由熱電偶測溫，用二次儀表繪出反映溫度-時間關系的冷卻曲線：
在保持樣杯冷卻速度一定的條件下，冷卻曲線的形狀與灰鑄鐵的臨界溫度、化學成分、組織有密切關系。根據共晶過冷度，可以判斷灰鑄鐵的化學成分（CE，C，Si量）、孕育效果、共晶團數量和石墨分布形狀等。
近年來在研制多功能熱分析儀的同時，國內研制出多功能鑄鐵性能速測儀，用標準鑄態試棒與被測試棒對比法，在爐前快速打印出C、Si、共晶團數、強度和HBS值。
4、直讀光譜儀
直讀光譜儀，英文名為OES（Optical Emission Spectrometer），即原子發射光譜儀。
六十年代光電直讀光譜儀，隨著計算機技術的發展開始迅速發展，由于計算機技術的發展，電子技術的發展，電子計算機的小型化及微處理機的出現和普及，成本降低等原因、于上世紀的七十年代光譜儀器幾乎100%地采用計算機控制，這不僅提高了分析精度和速度，而且對分析結果的數據處理和分析過程實現自動化控制。
隨著20世紀80年代計算機技術和軟件技術的發展，直讀光譜儀發展迅速。
管他叫直讀的原因是相對于攝譜儀和早期的發射光譜儀而言，由于在70年代以前還沒有計算機采用，所有的光電轉換出來的電流信號都用數碼管讀數，然后在對數轉換紙上繪出曲線并求出含量值，計算機技術在光譜儀應用后，所有的數據處理全部由計算機完成，可以直接換算出含量，所以比較形象的管它叫直接可以讀出結果，簡稱就叫直讀了，在國外沒有這個概念。
展開 三角試樣、圓柱試樣、熱分析儀、直讀光譜儀四種爐前控制手段的關鍵注意點
3、熱分析儀
國內外許多工廠在爐前使用熱分析儀控制灰鑄鐵的質量。熱分析儀是將鐵液澆入裝有熱電偶的樣杯里，在其冷卻過程中，由熱電偶測溫，用二次儀表繪出反映溫度-時間關系的冷卻曲線：
在保持樣杯冷卻速度一定的條件下，冷卻曲線的形狀與灰鑄鐵的臨界溫度、化學成分、組織有密切關系。根據共晶過冷度，可以判斷灰鑄鐵的化學成分（CE，C，Si量）、孕育效果、共晶團數量和石墨分布形狀等。
近年來在研制多功能熱分析儀的同時，國內研制出多功能鑄鐵性能速測儀，用標準鑄態試棒與被測試棒對比法，在爐前快速打印出C、Si、共晶團數、強度和HBS值。
4、直讀光譜儀
直讀光譜儀，英文名為OES（Optical Emission Spectrometer），即原子發射光譜儀。
六十年代光電直讀光譜儀，隨著計算機技術的發展開始迅速發展，由于計算機技術的發展，電子技術的發展，電子計算機的小型化及微處理機的出現和普及，成本降低等原因、于上世紀的七十年代光譜儀器幾乎100%地采用計算機控制，這不僅提高了分析精度和速度，而且對分析結果的數據處理和分析過程實現自動化控制。
隨著20世紀80年代計算機技術和軟件技術的發展，直讀光譜儀發展迅速。
管他叫直讀的原因是相對于攝譜儀和早期的發射光譜儀而言，由于在70年代以前還沒有計算機采用，所有的光電轉換出來的電流信號都用數碼管讀數，然后在對數轉換紙上繪出曲線并求出含量值，計算機技術在光譜儀應用后，所有的數據處理全部由計算機完成，可以直接換算出含量，所以比較形象的管它叫直接可以讀出結果，簡稱就叫直讀了，在國外沒有這個概念。
應用直讀光譜儀可以快速準確的檢測鐵水成分。
展開 三角試樣、圓柱試樣、熱分析儀、直讀光譜儀四種爐前控制手段解析
3、熱分析儀
國內外許多工廠在爐前使用熱分析儀控制灰鑄鐵的質量。熱分析儀是將鐵液澆入裝有熱電偶的樣杯里，在其冷卻過程中，由熱電偶測溫，用二次儀表繪出反映溫度-時間關系的冷卻曲線：
在保持樣杯冷卻速度一定的條件下，冷卻曲線的形狀與灰鑄鐵的臨界溫度、化學成分、組織有密切關系。根據共晶過冷度，可以判斷灰鑄鐵的化學成分（CE，C，Si量）、孕育效果、共晶團數量和石墨分布形狀等。
近年來在研制多功能熱分析儀的同時，國內研制出多功能鑄鐵性能速測儀，用標準鑄態試棒與被測試棒對比法，在爐前快速打印出C、Si、共晶團數、強度和HBS值。
4、直讀光譜儀
直讀光譜儀，英文名為OES（Optical Emission Spectrometer），即原子發射光譜儀。
六十年代光電直讀光譜儀，隨著計算機技術的發展開始迅速發展，由于計算機技術的發展，電子技術的發展，電子計算機的小型化及微處理機的出現和普及，成本降低等原因、于上世紀的七十年代光譜儀器幾乎100%地采用計算機控制，這不僅提高了分析精度和速度，而且對分析結果的數據處理和分析過程實現自動化控制。
隨著20世紀80年代計算機技術和軟件技術的發展，直讀光譜儀發展迅速。
管他叫直讀的原因是相對于攝譜儀和早期的發射光譜儀而言，由于在70年代以前還沒有計算機采用，所有的光電轉換出來的電流信號都用數碼管讀數，然后在對數轉換紙上繪出曲線并求出含量值，計算機技術在光譜儀應用后，所有的數據處理全部由計算機完成，可以直接換算出含量，所以比較形象的管它叫直接可以讀出結果，簡稱就叫直讀了，在國外沒有這個概念。
展開 VirtualLab Fusion應用：畸變分析儀
因此，對任何光學工程師來說，能夠詳細分析它們的性能是至關重要的。一個眾所周知的不利影響是畸變，它導致光束的橫向位置相對于焦平面的參考位置的偏差。在這個使用案例中，我們介紹了一個工具，以球面透鏡為例，研究這種效應。
畸變定義
畸變與主光線的球面像差相對應。它被定義為光線束的橫向位置相對于焦平面的參考位置的偏差。使用掃描鏡頭的有效焦距（??'），可以計算出焦平面的參考位置，這主要取決于入射角。
f’：有效焦距。
θ：入射角度。
yBundle：光線束的側向位置
yRef：參考光線的側向位置
畸變定義
F-tan(theta)畸變：yRef=f’tan(θ)
F-theta畸變：yRef=f’θ
光線束的位置（??Bundle）。
- Central ray：連接視野的外點和瞳孔的中心
- Centroid：與物理相關的是能量中心點
哪里可以找到畸變分析器
要分析的組件
畸變分析器計算由透鏡或物鏡在定義的角度范圍內引入的光束的畸變。它的工作獨立于實際的光學系統及其參數，因此，具體的參數需要在分析器內定義。
要分析的組件：定義應分析的組件。一個下拉菜單將顯示所有可用的選項。如果有多個具有相同名稱的組件，組件下面的索引將有助于區分它們。
展開 VirtualLab Fusion應用：參數變化分析儀
摘要
在復雜光學系統的設計、優化和公差處理過程中，通常需要分析一組不同系統參數的特性，而不僅僅是單一配置。參數運行是在所需參數空間內掃描系統參數的指定工具。但它無法從可進一步處理的單個結果中定義和評估優化函數。新的參數變化分析儀正是彌補這一不足的正確工具。利用該分析器，您基本上可以分析整個系統，并進一步處理所獲得的數據。在產生大量數據，但評估需要定義明確的質量函數以用于下一步分析或優化等情況下，這是非常有用的。
在哪里可以找到參數變化分析儀？
在Optical Setups的元件庫中，光學組件樹Analyzers下可以找到Parameter Variation Analyzer。
定義參數變化
將分析儀添加到光學系統后，必須定義參數掃描和結果評估。點擊 "Configure Parameter Variation"，即可進入內置的Parameter Run文檔，在該文檔中可以配置參數變化。
有關如何操作Parameter Run文件的詳細介紹，請參閱：參數運行文件的使用
結果評估
Parameter Variation Analyzer的輸出由自定義的片段定義。在這里，用戶可以訪問相關Parameter Run的結果，并需要對如何處理數據進行編程。
展開 
[VirtualLab] 元件內部場分析儀：FMM
摘要
元件內部場分析器：FMM允許用戶可視化和研究微結構和納米結構內部的電磁場分布。為此，使用傅立葉模態法/嚴格耦合波分析（FMM/RCWA）計算周期性結構（透射或反射、電介質或金屬）內部的場。還可以指定場的哪一部分應該可視化：正向模式、反向模式或兩者同時顯示。
元件內部場分析儀：FMM
元件內部場分析器：FMM是光柵光學裝置的獨有功能，可提供光柵結構內部電磁場的可視化。
評估模式的選擇
為了更容易地區分入射場、反射場和透射場，可以僅評估正向或反向傳播模式，或者評估兩者的總和。
評價區域的選擇
元件內部場分析器：FMM可以輸出整個元件（包括基板）內部的場，或者只輸出一個堆棧或基塊（基板）中的場。
不同光柵結構的場分布
任意形狀的光柵結構可以通過元件內部場分析儀進行分析。以下是幾個例子：
光柵結構的采樣
雖然分析儀為輸出數據提供了一些采樣選項，但系統中定義的光柵表面必須正確采樣（例如，分解點和過渡點的層數足夠）。
分解預覽展示了如何根據當前采樣因子對光柵結構進行采樣。
光柵結構的充分采樣意味著已經實現了收斂，即進一步增加采樣不會顯著影響產生的場。例如，如果層分解過于粗糙，則可能會由于縱斷面中的大臺階而產生其他影響。
輸出數據的采樣：一維周期光柵（Lamellar）
對于1D周期性（片狀）光柵，分析儀使用對話框“采樣”部分中指定的參數生成2D橫截面圖像。
輸出數據的采樣：二維周期光柵
當分析的光柵設置為2D Periodic時，Field Inside Component Analyzer：FMM將通過結構生成一系列二元截面，z方向的采樣參數決定執行的切割次數。
展開 元件內部場分析儀：FMM
元件內部場分析器：FMM允許用戶可視化和研究微結構和納米結構內部的電磁場分布。為此，使用傅立葉模態法/嚴格耦合波分析（FMM/RCWA）計算周期性結構（透射或反射、電介質或金屬）內部的場。還可以指定場的哪一部分應該可視化：正向模式、反向模式或兩者同時顯示。
元件內部場分析儀：FMM
VirtualLab Fusion應用：場曲分析儀
這種效應被稱為“場曲”，是任何透鏡系統性能分析中需要考慮的一個重要像差。在這個用例中，我們引入一個專門的分析器來研究這種影響。
場曲
場曲，也稱為“場的曲率”，是一種常見的光學效應，它會使平面物體在畫面的某些部分看起來很銳利，而不是在整個幀上均勻銳利。這是由于大多數光學元件的彎曲性質造成的，它們將圖像投影到曲面上，而不是平面上。它被定義為Δz和Φ之間的函數。
哪里可以找到場曲分析器
分析的組件
評估距離
目標距離
子午面和弧矢面
取樣參數
示例：球面透鏡的場曲
對于單一波長的子午面和弧矢面
復合波長的研究
文檔信息
ZEMAX | 如何設計光譜儀 - 公差分析
之前我們發布了文章如何設計一個光譜儀 - 雜散光分析，該文概述了光譜儀系統的序列模式 - 非序列式轉換、封裝的簡單設計、機械封裝元件散射光情況的定量分析以及光譜儀探測器的雜散光污染情況。
而本文旨在介紹如何在 OpticStudio 中對由市售光學元件組建的透鏡-光柵-透鏡（LGL）光譜儀進行公差分析，包含如何補償裝配和加工制造產生的誤差。聯系我們下載文章的附件。
介紹
公差是一個復雜的課題，可以存在多種方法對一個光學系統進行公差分析。我們在此討論的方法將針對確定實驗室環境下組裝的光譜儀，以及與鏡片加工公差相關的參數。
光譜儀及其公差分析前準備工作
本文用于公差分析的光譜儀是一個透鏡-光柵-透鏡 (LGL) 光譜儀，在880 nm波長下帶寬為50 nm。它被設計用于光學相干層析成像 (OCT) 應用。光譜儀的結構如下:
光譜儀將使用光學實驗板將光學元件安裝在光學平臺上，因此我們需要著重研究以下與公差相關的問題：
光譜儀的元件組裝在光學實驗板上時，它的性能會受到怎樣的影響?
光學元件的加工公差將如何影響光譜儀的性能?
如何減少或補償這些性能的下降?
準備公差分析用的鏡頭文件
打開從附件下載的示例文件 “Spectrometer_tolerancing.zar”，快速瀏覽文件。在公差分析過程中，我們需要采取的第一步是取消所有可變參數和主光線的求解，并將半直徑轉換為圓形孔徑:
一旦這一步完成，我們可以進行公差分析的第一部分：裝配公差。
裝配公差
簡要地講，在公差分析過程中，OpticStudio 會改變系統中光學元件的參數并計算出參數對系統性能的影響程度。
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