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ansys如何模擬滲流的案例

如何ANSYS模擬非線性三維隔震支座 ¥299
最近有很多同學(xué)聯(lián)系我,問到如何數(shù)值模擬三維隔震支座。假期加個(gè)班,做個(gè)算例分析。 1. 包含的內(nèi)容 (1)算例模型命令流 (2)三維隔震支座命令流 (3)計(jì)算過程excel文件 (4)建筑隔震橡膠支座規(guī)范 (5)常用隔震支座的設(shè)計(jì)參數(shù) 2. 進(jìn)階內(nèi)容(需另付費(fèi),有需要可聯(lián)系) (1)隔震支座在ANSYS中的批量建模方法,預(yù)計(jì)時(shí)間2024年02月 (2)如何在ABAQUS中模擬非線性單位隔震支座(連接器單元),預(yù)計(jì)時(shí)間2024年03月 3. 解決的問題 (1)如何ANSYS模擬橡膠隔震支座? (2)如何確定隔震模型的力學(xué)參數(shù)與隔震支座設(shè)計(jì)參數(shù)的定量對(duì)應(yīng)關(guān)系? (3)如何模擬隔震支座的非線性特性? (4)如何驗(yàn)證隔震支座模擬的正確性? 4. 隔震模型的力學(xué)參數(shù)與隔震支座設(shè)計(jì)參數(shù)的定量對(duì)應(yīng)關(guān)系 我們知道,實(shí)際應(yīng)用中,我們可以采用廠家提供的標(biāo)準(zhǔn)型號(hào)的隔震支座,也可以訂制特殊類型的隔震支座,不管采用那種形式,在仿真模擬時(shí),我們都要將設(shè)計(jì)參數(shù)與隔震模型的力學(xué)參數(shù)對(duì)應(yīng)起來(lái),從而進(jìn)行力學(xué)分析。 ANSYS中并沒有特定的隔震單元,但提供了一系列的彈簧-阻尼器單元,可以通過組合單元模擬隔震支座的力學(xué)特性。采用COMBIN14單元模擬隔震支座的豎向剛度,COMBIN14又稱彈簧-阻尼器單元,具有1D、2D和3D的軸向或扭轉(zhuǎn)能力。軸向彈簧-阻尼器為單軸拉壓行為,每個(gè)單元有2個(gè)節(jié)點(diǎn),每個(gè)節(jié)點(diǎn)有3個(gè)自由度,即沿著X、Y和Z方向的三個(gè)平動(dòng)或轉(zhuǎn)動(dòng)位移。水平方向上,采用COMBIN40單元模擬隔震支座的水平剛度和阻尼,COMBIN40單元將彈簧、滑塊和阻尼器并聯(lián),再用串聯(lián)的方式與間隙耦合形成組合體,適用于多種情況的分析。該單元可以引入雙線性強(qiáng)化模型,并考慮粘滯阻尼的影響。詳細(xì)參考《ANSYS結(jié)構(gòu)分析單元與應(yīng)用》。
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Ansys Zemax | 如何模擬掃描鏡
繞偏心點(diǎn)旋轉(zhuǎn) 在前一個(gè)例子中,我們展示了如何讓反射鏡面繞著它的頂點(diǎn)轉(zhuǎn)動(dòng),這在模擬檢流計(jì)式的掃描振鏡或者類似類型的反射鏡時(shí)非常有用。然而當(dāng)掃描鏡是多邊形幾何體的一部分時(shí),它需要繞著一個(gè)距離鏡面頂點(diǎn)一定距離的點(diǎn)轉(zhuǎn)動(dòng)。這時(shí)我們應(yīng)該如何設(shè)置呢? 我們需要把鏡面的旋轉(zhuǎn)點(diǎn)放在多邊形掃描鏡的中心位置。假設(shè)鏡面頂點(diǎn)和多邊形幾何體中心的間距是50mm。在檢流計(jì)式掃描振鏡系統(tǒng)的基礎(chǔ)上做如下修改: 這樣修改可以把掃描鏡的旋轉(zhuǎn)點(diǎn)向遠(yuǎn)離鏡面的方向移動(dòng)50mm。然后,打開掃描鏡的表面屬性 (Surface Properties),在繪圖 (Draw) 選項(xiàng)卡中將鏡面的基底厚度設(shè)置為50mm,如下圖所示: 這樣我們可以清楚的看到鏡面的旋轉(zhuǎn)點(diǎn)位置: 您可以打開示例文件中的Polygon.zmx文件查看當(dāng)前系統(tǒng)。 小結(jié) 模擬掃描鏡分以下幾個(gè)步驟: 使用“添加反射鏡”工具,在鏡面的初始位置設(shè)置反射鏡 使用“旋轉(zhuǎn)/偏心元件”工具,設(shè)置反射鏡面的掃描角度 將掃描角度設(shè)置為一個(gè)多重結(jié)構(gòu)參數(shù) 根據(jù)使用需要,定義多個(gè)結(jié)構(gòu),對(duì)鏡面的掃描過程進(jìn)行采樣 也可以利用優(yōu)化菜單中的滑塊功能模擬鏡面的掃描運(yùn)動(dòng) 如果掃描鏡的旋轉(zhuǎn)點(diǎn)不在反射鏡表面上,則可使用坐標(biāo)間斷面的厚度參數(shù)來(lái)定義旋轉(zhuǎn)點(diǎn)與鏡面表面的距離
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Ansys Zemax|如何有效地模擬散射
附件下載 聯(lián)系工作人員獲取附件 概要 OpticStudio中,有兩個(gè)用來(lái)提升散射模擬效率的工具:Scatter To List以及Importance Sampling。在這篇文章中,我們?cè)敿?xì)討論了這兩個(gè)工具,并且以一個(gè)雜散光分析為例示范了如何使用Importance Sampling。 如何有效的模擬散射 對(duì)于絕大多數(shù)光學(xué)系統(tǒng)進(jìn)行散射模擬是非常重要的,尤其在雜散光分析中散射模擬更是關(guān)鍵所在。Zemax OpticStudio有很多內(nèi)建散射模型,這些模型支持使用者輸入任何散射分布。在非序列光線追跡中,需要使用非常多的光線射向模擬物件才能精確而適當(dāng)?shù)?em>模擬散射分布。特別是當(dāng)觀察目標(biāo)相對(duì)于散射點(diǎn)占據(jù)的立體角很小時(shí),這個(gè)問題會(huì)更加嚴(yán)重。最簡(jiǎn)單直接的辦法就是增加入射或是散射的光線數(shù)量使更多的光線到達(dá)要觀察目標(biāo)。但是追跡更多光線會(huì)需要更多的時(shí)間,因此模擬散射就變的非常費(fèi)時(shí)。 在OpticStudio中,我們可以使用“Scatter To List”來(lái)改進(jìn)散射模擬效率,此設(shè)定強(qiáng)制系統(tǒng)只追跡那些散射到指定物件的光線而忽略其他光線。不過這并不是說光線一定會(huì)散射到指定物件上,因此對(duì)于大量光線模擬這種方法并不能改善太多。另一個(gè)OpticStudio中的“Importance Sampling”設(shè)定,則可以大幅地增進(jìn)散射模擬的效率。這兩個(gè)工具都可以在Object Properties的Scatter To標(biāo)簽中找到。 Importance Sampling原理上與Scatter To List大不相同。如果我們?cè)贗mportance Sampling中加入一個(gè)物件,OpticStudio則會(huì)以這個(gè)物件為中心畫出一個(gè)虛擬的球體,然后所有的散射光將只會(huì)往這個(gè)球體過去。
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Ansys Zemax | 如何模擬雙折射偏振器件
這篇文章介紹了什么是雙折射現(xiàn)象、如何在OpticStudio中模擬雙折射 (birefringence)、如何模擬雙晶體的雙折射偏振器以及如何計(jì)算偏振器的消光比。(聯(lián)系我們獲取文章附件) 什么是雙折射現(xiàn)象 一般的光學(xué)材料都是均勻的各向同性的,也就是說無(wú)論光從哪個(gè)方向穿過材料,其折射率都保持一致。對(duì)于單軸材料來(lái)說,例如方解石 (Calcite),其晶軸定義了材料的對(duì)稱軸。這類材料對(duì)光線的偏折能力隨入射光的偏振態(tài)及入射光與晶軸的夾角不同而不同。因此對(duì)于任意一束光,兩個(gè)正交的偏振態(tài)下可能存在不同的折射角。這種現(xiàn)象稱為光的雙折射。 光線在雙折射材料中的折射總是遵循斯涅耳定律 (Snell`s Law) 的,但是材料中的有效折射率與入射光的偏振態(tài)和入射方向與晶軸夾角相關(guān)。其中“尋常光 (Ordinary)”的折射角由下式定義: 其中no為尋常光的折射率,這是斯涅耳定律的一般形式。“非尋常光 (Extraordinary)”的折射角由下式定義: 該式同樣遵循斯涅耳定律,但是此時(shí)的折射率是角度θw的函數(shù),該角度表示晶軸向量a和折射光波矢k的夾角。 光線向量S指向能量傳播方向。在普通材料中,光線向量S與波矢k為同一向量,此時(shí)我們使用k表示。但在雙折射材料中,光線向量S與波矢k的方向存在較小的夾角,因此需要單獨(dú)考慮。其中向量S和k與晶軸向量a共面且滿足: 非尋常光的有效折射率由下式定義: 其中ne為非尋常折射率。 雙折射輸入面 準(zhǔn)確的進(jìn)行雙折射光線的追跡要比追跡普通光線復(fù)雜的多:我們必須分別考慮尋常光和非尋常光的折射率和波矢方向。
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ansys如何模擬滲流圖1
Ansys Zemax | 如何在 OpticStudio 中模擬人眼
點(diǎn)擊圖片查看培訓(xùn)詳情 相關(guān)閱讀 Ansys Zemax | 模擬 AR 系統(tǒng)中的全息光波導(dǎo):第一部分 Ansys Zemax | 如何設(shè)計(jì)單透鏡 第一部分:設(shè)置 Ansys Zemax | 如何使用漸暈系數(shù) Ansys Zemax | 使用 OpticStudio 進(jìn)行閃光激光雷達(dá)系統(tǒng)建模(中) Ansys Zemax | HUD 設(shè)計(jì)實(shí)例 Ansys Lumerical | 針對(duì) Grating coupler 的仿真分析方法 歡迎掃碼添加宇熠工作人員微信, 進(jìn)入 zemax 微信交流群。 一起來(lái)學(xué)習(xí)光學(xué)設(shè)計(jì)吧! 掃碼邀您入群 如果您對(duì)產(chǎn)品感興趣,或需要技術(shù)支持,歡迎致電垂詢!
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ANSYS知識(shí)普及6——如何模擬球鉸連接(ANSYS專家編輯,非原創(chuàng),歡迎轉(zhuǎn)摘)
本人準(zhǔn)備出一個(gè)ANSYS知識(shí)普及系列,將有用的網(wǎng)上資料歸攏,由于知識(shí)水平有限,不對(duì)之處請(qǐng)諒解。也歡迎各位網(wǎng)友提供好的資料分享,讓我們共同完成這個(gè)ANSYS知識(shí)普及系列。 編輯人:技術(shù)鄰ANSYS專家 業(yè)務(wù)咨詢網(wǎng)址:http://www.yqgqt.org.cn/content/other/402981 (打個(gè)小廣告) 聲 明:1、ANSYS知識(shí)普及系列中所有資料均來(lái)自網(wǎng)上; 2、如侵犯知識(shí)產(chǎn)權(quán),請(qǐng)聯(lián)系ANSYS專家本人或者技術(shù)鄰,我將第一時(shí)間刪除。 小技巧:加本人關(guān)注,可以及時(shí)觀看本人發(fā)布的技術(shù)貼 MPC單元詳解(2) MPC184單元描述 MPC184包括使用拉格朗日乘子法實(shí)現(xiàn)運(yùn)動(dòng)約束的一類常用的多點(diǎn)約束單元。這些單元可以簡(jiǎn)單地分為“約束單元”或“連接單元”。 用戶可以在一些需要施加運(yùn)動(dòng)約束的場(chǎng)合中使用這些單元。這些約束可以簡(jiǎn)單到鉸鏈上的具有相同的位移值,也可以復(fù)雜到包括模型的剛性部分,或者在柔性體之間以某一特定方式傳遞運(yùn)動(dòng)的運(yùn)動(dòng)約束。例如,結(jié)構(gòu)中可能包含一些剛性部件或者通過轉(zhuǎn)動(dòng)或滑塊約束連接在一起的運(yùn)動(dòng)部件。結(jié)構(gòu)的剛性部分可以使用MPC184的剛性桿或剛性梁?jiǎn)卧獊?lái)模擬,運(yùn)動(dòng)部分可以使用MPC184的滑塊,球鉸,銷軸和萬(wàn)向聯(lián)軸器單元模擬。因?yàn)檫@些單元使用拉格朗日乘子法實(shí)現(xiàn),ANSYS能夠輸出約束反力和力矩。 約束單元 如果沒有其它說明,使用這些單元時(shí),三維單元選項(xiàng)(KEYOPT(2) = 0)為默認(rèn)值。 1.球鉸模型 球鉸 設(shè)置KEYOPT(1) = 5來(lái)定義二節(jié)點(diǎn)的球鉸。兩個(gè)節(jié)點(diǎn)必須重合。3維球鉸每個(gè)節(jié)點(diǎn)有三個(gè)自由度(x,y和z方向平移)。2維球鉸單元(KEYOPT(2) = 1)每個(gè)節(jié)點(diǎn)有二個(gè)自由度(x,y方向平移)。
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ANSYS知識(shí)普及5——如何模擬銷軸連接(ANSYS專家編輯,非原創(chuàng),歡迎轉(zhuǎn)摘)
本人準(zhǔn)備出一個(gè)ANSYS知識(shí)普及系列,將有用的網(wǎng)上資料歸攏,由于知識(shí)水平有限,不對(duì)之處請(qǐng)諒解。也歡迎各位網(wǎng)友提供好的資料分享,讓我們共同完成這個(gè)ANSYS知識(shí)普及系列。 編輯人:技術(shù)鄰ANSYS專家 業(yè)務(wù)咨詢網(wǎng)址:http://www.yqgqt.org.cn/content/other/402981 (打個(gè)小廣告) 聲 明:1、ANSYS知識(shí)普及系列中所有資料均來(lái)自網(wǎng)上; 2、如侵犯知識(shí)產(chǎn)權(quán),請(qǐng)聯(lián)系ANSYS專家本人或者技術(shù)鄰,我將第一時(shí)間刪除。 小技巧:加本人關(guān)注,可以及時(shí)觀看本人發(fā)布的技術(shù)貼 MPC184單元詳解(1) 1.銷軸模型 MPC184單元描述 MPC184包括使用拉格朗日乘子法實(shí)現(xiàn)運(yùn)動(dòng)約束的一類常用的多點(diǎn)約束單元。這些單元可以簡(jiǎn)單地分為“約束單元”或“連接單元”。 用戶可以在一些需要施加運(yùn)動(dòng)約束的場(chǎng)合中使用這些單元。這些約束可以簡(jiǎn)單到鉸鏈上的具有相同的位移值,也可以復(fù)雜到包括模型的剛性部分,或者在柔性體之間以某一特定方式傳遞運(yùn)動(dòng)的運(yùn)動(dòng)約束。例如,結(jié)構(gòu)中可能包含一些剛性部件或者通過轉(zhuǎn)動(dòng)或滑塊約束連接在一起的運(yùn)動(dòng)部件。結(jié)構(gòu)的剛性部分可以使用MPC184的剛性桿或剛性梁?jiǎn)卧獊?lái)模擬,運(yùn)動(dòng)部分可以使用MPC184的滑塊,球鉸,銷軸和萬(wàn)向聯(lián)軸器單元模擬。因?yàn)檫@些單元使用拉格朗日乘子法實(shí)現(xiàn),ANSYS能夠輸出約束反力和力矩。 約束單元 如果沒有其它說明,使用這些單元時(shí),三維單元選項(xiàng)(KEYOPT(2) = 0)為默認(rèn)值。 銷軸鏈接 設(shè)置KEYOPT(1) = 6定義二節(jié)點(diǎn)銷軸鏈接。銷軸單元的二個(gè)節(jié)點(diǎn)必須有相同的空間坐標(biāo)。 MPC184銷軸鏈接單元只有一個(gè)基本自由度-繞著軸或銷相對(duì)旋轉(zhuǎn)。單元能夠包括控制特性,如未約束自由度上的擋塊,鎖定器。旋轉(zhuǎn)邊界條件也可以施加到相對(duì)運(yùn)動(dòng)分量上。
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Ansys Zemax | 如何模擬雙折射偏振器件
附件下載 聯(lián)系工作人員獲取附件 概述 這篇文章介紹了什么是雙折射現(xiàn)象、如何在OpticStudio中模擬雙折射 (birefringence)、如何模擬雙晶體的雙折射偏振器以及如何計(jì)算偏振器的消光比。 什么是雙折射現(xiàn)象 一般的光學(xué)材料都是均勻的各向同性的,也就是說無(wú)論光從哪個(gè)方向穿過材料,其折射率都保持一致。對(duì)于單軸材料來(lái)說,例如方解石 (Calcite),其晶軸定義了材料的對(duì)稱軸。這類材料對(duì)光線的偏折能力隨入射光的偏振態(tài)及入射光與晶軸的夾角不同而不同。因此對(duì)于任意一束光,兩個(gè)正交的偏振態(tài)下可能存在不同的折射角。這種現(xiàn)象稱為光的雙折射。 光線在雙折射材料中的折射總是遵循斯涅耳定律 (Snell`s Law) 的,但是材料中的有效折射率與入射光的偏振態(tài)和入射方向與晶軸夾角相關(guān)。其中“尋常光 (Ordinary)”的折射角由下式定義: 其中no為尋常光的折射率,這是斯涅耳定律的一般形式。“非尋常光 (Extraordinary)”的折射角由下式定義: 該式同樣遵循斯涅耳定律,但是此時(shí)的折射率是角度θw的函數(shù),該角度表示晶軸向量a和折射光波矢k的夾角。 光線向量S指向能量傳播方向。在普通材料中,光線向量S與波矢k為同一向量,此時(shí)我們使用k表示。但在雙折射材料中,光線向量S與波矢k的方向存在較小的夾角,因此需要單獨(dú)考慮。其中向量S和k與晶軸向量a共面且滿足: 非尋常光的有效折射率由下式定義: 其中ne為非尋常折射率。
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Ansys Zemax | 如何模擬 LED 及其它復(fù)雜光源
概述 在使用非序列時(shí),對(duì)照明系統(tǒng)進(jìn)行精確模擬的第一步總是要正確建立光源模型。OpticStudio 提供了多種精確模擬光源的方法。這篇文章介紹了如何在非序列模式下使用徑向光源 (Source Radial), 光源文件 (Source File) 以及通過建立其他復(fù)雜幾何體,來(lái)對(duì)led及其它復(fù)雜光源進(jìn)行建模。(聯(lián)系我們獲取文章附件) 介紹 Ansys Zemax 感謝 Radiant Imaging ,Opsira 和 Lumileds 公司為本文提供的實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)。 準(zhǔn)確的光源模型是精確模擬照明系統(tǒng)的關(guān)鍵。對(duì)于光線追跡的過程,OpticStudio 支持光線的分裂、散射、衍射、折射和反射等,但這篇文章將討論如何從一開始發(fā)射一束光線,以正確表示光源的空間分布和角分布。 我們將討論如何模擬多種不同的 Lumileds 公司生產(chǎn)的 LED,但是其他復(fù)雜的光源例如:汞燈、白熾燈的建模也都可以參考本例的設(shè)計(jì)過程。 對(duì) LED 建模 OpticStudio 包含多種光源物體類型來(lái)近似模擬初始光源的屬性。例如可使用燈絲光源 (Source Filament), 圓柱體光源 (Source Volume Cylinder) 來(lái)有效模擬熒光管。本文的設(shè)計(jì)過程則側(cè)重于使模型更貼近實(shí)驗(yàn)及測(cè)量的空間分布(近場(chǎng))和角分布(遠(yuǎn)場(chǎng))數(shù)據(jù)。 由于所要模擬的LED是以光度學(xué)單位來(lái)測(cè)量的,因此在建模中我們需要先設(shè)置所使用的光度學(xué)單位。在系統(tǒng)選項(xiàng) (System Explorer) -> 單位 (Unit) 中選擇光源單位為流明 (Lumens): 可以看到,照明將以 Lux 為單位(流明每平米),流明強(qiáng)度的單位為 Candela(流明每立體角)。
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Ansys Zemax | 如何模擬 LED 及其它復(fù)雜光源
附件下載 聯(lián)系我們獲取文章附件 概述 在使用非序列時(shí),對(duì)照明系統(tǒng)進(jìn)行精確模擬的第一步總是要正確建立光源模型。OpticStudio 提供了多種精確模擬光源的方法。這篇文章介紹了如何在非序列模式下使用徑向光源 (Source Radial), 光源文件 (Source File) 以及通過建立其他復(fù)雜幾何體,來(lái)對(duì)led及其它復(fù)雜光源進(jìn)行建模。 介紹 Zemax 感謝 Radiant Imaging ,Opsira 和 Lumileds 公司為本文提供的實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)。 準(zhǔn)確的光源模型是精確模擬照明系統(tǒng)的關(guān)鍵。對(duì)于光線追跡的過程,OpticStudio 支持光線的分裂、散射、衍射、折射和反射等,但這篇文章將討論如何從一開始發(fā)射一束光線,以正確表示光源的空間分布和角分布。 我們將討論如何模擬多種不同的 Lumileds 公司生產(chǎn)的 LED,但是其他復(fù)雜的光源例如:汞燈、白熾燈的建模也都可以參考本例的設(shè)計(jì)過程。 對(duì) LED 建模 OpticStudio 包含多種光源物體類型來(lái)近似模擬初始光源的屬性。例如可使用燈絲光源 (Source Filament), 圓柱體光源 (Source Volume Cylinder) 來(lái)有效模擬熒光管。本文的設(shè)計(jì)過程則側(cè)重于使模型更貼近實(shí)驗(yàn)及測(cè)量的空間分布(近場(chǎng))和角分布(遠(yuǎn)場(chǎng))數(shù)據(jù)。 由于所要模擬的LED是以光度學(xué)單位來(lái)測(cè)量的,因此在建模中我們需要先設(shè)置所使用的光度學(xué)單位。在系統(tǒng)選項(xiàng) (System Explorer) -> 單位 (Unit) 中選擇光源單位為流明 (Lumens): 可以看到,照明將以 Lux 為單位(流明每平米),流明強(qiáng)度的單位為 Candela(流明每立體角)。
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Ansys Zemax | 如何模擬自適應(yīng)光學(xué)系統(tǒng)
概述 這篇文章介紹了如何在OpticStudio中使用多重結(jié)構(gòu)創(chuàng)建反射式自適應(yīng)光學(xué)系統(tǒng)。本文詳細(xì)介紹了: 如何通過縮放光闌鏡面的偏心來(lái)模擬一組鏡面陣列 如何使用公差功能生成隨機(jī)的波前差來(lái)模擬大氣不均勻性對(duì)成像的影響 如何補(bǔ)償該影響引入的像差以得到最優(yōu)的幾何和衍射點(diǎn)擴(kuò)散函數(shù) 如何使用求解功能簡(jiǎn)化系統(tǒng)的設(shè)置和調(diào)整參數(shù)的過程 (聯(lián)系我們獲取文章附件) 介紹 在本文介紹的自適應(yīng)反射光學(xué)系統(tǒng)中,反射拋物鏡由多個(gè)子反射鏡組成,其中每個(gè)子反射鏡可以調(diào)整自身的空間位置和旋轉(zhuǎn)方向來(lái)一定程度的矯正像差。特別是對(duì)于處在大氣環(huán)境中的望遠(yuǎn)鏡系統(tǒng)來(lái)說,自適應(yīng)系統(tǒng)可以有效的降低大氣層不均勻性引入的像差。OpticStudio可以在非序列或混合序列模式下模擬自適應(yīng)反射光學(xué)系統(tǒng)。本文將展示如何在序列模式下使用多重結(jié)構(gòu)對(duì)該系統(tǒng)進(jìn)行建模。 下圖兩幅動(dòng)畫展示了序列模式下自適應(yīng)光學(xué)系統(tǒng)中反射元件的傾斜和偏心: 首先,我們需要在系統(tǒng)輸入波前上引入隨機(jī)的波前差來(lái)模擬大氣不均勻性對(duì)輸入光的影響。其次,我們需要調(diào)整每個(gè)反射元件的z軸位置以及繞元件中點(diǎn)的旋轉(zhuǎn)角度,使像面上的像差最小。在下圖給出的2×2報(bào)告圖 (2×2 Report Graphic) 中,左上圖描述了系統(tǒng)在輸入波前上引入的隨機(jī)像差,它是由蒙特卡洛算法自動(dòng)生成的隨機(jī)波前差。其中,其它圖表動(dòng)畫對(duì)比了不同輸入波前差的情況下,自適應(yīng)光學(xué)系統(tǒng)矯正像差之前和之后的幾何PSF和衍射PSF分析結(jié)果。 前提假設(shè)和設(shè)計(jì)目標(biāo) 對(duì)于本文示例系統(tǒng),我們作如下前提假設(shè): 我們將只模擬望遠(yuǎn)鏡的主鏡,即反射拋物面。不考慮望遠(yuǎn)鏡系統(tǒng)中的其他元件,例如次級(jí)反射鏡等。這主要是為了減少示例的復(fù)雜度,但如果需要分析也可以快速添加。 每個(gè)子鏡面不會(huì)產(chǎn)生形變。這同樣是為了減少示例的復(fù)雜度,如需要也可快速添加。
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ansys如何模擬滲流圖2
Ansys Zemax | 如何模擬部分反射和散射的表面
這篇文章介紹了如何模擬一個(gè)部分反射的表面,該表面會(huì)根據(jù)指定的散射分布對(duì)一部分入射光能量進(jìn)行散射。本文介紹的示例包含部分吸收以及部分鏡面反射的情況。(聯(lián)系我們獲取文章附件) 介紹 使用 OpticStudio 非序列模式模擬散射和膜層的能力,我們可以模擬一個(gè)部分反射(或部分透射)的表面,該表面會(huì)根據(jù)指定的分布散射入射光能量的一部分。 假設(shè)我們需要模擬一個(gè)表面為部分反射(60%反射)的矩形體 (Rectangle Volume) 物體,并且其中80%的反射光會(huì)根據(jù)朗伯 (Lambertian) 分布發(fā)生散射。剩下的20%將發(fā)生鏡面反射。通過使用三個(gè)非序列物體,本文的示例可以闡述了如何使用朗伯散射和理想膜層來(lái)產(chǎn)生所需的效果。 我們無(wú)需從零開始建立模型,請(qǐng)打開附件中的示例文件。在該文件中,一個(gè)單光線光源 (Source Ray) 物體發(fā)出的光線入射到矩形體的表面,其中矩形體的材料類型為MIRROR。從光源發(fā)出的光線完美的返回到光源并被探測(cè)器平面接收。在當(dāng)前系統(tǒng)中,矩形體的表面沒有定義任何膜層或散射屬性。 通過不考慮偏振的蒙特卡洛光線追跡,單根光線照明了探測(cè)器最中間的像素并且該像素接收到的功率為1W。 建立理想膜層 OpticStudio 可以模擬任何類型的薄膜膜層,其中包括多層電介質(zhì)膜層和金屬膜層等。然而在本文中,我們將只討論如何在 OpticStudio 中建立和應(yīng)用簡(jiǎn)單的理想膜層。 和 OpticStudio 中的其他膜層相同,理想膜層是通過在膜層文件中定義材料、漸厚層以及膜層等部分的數(shù)據(jù)來(lái)進(jìn)行定義的。對(duì)于一個(gè)理想膜層,其定義語(yǔ)法為: IDEAL 理想膜層只需要定義強(qiáng)度的透射系數(shù)和反射系數(shù),并且該系數(shù)與波長(zhǎng)和入射角無(wú)關(guān)。
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Ansys Zemax | 如何模擬部分反射和散射的表面
附件下載 聯(lián)系工作人員獲取附件 概要 這篇文章介紹了如何模擬一個(gè)部分反射的表面,該表面會(huì)根據(jù)指定的散射分布對(duì)一部分入射光能量進(jìn)行散射。本文介紹的示例包含部分吸收以及部分鏡面反射的情況。 簡(jiǎn)介 使用 OpticStudio 非序列模式模擬散射和膜層的能力,我們可以模擬一個(gè)部分反射(或部分透射)的表面,該表面會(huì)根據(jù)指定的分布散射入射光能量的一部分。 假設(shè)我們需要模擬一個(gè)表面為部分反射(60%反射)的矩形體 (Rectangle Volume) 物體,并且其中80%的反射光會(huì)根據(jù)朗伯 (Lambertian) 分布發(fā)生散射。剩下的20%將發(fā)生鏡面反射。通過使用三個(gè)非序列物體,本文的示例可以闡述了如何使用朗伯散射和理想膜層來(lái)產(chǎn)生所需的效果。 我們無(wú)需從零開始建立模型,請(qǐng)打開附件中的示例文件。在該文件中,一個(gè)單光線光源 (Source Ray) 物體發(fā)出的光線入射到矩形體的表面,其中矩形體的材料類型為MIRROR。從光源發(fā)出的光線完美的返回到光源并被探測(cè)器平面接收。在當(dāng)前系統(tǒng)中,矩形體的表面沒有定義任何膜層或散射屬性。 通過不考慮偏振的蒙特卡洛光線追跡,單根光線照明了探測(cè)器最中間的像素并且該像素接收到的功率為1W。 建立理想膜層 OpticStudio 可以模擬任何類型的薄膜膜層,其中包括多層電介質(zhì)膜層和金屬膜層等。然而在本文中,我們將只討論如何在 OpticStudio 中建立和應(yīng)用簡(jiǎn)單的理想膜層。 和 OpticStudio 中的其他膜層相同,理想膜層是通過在膜層文件中定義材料、漸厚層以及膜層等部分的數(shù)據(jù)來(lái)進(jìn)行定義的。
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Ansys Zemax | 如何模擬雙折射偏振器件
附件下載 聯(lián)系工作人員獲取附件 這篇文章介紹了什么是雙折射現(xiàn)象、如何在OpticStudio中模擬雙折射 (birefringence)、如何模擬雙晶體的雙折射偏振器以及如何計(jì)算偏振器的消光比。 什么是雙折射現(xiàn)象 一般的光學(xué)材料都是均勻的各向同性的,也就是說無(wú)論光從哪個(gè)方向穿過材料,其折射率都保持一致。對(duì)于單軸材料來(lái)說,例如方解石 (Calcite),其晶軸定義了材料的對(duì)稱軸。這類材料對(duì)光線的偏折能力隨入射光的偏振態(tài)及入射光與晶軸的夾角不同而不同。因此對(duì)于任意一束光,兩個(gè)正交的偏振態(tài)下可能存在不同的折射角。這種現(xiàn)象稱為光的雙折射。 光線在雙折射材料中的折射總是遵循斯涅耳定律 (Snell`s Law) 的,但是材料中的有效折射率與入射光的偏振態(tài)和入射方向與晶軸夾角相關(guān)。其中“尋常光 (Ordinary)”的折射角由下式定義: 其中no為尋常光的折射率,這是斯涅耳定律的一般形式。“非尋常光 (Extraordinary)”的折射角由下式定義: 該式同樣遵循斯涅耳定律,但是此時(shí)的折射率是角度θw的函數(shù),該角度表示晶軸向量a和折射光波矢k的夾角。 光線向量S指向能量傳播方向。在普通材料中,光線向量S與波矢k為同一向量,此時(shí)我們使用k表示。但在雙折射材料中,光線向量S與波矢k的方向存在較小的夾角,因此需要單獨(dú)考慮。其中向量S和k與晶軸向量a共面且滿足: 非尋常光的有效折射率由下式定義: 其中ne為非尋常折射率。 雙折射輸入面 準(zhǔn)確的進(jìn)行雙折射光線的追跡要比追跡普通光線復(fù)雜的多:我們必須分別考慮尋常光和非尋常光的折射率和波矢方向。
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Ansys Zemax|如何有效地模擬散射
附件下載 聯(lián)系工作人員獲取附件 概要 OpticStudio中,有兩個(gè)用來(lái)提升散射模擬效率的工具:Scatter To List以及Importance Sampling。在這篇文章中,我們?cè)敿?xì)討論了這兩個(gè)工具,并且以一個(gè)雜散光分析為例示范了如何使用Importance Sampling。 如何有效的模擬散射 對(duì)于絕大多數(shù)光學(xué)系統(tǒng)進(jìn)行散射模擬是非常重要的,尤其在雜散光分析中散射模擬更是關(guān)鍵所在。Zemax OpticStudio有很多內(nèi)建散射模型,這些模型支持使用者輸入任何散射分布。在非序列光線追跡中,需要使用非常多的光線射向模擬物件才能精確而適當(dāng)?shù)?em>模擬散射分布。特別是當(dāng)觀察目標(biāo)相對(duì)于散射點(diǎn)占據(jù)的立體角很小時(shí),這個(gè)問題會(huì)更加嚴(yán)重。最簡(jiǎn)單直接的辦法就是增加入射或是散射的光線數(shù)量使更多的光線到達(dá)要觀察目標(biāo)。但是追跡更多光線會(huì)需要更多的時(shí)間,因此模擬散射就變的非常費(fèi)時(shí)。 在OpticStudio中,我們可以使用“Scatter To List”來(lái)改進(jìn)散射模擬效率,此設(shè)定強(qiáng)制系統(tǒng)只追跡那些散射到指定物件的光線而忽略其他光線。不過這并不是說光線一定會(huì)散射到指定物件上,因此對(duì)于大量光線模擬這種方法并不能改善太多。另一個(gè)OpticStudio中的“Importance Sampling”設(shè)定,則可以大幅地增進(jìn)散射模擬的效率。這兩個(gè)工具都可以在Object Properties的Scatter To標(biāo)簽中找到。 Importance Sampling原理上與Scatter To List大不相同。如果我們?cè)贗mportance Sampling中加入一個(gè)物件,OpticStudio則會(huì)以這個(gè)物件為中心畫出一個(gè)虛擬的球體,然后所有的散射光將只會(huì)往這個(gè)球體過去。
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