ansys定義元件的意義的案例
可編程元件的自定義幫助
摘要
VirtualLab為您提供多種工具來實現自定義光源、組件、探測器等，這些自定義是由模塊和代碼段完成的。通過在VirtulLab中使用代碼段，可以調整光學設置的特定部分，例如可編程的高度輪廓。
對于此類自定義對象，可以使用代碼段幫助文檔。幫助文檔可以保存關于這些用戶定義元件的附加信息，并使其易于跟蹤、共享和分配。
可編程元件
? 在這個示例中，我們使用可編程光源進行演示，而且它的工作方式與VirtualLab中所有其他可編程元件相似。
? 雙擊光源，彈出編輯窗口。
可編程光源
? 我們使用可編程光源進行演示，而且它的工作方式與VirtualLab中所有其他可編程元件相似。
? 雙擊光源進入編輯窗口，點擊空間參數選項卡。
算法代碼段
? 然后，單擊代碼段部分的Edit按鈕，將彈出一個源代碼編輯器
代碼段幫助
? 在源代碼編輯器的幫助下，您可以添加諸如標題、作者、版本號、最后修改日期和代碼段的大概描述之類的信息。
代碼段幫助
? 接下來，轉到選項卡的全局參數，在這里，您可以通過點擊圖標來描述每個參數。
代碼段幫助
? 在保存更改后，通過單擊help按鈕，可以在概覽中顯示關于參數的幫助信息和注釋。
文件信息
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Ansys Zemax | 如何使用 ISO 元件制圖工具
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ISO 元件制圖( ISO Element Drawing )能夠對用于生產的系統元件進行詳細說明。本文對該工具進行了概述，并將其用于單透鏡。
簡介
為了對用于生產的元件進行詳細說明，光學工程師需要向制造商提供一些信息，如元件半徑、厚度、材料、直徑等，以及所有相關的公差。ISO 元件制圖可用于創建符合 ISO 10110 標準的單個表面、單透鏡或雙膠合透鏡的圖紙。由于該標準廣泛應用于光學制造行業，因此該輸出圖紙非常適合在光學制造中使用。
ISO 元件制圖簡介
本文將 ISO 元件制圖工具用于單透鏡。該工具的輸出是元件的截面圖，以及物理特性和公差的相關信息。本文附件中包含文中所使用的文件，該系統是焦距為75mm的單透鏡，且其公差已經確定。
ISO 元件制圖位于公差 ( Tolerance ) 選項卡下的加工圖紙與數據 ( Manufacturing Drawing and Data ) 部分。
首先，展開此工具的設置，并在常規 ( General ) 選項卡中選擇要繪制的元件的起始面；然后，選擇元件類型：表面、單透鏡或雙膠合透鏡。在本例中，元件位于第二個表面，為單透鏡。
除了常規選項卡之外，請注意元件的每個表面（在本例中為左表面和右表面）將各有兩個選項卡，用戶可以輸入與 ISO 10110 制圖代碼3-4和5-6對應的數據。
展開 ANSYS模態分析結果中各項數據的物理意義 ￥100
<p>ANSYS模態分析結果中各項數據的物理意義</p><p>在對結構進行地震響應分析之前，通常先對結構進行模態分析以了解結構的動力特性（自振周期和振型）。</p><p>常用的模態分析方法：Block Lanczos法、PCG Lanczos法、縮減法和非對稱法。</p><p><strong>ANSYS模態分析的結果文件包含哪些信息呢？在此以下表為例進行說明。</strong></p><p><img src="https://img.jishulink.com/msimage/202402/4246ee8fae42785e42332fe4e91e3106.png"></p><p>1 MODE 模態階數</p><p>2 FREQUENCY 頻率（Hz）</p><p>3 PERIOD 周期（s）</p><p>4 PARTIC. FACTO 振型參與系數（每個質點質量與其在某階振型中相應坐標乘積之和與該階振型模態質量之比）</p><p>5 RATIO 比率（振型參與系數與一階振型參與系數之比）</p><p>6 EFFECTIVE MASS 振型等效質量（振型參與系數的平方與振型模態質量之比）</p><p>7 CUMULATIVE MASS FRACTION 累計質量分數/有效質量系數（為第一階到該階振型等效質量之和與總等效質量之比）</p><p>8 RATIO EFF. MASS TO TOTAL MASS 振型等效質量與總質量之比</p><p><br></p><p>此外，還有如下幾個相關概念：</p><p>1 振型參與質量（該階振型的模態質量與振型參與系數平方之積）</p><p>2 振型參與質量系數（所取振型參與質量之和與總質量之比）</p><p>3 模態質量/振型質量（第i階振型的廣義質量）</p><p>4 質量參與系數（該振型的基底剪力與總質量之比）</p>
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Ansys Zemax | 如何使用 ISO 元件制圖工具
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ISO 元件制圖( ISO Element Drawing )能夠對用于生產的系統元件進行詳細說明。本文對該工具進行了概述，并將其用于單透鏡。
簡介
為了對用于生產的元件進行詳細說明，光學工程師需要向制造商提供一些信息，如元件半徑、厚度、材料、直徑等，以及所有相關的公差。ISO 元件制圖可用于創建符合 ISO 10110 標準的單個表面、單透鏡或雙膠合透鏡的圖紙。由于該標準廣泛應用于光學制造行業，因此該輸出圖紙非常適合在光學制造中使用。
ISO 元件制圖簡介
本文將 ISO 元件制圖工具用于單透鏡。該工具的輸出是元件的截面圖，以及物理特性和公差的相關信息。本文附件中包含文中所使用的文件，該系統是焦距為75mm的單透鏡，且其公差已經確定。
ISO 元件制圖位于公差 ( Tolerance ) 選項卡下的加工圖紙與數據 ( Manufacturing Drawing and Data ) 部分。
首先，展開此工具的設置，并在常規 ( General ) 選項卡中選擇要繪制的元件的起始面；然后，選擇元件類型：表面、單透鏡或雙膠合透鏡。在本例中，元件位于第二個表面，為單透鏡。
除了常規選項卡之外，請注意元件的每個表面（在本例中為左表面和右表面）將各有兩個選項卡，用戶可以輸入與 ISO 10110 制圖代碼3-4和5-6對應的數據。“代碼3-4 ( Codes 3-4 )”包括曲率半徑 ( Radius )、圓錐系數 ( Conic )、有效直徑 ( Effective Diameter )、直徑( Diameter )、直徑（平的）( Diameter ( flat ) )、膜層 ( Coating )、面形和中心公差 ( Form and Centering Errors )。
展開 直播 | Ansys磁性元件及開關電源設計解決方案
4月，Ansys官方及其渠道合作伙伴將推出多場線上活動，Ansys官方主辦的Ansys 2021 R1新品發布系列網絡研討會仍在火熱進行中，合作伙伴也將推出6場線上網絡研討會，第二場報名鏈接已開放，歡迎大家報名，其他場次報名敬請期待。
4月14日 | 【Ansys*恩碩科技】Ansys磁性元件及開關電源設計解決方案
簡介：開關電源(SMPS)是重要的電力電子設備，廣泛應用于各類消費電子、工業自動化、電力設備、航空航天、軌道交通等領域。開關電源的研發通常需要關注它的電路功能實現、損耗、發熱及EMC等問題。解決這些問題最先進的方法是利用CAE技術，使仿真與試驗、經驗相結合，形成互補，從而提升研發設計能力，有效指導新產品的研發設計，節省產品開發成本，縮短開發周期，從而大幅度提高企業的市場競爭力。
合作伙伴：武漢恩碩科技有限公司
地點：線上
費用：免費
>>點擊報名：https://v.ansys.com.cn/Live/8d5be559?source=jishulink
4月19日 | 【Ansys*恒士達】LS-DYNA混凝土本構72號模型簡介
簡介：LS-DYNA中有多種用于三維實體單元的混凝土本構模型，其中，72號材料本構模型運用得比較廣泛，本次研討會主要介紹72號材料本構模型的原理、使用方法以及優缺點和適用范圍。可以幫助LS-DYNA用戶能夠正確設定數值參數并在工程應用中合理使用72號材料。
展開 Ansys Zemax | 如何傾斜和偏心序列光學元件
傾斜/偏心元件工具
但是，難道沒有更簡單的方法來做到這一切嗎？有！傾斜/偏心元件工具。
這是傾斜/偏心光學元件的簡單方法。重新打開 start point.zmx，然后單擊“鏡頭數據編輯器”菜單中的 Tilt/Decenter Elements 圖標，然后輸入所需的任何傾斜/偏轉數據，例如：
Ansys Zemax | 設計衍射光學元件（DOE）和超透鏡（metalens）
在這篇文章中，我們簡要介紹了使用 OpticStudio 設計衍射光學元件（DOE）和超透鏡（metalens）的過程。我們討論了相位面和局部光柵的概念。附件中還提供了一些有用的DLLs，以支持特殊的 DOE 或 metalens 設計方法。（聯系我們獲取文章附件）
本文討論了衍射光學元件（DOE）和超透鏡（metalens）的設計過程。主要目的是為剛接觸這個課題的設計者提供一個起點，看看 OpticStudio 有哪些方法可使用。
對包括 DOE/metalens 在內的系統進行模擬和設計總是很棘手，沒有通用的方法來處理所有情況。設計師需要根據具體情況決定其設計策略。許多情況下設計過程中需要兩種不同的光學理論/算法來分別處理光束在自由空間和微觀結構中的傳播[1-3]，而也有一些設計單純只使用光線追跡來實現。[4]
在這篇文章中，我們首先簡要介紹了一些可能的設計思路。有關自由空間和 DOE/metalens 中的相位面和傳播方法概念的更多細節將在后面討論。在最后一節，介紹了為特殊相位面設計定制的一些有用的 DLLs。
1. 設計思路
在這一節中，我們簡要地討論了一些經典的設計思路。
1.1 相位 -> 微結構 -> 實驗驗證
在這一過程中，用戶首先將 DOE/metalens 等效為其對應的相位面來在 OpticStudio 中用光線追跡的方法進行設計。然后根據得到的相位分布來設計微結構。圖1顯示了該過程的流程圖。該圖不包括設計的細節，例如，微結構可以是傳統閃耀光柵或現代超透鏡。根據微結構的類型，所需的設計和制造方法可能非常不同。
參考文獻[5]顯示了一個從給定的相位分布生成閃耀光柵的例子。它還討論了采用單點金剛石車削機的制造方式。
展開 Ansys Lumerical | 光子集成電路光電元件設計
在 PIC 中，電光調制器和光電探測器是實現這些轉換的基本光電元件。
隨著對帶寬、功效和靈敏度的需求不斷增長，需要尖端的仿真技術將器件模型與制造工藝及其完整的多物理場行為聯系起來。將 Silvaco Victory Process 與 Ansys Lumerical 軟件相結合，實現支持 TCAD 的光子器件仿真，為設計師和工程師提供了必要的工具，可以完整準確地預測、分析和優化光電器件的行為。
工作流概述
光子集成電路 (PIC) 的光電元件設計始于對物理結構和摻雜分布的精確建模，這些結構和摻雜分布定義了器件的光學和電學行為。目標是創建一個能夠反映制造后的器件的物理模型。設計流程從制造工藝的輸入開始：材料和掩模圖案與蝕刻、注入、退火和生長條件相結合。雖然結構的幾何 CAD 模型可以作為早期設計探索的起點，但使用 Silvaco Victory Process 進行工藝仿真對于建立制造步驟和最終物理結構之間的聯系是必不可少的。圖 1 說明了使用 Victory Process 輸入進行光子器件仿真的工作流程。
圖 1. Ansys Lumerical 光子器件仿真工作流程，其中采用 Silvaco Victory Process 的 TCAD 輸入
幾何效應（例如受蝕刻影響的側壁角度和共形沉積的層界面）對于精確仿真光傳播非常重要 [1]。在光電器件中，注入分布的定義受制造工藝限制，對于包括調制效率、暗電流和相關探測器靈敏度以及帶寬在內的品質因素實現最佳性能取舍至關重要。在這里，Silvaco Victory Process 再次成為將這些特定行為與制造輸入聯系起來的必要條件。
一旦仿真了物理結構（包括材料界面和摻雜分布），就可以輕松地將其從 Silvaco Victory Process 導出并導入 Ansys Lumerical 仿真工具。
展開 Ansys Zemax | 如何傾斜和偏心序列光學元件
傾斜/偏心元件工具
但是，難道沒有更簡單的方法來做到這一切嗎？有！傾斜/偏心元件工具。
這是傾斜/偏心光學元件的簡單方法。重新打開 start point.zmx，然后單擊“鏡頭數據編輯器”菜單中的 Tilt/Decenter Elements 圖標，然后輸入所需的任何傾斜/偏轉數據，例如：
Ansys Zemax｜OpticStudio 如何讓光學元件繞空間任意一點傾斜
在表面12后面再插入坐標間斷面(表面13)，將透鏡2后的光學元件返回到初始結構位置。
任何光學元件都可以使用相同的方法，在任意坐標系統偏心和傾斜光學元件。
最后一個注意事項：當設置軸外點中心點時，我們可以隱藏一些坐標間斷面。當我不經常更改中心點位置時，這樣可以簡化鏡頭數據編輯器。下圖顯示了簡化之后的鏡頭數據編輯器。點擊需要隱藏的表面，右擊選擇“隱藏面”，即可隱藏該表面。
總結
坐標間斷可以以任何一點為中心傾斜和偏心光學表面或者光學元件組，而保持其他光學元件位置不變。
通常，為了使鏡頭元件傾斜或者偏心，首先將坐標間斷移動到我們期望的中心點，進行傾斜或者偏心，并從中心點返回。在鏡頭元件后，以同樣的操作撤銷元件后面光學元件的偏心或傾斜。
該方法適用于任何傾斜或者偏心的組合。
使用全局坐標來檢查坐標中斷是否設置準確。
為了簡化鏡頭數據編輯器，隱藏不經常使用的行。
展開 
ANSYS SPEOS眩光分析 | 光不僅要亮，更要亮得有意義！
ANSYS SPEOS可對建筑模型進行光環境模擬，設置不同入射角度的太陽光，并采用多角度探測器，對整體的環境進行模擬分析，還可以進行沉浸式視覺效果分析，最大程度找出眩光產生的位置，并優化相關設計方案。
結語
最近的一項研究表明，有三分之一的人類已經無法看到我們所在的星系——銀河系。為什么呢？數以百萬計的城市燈火每晚照亮著我們的城市，但這之中只有一部分光線被真正用來照亮街道或人行道——其余的光線則遺失并反射到地平線以上，照亮了夜空，造成了所謂光污染。
從這個意義上說，經過深思熟慮的設計后而選擇正確的人造光，不要讓它迷失方向，對減少光污染至關重要。Better Light, better life!
展開 Ansys Zemax | 如何使用 Binary2 面型設計衍射光學元件
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概述
這篇文章介紹了如何在 OpticStudio 中建立衍射光學表面以及如何使用 Binary2（二元面2）模擬衍射光學元件。本文使用的示例文件請聯系工作人員下載。
Binary2 面型
Zemax LLC 感謝 Optics1 公司的 Robert E.Fischer 先生授權使用其著作《Optical System Design》中的圖表。
在 OpticStudio 中，許多表面除了可以定義折射光焦度以外，還可以定義衍射光焦度。衍射光焦度與材料折射率和表面矢高無關，但可以改變光的相位。有關建立衍射光學表面的詳細信息，見文章“OpticStudio 建模衍射光學表面”。
Binary2 中的衍射光焦度會在光學表面的截面上引入連續的相位變化：
其中系數 Ai 的單位為弧度。
由于相位變化在表面的截面上是連續的，因此 Binary2 面型模擬的是一個理想的二元衍射元件，其二元面的臺階尺寸趨近于無窮小或小于光的波長。
通常來講，Binary2 面型模擬衍射光學元件的環形衍射區 ( Diffraction Zones) 的尺寸與該區域到表面頂點的徑向距離有關，如下圖所示。OpticStudio 可以自動計算每個環形衍射區的徑向坐標使相鄰區域的相位差為 2π。
Binary2 面型在固定徑向坐標處所引入的附加相位與波長無關。與波長相關的光程由下式給出：
下圖布局圖所示為 Binary2 的色差：
Binary2 消色差單透鏡
Binary2 面型經常用來矯正色差。在一個簡單的單透鏡中，長波長光的焦距相比短波長的光更長，如下圖（a）。
展開 Ansys Zemax | 如何在OpticStudio中設計衍射光學元件（DOE）和超透鏡（metalens）
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本文討論了衍射光學元件（DOE）和超透鏡（metalens）的設計過程。主要目的是為剛接觸這個課題的設計者提供一個起點，看看OpticStudio有哪些方法可使用。
對包括DOE/metalens在內的系統進行模擬和設計總是很棘手，沒有通用的方法來處理所有情況。設計師需要根據具體情況決定其設計策略。許多情況下設計過程中需要兩種不同的光學理論/算法來分別處理光束在自由空間和微觀結構中的傳播，而也有一些設計單純只使用光線追跡來實現。
在這篇文章中，我們首先簡要介紹了一些可能的設計思路。有關自由空間和DOE/metalens中的相位面和傳播方法概念的更多細節將在后面討論。在最后一節，介紹了為特殊相位面設計定制的一些有用的DLLs。
1. 設計思路
在這一節中，我們簡要地討論了一些經典的設計思路。
1.1 相位 -> 微結構 -> 實驗驗證
在這一過程中，用戶首先將DOE/metalens等效為其對應的相位面來在OpticStudio中用光線追跡的方法進行設計。然后根據得到的相位分布來設計微結構。圖1顯示了該過程的流程圖。該圖不包括設計的細節，例如，微結構可以是傳統閃耀光柵或現代超透鏡。根據微結構的類型，所需的設計和制造方法可能非常不同。
參考文獻[5]顯示了一個從給定的相位分布生成閃耀光柵的例子。它還討論了采用單點金剛石車削機的制造方式。圖1所示的例子可以在附件 " phase profile example.zar "中找到。另外，參考文獻[3]顯示了如何使用Lumerical FDTD軟件為給定的相位分布設計metalens。
這種方法的缺點是，設計者可能無法檢查整個系統的性能。例如，沒有辦法檢查考慮所有衍射階數的真實點擴散函數（PSF）。
展開 ANSYS里的自定義失效準則怎么定義的？
想請教各位：
ANSYS里的自定義失效準則怎么定義的呢？一定要用UPFs編用戶子程序才行嗎？UPFs看起來非常復雜啊，怎么辦？
又沒有人做過這個阿？
謝謝了！！！！
