表面散射分析的案例
Ansys Zemax | 如何通過 K-相關(guān)分布模擬表面散射
如果我們忽略 BSDF 方程中的 cos(?s)項(xiàng)并使 ?i = 0，全積分散射 (TIS) 的近似形式為：
正如我們所看到的，K- 相關(guān)散射模型需要輸入大量的參數(shù)，我們將在下文中更詳細(xì)地介紹這些參數(shù)。
注：如果用戶獲得的特定散射表面信息是實(shí)測的 BSDF 數(shù)據(jù)，而不是通過將實(shí)測表面粗糙度數(shù)據(jù)擬合到 K-相關(guān)模型得到參數(shù)時(shí)，我們強(qiáng)烈建議直接使用實(shí)測的 BSDF 數(shù)據(jù)進(jìn)行表面散射分布建模。
K-相關(guān)散射模型的參數(shù)輸入
K-相關(guān)散射模型可以被6個(gè)參數(shù)所定義：
R = 表面透射/反射率
dn = 表面邊緣折射率的變化
σ = 整體等效RMS表面粗糙度(μm)
λ = “測量”波長(μm)
B = 2πL，其中 L = 常規(guī)表面波長(mm)
s = 高空間頻率中 BSDF 的 log-log 斜率
等效 RMS 表面粗糙度是在0到1/ λ的空間頻率范圍內(nèi)計(jì)算的，其中選擇非零值λ 是為了給全積分散射 (TIS) 提供一個(gè)有限的歸一化因子。用表面粗糙度的實(shí)驗(yàn)測量來推導(dǎo)K相關(guān)散射的參數(shù)時(shí)，λ 的選擇完全隨機(jī)。λ 用于定義逆截止頻率和計(jì)算測量數(shù)據(jù)的功率譜密度 (PSD)，隨后功率譜密度 (PSD) 將被轉(zhuǎn)換成 BSDF。如果實(shí)驗(yàn)人員在分析測量的表面粗糙度數(shù)據(jù)時(shí)選擇了λ這個(gè)值，則在其他波長下的等效表面粗糙度可根據(jù)以下公式計(jì)算：
如果某一特定表面的可用信息是實(shí)測的 BSDF 數(shù)據(jù)而不是表面粗糙度數(shù)據(jù)，我們強(qiáng)烈建議在 OpticStudio 中對表面散射分布建模時(shí)直接使用實(shí)測的 BSDF 數(shù)據(jù)。
在 OpticStudio 中，表面透射/反射系數(shù) (R)是由表面的膜層（或未設(shè)置膜層）決定的，而表面邊界處的指數(shù)變化 (dn) 則是直接計(jì)算的。
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可以看到我們已經(jīng)在 OpticStudio 中完成了部分反射和散射表面的創(chuàng)建。在本例中使用的工具和概念可以應(yīng)用到更復(fù)雜的系統(tǒng)之中，其中使用到的定義膜層和散射屬性的基本方法都是相同的。
將屬性應(yīng)用到其他表面
假設(shè)我們想在矩形體的側(cè)面和后面也添加相同的膜層和散射屬性以用于后續(xù)的分析。我們可以使用物體屬性中膜層/散射選項(xiàng)卡中的保存 (Save) 功能，將當(dāng)前表面的設(shè)置參數(shù)保存，并快速應(yīng)用到其他表面上。
當(dāng)完成了當(dāng)前表面的膜層/散射設(shè)置后，點(diǎn)擊保存按鈕即可完成設(shè)置參數(shù)的保存。
在彈出的對話框中，您可以將該設(shè)置參數(shù)命名為其他名稱：
保存成功后，您可以在矩形體的其他表面上使用這些參數(shù)設(shè)置：
小結(jié)
通過設(shè)置理想膜層以及定義特定的散射屬性，我們可以在 OpticStudio 中定義部分反射和散射的表面。在 OpticStudio 非序列元件編輯器中的物體屬性中的膜層/散射選項(xiàng)卡下，您可以在物體的不同表面上定義不同的膜層和散射屬性。
通過考慮偏振、分裂光線和散射光線，我們可以對不同散射類型的表面進(jìn)行詳細(xì)的建模。
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并且，如果我們執(zhí)行另一次蒙特卡羅光線追跡，這些光線（5根散射光線都落在探測器上時(shí)）的總能量將始終為0.6W，也就是入射光能量的60%。
并且，當(dāng)追跡光線數(shù)量增加至250萬根并提高探測器分辨率后，我們可以觀察到輻射強(qiáng)度最高的地方依然是正入射的情況，也就是鏡面反射的這部分光線。
可以看到我們已經(jīng)在 OpticStudio 中完成了部分反射和散射表面的創(chuàng)建。在本例中使用的工具和概念可以應(yīng)用到更復(fù)雜的系統(tǒng)之中，其中使用到的定義膜層和散射屬性的基本方法都是相同的。
將屬性應(yīng)用到其他表面
假設(shè)我們想在矩形體的側(cè)面和后面也添加相同的膜層和散射屬性以用于后續(xù)的分析。我們可以使用物體屬性中膜層/散射選項(xiàng)卡中的保存 (Save) 功能，將當(dāng)前表面的設(shè)置參數(shù)保存，并快速應(yīng)用到其他表面上。
當(dāng)完成了當(dāng)前表面的膜層/散射設(shè)置后，點(diǎn)擊保存按鈕即可完成設(shè)置參數(shù)的保存。
在彈出的對話框中，您可以將該設(shè)置參數(shù)命名為其他名稱：
保存成功后，您可以在矩形體的其他表面上使用這些參數(shù)設(shè)置：
小結(jié)
通過設(shè)置理想膜層以及定義特定的散射屬性，我們可以在 OpticStudio 中定義部分反射和散射的表面。在 OpticStudio 非序列元件編輯器中的物體屬性中的膜層/散射選項(xiàng)卡下，您可以在物體的不同表面上定義不同的膜層和散射屬性。
通過考慮偏振、分裂光線和散射光線，我們可以對不同散射類型的表面進(jìn)行詳細(xì)的建模。
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本文旨在介紹如何在OpticStudio中模擬K-相關(guān)分布散射模型，并用實(shí)例分析將該模型與Harvey-Shack (ABg) 散射分布模型進(jìn)行了比較。
（聯(lián)系我們獲取文章附件）
簡介
表面微粗糙度引起的散射通常具有 K-相關(guān)模型 (K-correlation model) 的特征。
1 該模型除了在小散射角區(qū)域有所不同外，與 Harvey-Shack (ABg) 模型十分相似。
在 OpticStudio 中，如果用戶想要使用K-相關(guān)散射模型對表面散射分布進(jìn)行建模，則需要輸入大量的參數(shù)，并且這些參數(shù)都必須由用戶測量。
本文將概述 K-相關(guān)散射模型背后的理論知識，并展示在OpticStudio中建模的實(shí)例。
K- 相關(guān)散射模型
K- 相關(guān)模型的雙向散射分布函數(shù) (BSDF) 由 Dittman
2 提供：
其中s是有效的 RMS 表面粗糙度，
s 是在高空間頻率中 BSDF 的 log-log 斜率，β 則被定義為散射角 (?s) 的正弦減去鏡面反射角/透射角的正弦，上面的公式中的 β對應(yīng) OpticStudio 中的向量x：
我們發(fā)現(xiàn) K-相關(guān)散射分布模型與 Harvey-Shack (ABg) 散射模型非常相似。它們之間的主要區(qū)別在于 K-相關(guān)模型在小散射角度時(shí)會有偏移：
圖
1
：
K-
相關(guān)
與
Harvey-Shack
散射模型的比較。如
Dittman
所述，
K-
相關(guān)模型在小角度處會有偏移，這與在拋光表面上觀察到的散射行為一致。
Dittman 指出這種偏移與在許多拋光表面上觀察到的散射行為是一致的。
展開 
FRED案例展示：繪制表面顆粒（Mie） 散射圖
于大多數(shù)散射模型，透射散射和反射散射之間的BSDF值沒有差異，因此無需指定繪圖是透射還是反射。
然而，表面顆粒 (Mie) 散射模型具有向前和向后的散射分量，在BSDF繪圖中需要加以考慮，但FRED中的默認(rèn)繪圖類型僅適用于反射散射。
本文章中包含的FRED文件加載了一個(gè)嵌入式腳本，該腳本將BSDF數(shù)據(jù)寫入 Microsoft Excel進(jìn)行交互繪圖，并說明該模型在傳輸過程中的應(yīng)用。
①腳本概述
創(chuàng)建繪圖的嵌入式腳本利用FRED軟件功能，可調(diào)用COM和ScatterEval腳本功能與Microsoft Excel等程序進(jìn)行交互。該腳本的偽代碼如下：
1.找到 Mie 散射節(jié)點(diǎn)并獲取其屬性；
2.創(chuàng)建 Excel 應(yīng)用程序?qū)ο蠛凸ぷ鞑疚募?3.開始循環(huán)入射角結(jié)構(gòu)程序；
a.設(shè)置入射和鏡面方向矢量（考慮透射或反射）。
b.開始循環(huán)散射角結(jié)構(gòu)程序。
a.散射角度范圍設(shè)置在 -89.5 °至 89.5 °之間。
b.使用ScatterEval函數(shù)根據(jù)入射向量、鏡面反射向量和散射向量計(jì)算 BSDF 值。
c.將BSDF數(shù)據(jù)導(dǎo)入Excel文件中。
4.在Excel文件中繪制最終結(jié)果。
用于入射、鏡面反射和散射方向矢量的坐標(biāo)系如下圖1所示。在透射的情況下，鏡面方向矢量與入射方向矢量相同。在反射的情況下，鏡面方向矢量在z方向上改變符號。
圖1.方向矢量坐標(biāo)系
除了設(shè)置 Excel 對象和指定方向向量之外，腳本中只有幾個(gè)散射模型本身的特定命令。使用特定于 scatter 的腳本命令包括：
FindScatter–返回散射模型的節(jié)點(diǎn)編號。
ScatterPrepareForEval–對內(nèi)部初始化散射模型進(jìn)行評估。此操作必須在 ScatterEval 命令之前運(yùn)行。
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K-相關(guān)模型的 BSDF 不能進(jìn)行解析積分，但在 OpticStudio 中可以運(yùn)用蒙特卡羅功能來實(shí)現(xiàn)這種散射分布的模擬。如果我們忽略 BSDF 方程中的 cos(?s)項(xiàng)并使 ?i = 0，全積分散射 (TIS) 的近似形式為：
正如我們所看到的，K- 相關(guān)散射模型需要輸入大量的參數(shù)，我們將在下文中更詳細(xì)地介紹這些參數(shù)。
注：如果用戶獲得的特定散射表面信息是實(shí)測的 BSDF 數(shù)據(jù)，而不是通過將實(shí)測表面粗糙度數(shù)據(jù)擬合到 K-相關(guān)模型得到參數(shù)時(shí)，我們強(qiáng)烈建議直接使用實(shí)測的 BSDF 數(shù)據(jù)進(jìn)行表面散射分布建模。
K-相關(guān)散射模型的參數(shù)輸入
K-相關(guān)散射模型可以被6個(gè)參數(shù)所定義：
R = 表面透射/反射率
dn = 表面邊緣折射率的變化
σ = 整體等效RMS表面粗糙度(μm)
λ = “測量”波長(μm)
B = 2πL，其中 L = 常規(guī)表面波長(mm)
s = 高空間頻率中 BSDF 的 log-log 斜率
等效 RMS 表面粗糙度是在0到1/ λ的空間頻率范圍內(nèi)計(jì)算的，其中選擇非零值λ 是為了給全積分散射 (TIS) 提供一個(gè)有限的歸一化因子。用表面粗糙度的實(shí)驗(yàn)測量來推導(dǎo)K相關(guān)散射的參數(shù)時(shí)，λ 的選擇完全隨機(jī)。λ 用于定義逆截止頻率和計(jì)算測量數(shù)據(jù)的功率譜密度 (PSD)，隨后功率譜密度 (PSD) 將被轉(zhuǎn)換成 BSDF。如果實(shí)驗(yàn)人員在分析測量的表面粗糙度數(shù)據(jù)時(shí)選擇了λ這個(gè)值，則在其他波長下的等效表面粗糙度可根據(jù)以下公式計(jì)算：
如果某一特定表面的可用信息是實(shí)測的 BSDF 數(shù)據(jù)而不是表面粗糙度數(shù)據(jù)，我們強(qiáng)烈建議在 OpticStudio 中對表面散射分布建模時(shí)直接使用實(shí)測的 BSDF 數(shù)據(jù)。
展開 表面顆粒（Mie）散射繪圖 Plotting Surface Particulate (Mie) S
對大部分散射模型來說，BSDF值并無差別，因此，也就沒必要指定透射或反射曲線。然而，對于顆粒或Mie散射模型來說，它是一個(gè)體效應(yīng)，不僅有前向散射還有后向散射，這在BSDF繪圖時(shí)需要考慮。
下面文檔及例程是有關(guān)顆粒散射的使用方法，請下載：
Mie Scatter Plotting
http://fred-kb.photonengr.com/files/2011/01/miePlottingExcel.frd
Ansys Zemax | 如何模擬部分反射和散射的表面
在本例中使用的工具和概念可以應(yīng)用到更復(fù)雜的系統(tǒng)之中，其中使用到的定義膜層和散射屬性的基本方法都是相同的。
將膜層/散射應(yīng)用到其他物體
假設(shè)我們想在矩形體的側(cè)面和后面也添加相同的膜層和散射屬性以用于后續(xù)的分析。我們可以使用物體屬性中膜層/散射選項(xiàng)卡中的保存 (Save) 功能，將當(dāng)前表面的設(shè)置參數(shù)保存，并快速應(yīng)用到其他表面上。
當(dāng)完成了當(dāng)前表面的膜層/散射設(shè)置后，點(diǎn)擊保存按鈕即可完成設(shè)置參數(shù)的保存。
在彈出的對話框中，您可以將該設(shè)置參數(shù)命名為其他名稱：
保存成功后，您可以在矩形體的其他表面上使用這些參數(shù)設(shè)置：
KA-01353
展開 電磁散射（RCS）分析解決方案
我們采用業(yè)界公認(rèn)的一些不規(guī)則金屬體的散射為例，參考文獻(xiàn)Benchmark（Benchmark Radar Targets for Validation of Computational Electromagnetics Programs, IEEE Antennas and Propagation Magazine, Vol. 35, No. 1 February 1993）中的測試結(jié)果，給出FEKO軟件的計(jì)算結(jié)果，并與測試結(jié)果對比，可以看到與測試結(jié)果有很好的一致性。
不同頻率（1.19GHz、7.0GHz、9.92GHz）垂直極化、水平極化時(shí)的單站RCS
不同頻率（869MHz、9.0GHz）垂直極化、水平極化時(shí)的單站RCS
介質(zhì)體的RCS分析
對于介質(zhì)結(jié)構(gòu)或包含涂敷吸波材料目標(biāo)體的RCS分析，建議采用FEKO提供的基于面等效原理的矩量法（MoM）、多層快速多極子（MLFMM）或有限元與快速多極子的混合方法（FEM/MLFMM）等進(jìn)行散射特性的精確分析。
全金屬和金屬+復(fù)合材料情況下，水平極化時(shí)的單站RCS、表面散射電流對比
超電大尺寸目標(biāo)體的RCS分析
對于飛機(jī)、導(dǎo)彈、艦船等超電大尺寸目標(biāo)體，精確分析方法往往需要很大的內(nèi)存資源，F(xiàn)EKO提供了高頻PO、RL-GO算法及MOM/PO和MoM/RL-GO混合算法，能夠方便、快速、精確地分析超電大尺寸、復(fù)雜目標(biāo)體的RCS，在硬件資源滿足條件的情況下，采用MLFMM或FEM/MLFMM精確求解。
8 MOM和PO計(jì)算三角反射器的結(jié)果對比
上圖是8個(gè)波長的三角反射器的雙站RCS，我們清楚地看到了PO經(jīng)過修正的效果。未經(jīng)修正的PO計(jì)算結(jié)果，在大角度時(shí)與MOM結(jié)果差距較大，經(jīng)過三次反射修正的PO結(jié)果與MOM結(jié)果非常吻合，而計(jì)算資源下降了幾個(gè)數(shù)量級。
展開 粗糙海面電磁散射的數(shù)值分析
摘要本文介紹了基于譜的粗糙面Ｍｃ模擬方法和表征粗糙面的統(tǒng)計(jì)參量，概述了處理粗糙面電磁散射問題的三種近似方法：基爾霍夫法、微擾法和雙尺度法。討論了基于矩量法的粗糙面電磁散射數(shù)值方法：前后向迭代和小波矩量法。首先分別計(jì)算了基于ＰＭ譜和Ｇａｕｓｓ譜粗糙海面的前后向迭代電磁散射解。然后，分別用直接小波展開和小波變換的日樣條小波Ｇａｌｅｒｋｉｎ矩量法，計(jì)算了基于Ｇａｕｓｓ譜Ｍｃ模擬的粗糙面上的后向電磁散射，并將來自Ｇａｕｓｓ譜粗糙面的ＦＢＭ解和ＷＭＯＭ解分別與有關(guān)文獻(xiàn)作了比較，結(jié)果和文獻(xiàn)吻合的很好。同時(shí)比較了Ｂ樣條基和Ｈａａｒ小波基的伽略金矩量解，它們的值也吻合的很好。本文最后研究了后向雜波對方位角和風(fēng)速的依賴關(guān)系。同時(shí)用修正的雙尺度法研究了Ｋｕ波段、基于Ｆｕｎｇ譜的二維時(shí)變動態(tài)粗糙海面的后向電磁散射，獲得了海雜波的時(shí)序信號，估計(jì)Ｒａｙｌｅｉｇｈ、Ｌｏｇｎｏｒｍａｌ和Ｗｅｉｂｕｌｌ三種典型統(tǒng)計(jì)分布模型的參數(shù)，得到了后向雜波系數(shù)的最佳統(tǒng)計(jì)分布模型。
粗糙海面電磁散射的數(shù)值分析.pdf
展開 【資料】基于聲學(xué)有限元FEM Acoustics的聲學(xué)散射分析方法
基于聲學(xué)有限元FEM Acoustics的聲學(xué)散射分析方法
- 聲學(xué)有限元計(jì)算快，支持直接聲振耦合，所以可計(jì)算更高頻率和精確考慮局部阻尼效應(yīng)等
- 但LMS Virtual.Lab聲學(xué)有限元不支持直接散射場計(jì)算，那在FEM模塊如何獲得純散射聲場（Scattering Field Only）？
來自西門子工業(yè)軟件（北京）有限公司 詹福良博士的資料。
PDF文檔下載：
基于聲學(xué)有限元FEM Acoustics的聲學(xué)散射.pdf
通過仿真分析電磁表面波
值得注意的是，表面等離激元波長（實(shí)部 ）和傳播損耗（虛部 ）隨光子能量或頻率而顯著變化。為了捕捉頻率和 之間的定量關(guān)系，我們使用可變頻率作為 y 軸和 ewfd.beta_1 作為 x 軸繪制它們（由下面動畫中的圓形標(biāo)記顯示）。ewfd.beta_1 是一個(gè)復(fù)數(shù)，但在繪制它時(shí)，默認(rèn)只考慮它的實(shí)部。在研究表面等離激元時(shí)，習(xí)慣上將品質(zhì)因數(shù)（通常稱為 Q 因子）定義為實(shí)部和虛部 的比率。當(dāng) 具有較小的虛部（相當(dāng)于較大的 Q 因子）時(shí)，表面等離激元可以在衰減之前相對于其波長傳播很長的距離。對于生物傳感器和光開關(guān)等實(shí)際應(yīng)用，通常需要較大的 Q 因子。Q 因子可以方便地繪制為色散曲線的顏色表達(dá)式。在這里，我們選擇較亮的顏色來表示較高的 Q 因子，選擇較深的顏色來表示較低的 Q 因子。此外，還添加了一條虛線 ，通常稱為淺色線。淺色線是自由空間光子的頻波矢量色散關(guān)系。最后，將方程 9 中的解析表達(dá)式繪制為實(shí)線。從動畫中可以看出，模擬色散和解析表達(dá)式表現(xiàn)出很好的一致性。
模擬 3.54 eV、3.1 eV 和 2.07 eV 光子能量下的表面等離激元傳播。箭頭表示電場方向和強(qiáng)度。
下面的色散圖非常能代表貴金屬中的表面等離激元色散。該圖有助于深入了解表面等離激元的特征。最重要的是，它表明表面等離激元的色散曲線始終位于光線的右側(cè)。這意味著表面等離激元波長總是小于自由空間光的波長。這就是為什么表面等離激元可以用作壓縮光波長以實(shí)現(xiàn)光場更集中的方法。此外，自由空間光波矢量和表面等離激元波矢量之間的不匹配意味著我們不能僅僅通過將光照射到金屬表面來激發(fā)表面等離激元，還需要一些外部機(jī)制來進(jìn)行波矢量匹配。表面等離激元的激發(fā)通常是通過使用棱鏡的全內(nèi)反射，光柵的衍射，散射體的散射或穿過電子束來完成的。
展開 Ansys Zemax | 表面不規(guī)則度的公差分析
打開公差數(shù)據(jù)編輯器（ Tolerance Data Editor ），按照下圖數(shù)據(jù)設(shè)置公差：
Surf : 進(jìn)行不規(guī)則度分析的表面編號；
MAX# / MIN# ：Zernike多項(xiàng)式最高階/最低階次數(shù)。
一般情況下，如果MAX#數(shù)值較小，那么表面不規(guī)則度的頻率就會降低，表面凹凸就不明顯，反之，如果MAX#數(shù)值較大，那么表面不規(guī)則度的頻率就會升高，表面凹凸劇烈（下面我們會詳細(xì)討論）。
MAX#數(shù)值的選擇需要根據(jù)實(shí)際生產(chǎn)的零件而定，使其能夠與實(shí)際生產(chǎn)過程匹配。同時(shí)，公差分析過程中，OpticStudio會忽略Zernike多項(xiàng)式的第一項(xiàng)，因此Min#的最小值為2。
本例中我們先將MAX# 和MIN#設(shè)置為2和9。
打開Tolerance > Tolerancing，按如下步驟進(jìn)行公差分析：
點(diǎn)擊OK進(jìn)行公差分析,公差分析報(bào)告如下圖所示：
表面不規(guī)則度分析
打開保存的蒙特卡洛分析文件（本例中我們只保存了一個(gè)計(jì)算結(jié)果，當(dāng)然我們也可保存所有計(jì)算結(jié)果）。注意觀察此時(shí)表面2的面型已經(jīng)變?yōu)閆ernike Standard Sag surface。
打開表面矢高分析圖并選擇表面2：Analysis > Surface > Sag
如果我們將MAX#設(shè)置為27，重新進(jìn)行公差分析。再次打開表面矢高分析圖，可以看到相似的結(jié)果，但是產(chǎn)生了更多的“凹凸”。
展開 材料表面分析技術(shù)
表面分析是對固體表面或界面上只有幾個(gè)原子層厚的薄層進(jìn)行組分、結(jié)構(gòu)和能態(tài)等分析的材料物理試驗(yàn)。也是一種利用分析手段，揭示材料及其制品的表面形貌、成分、結(jié)構(gòu)或狀態(tài)的技術(shù)。今天我們一起來看看材料的表面分析技術(shù)。
注塑件表面光澤不良故障分析及排除方法
一、模具故障
由于塑件的表面是模具型腔面的再現(xiàn)，如果模具表面有傷痕，腐蝕，微孔等表面缺陷，就會復(fù)映到塑件表面產(chǎn)生光澤不良。若型腔表面有油污，水分，脫模劑用量太多或選用不當(dāng)，也會使塑件表面發(fā)暗。
因此，模具的型腔表面應(yīng)具有較好的光潔度，最好采取拋光處理或表面鍍鉻。型腔表面必須保持清潔，及時(shí)清除油污和水漬。脫模劑的品種和用量要適當(dāng)。
模具溫度對塑件的表面質(zhì)量也有很大的影響，通常不同種類的塑料在不同模溫條件下表面光澤差異較大，模溫過高或過低都會導(dǎo)致光澤不良。若模溫太低，熔料與模具型腔接觸后立即固化，會使模具型腔面的再現(xiàn)性下降。
為了增加光澤，可適當(dāng)提高模溫，最好是采用在模具冷卻回路中通入溫水的方法，使熱量在型腔中訊速傳遞，以免延長成型周期，這種方法還可減少成型中殘余應(yīng)力。一般情況下，除聚苯乙烯，ABS，AS外，模溫可控制在100度以上。但須注意，若模溫太高，也會導(dǎo)致塑件表面發(fā)暗。
此外，脫模斜度太小，斷面厚度突變，筋條過厚以及澆口和澆道截面太小或突然變化，澆注系統(tǒng)剪切作用太大，熔料呈湍流態(tài)流動，模具排氣不良等模具故障都會影響塑件的表面質(zhì)量，導(dǎo)致表面光澤不良。
二、成型條件控制不當(dāng)
如果注射速度太快或太慢，注射壓力太低，保壓時(shí)間太短，增壓器壓力不夠，緩沖墊過大，噴嘴孔太小或溫度太低，纖維增強(qiáng)塑料的填料分散性能太差，填料外露或鋁箔狀填料無方向性分布，料筒溫度太低，熔料塑化不良以及供料不足，都會導(dǎo)致塑件表面光澤不良。對此，應(yīng)針對具體情況進(jìn)行調(diào)整。
若在澆口附近或變截面處產(chǎn)生暗區(qū)，可通過降低注射速率，改變澆口位置，擴(kuò)大澆口面積以及在變截面處增加圓弧過渡等到方法予以排除。
若塑件表面有一層薄薄的乳白色，可適當(dāng)降低注射速度。
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