ansys如何定義接觸面的案例
workbench接觸面和目標面會有遮擋或者剛好貼合時如何方便的選擇或查看？
問題：在手動添加接觸或者查看的時候，有時候接觸面和目標面會有遮擋或者剛好貼合，不方便選擇或者查看，有時候需要分別隱藏一部分模型才能選擇目標面和接觸面。
這時候可以把模型以選擇中心位置拉開一點，就可以很直觀方便的去選擇你要選擇的面了。而且也很方便檢查接觸。如圖所示，把右上角explode factor后面的滾動條拉開一點，就變成右側的樣子，就可以直接選擇三個小圓柱的下底面了，不要再隱藏下面的長方體再去選擇。這個在模型復雜且接觸設置很多的時候對手動添加和查看是很直觀的，但是由于拉開的太遠會導致接觸對不上的情況需要注意。
展開 AnsysWB-接觸面磨損模擬 ￥5
磨損是指固體物體在與另一物體接觸時，其表面材料逐漸減少的現象。該程序通過重新定位接觸節點來近似模擬這種材料的損耗情況。 新的節點位置是通過一個磨損模型來確定的，該模型會根據接觸結果計算出接觸節點需要移動的量以及移動的方向，以模擬磨損情況。
這個示例展示了如何使用Archard磨損模型。由于磨損涉及材料的去除，位于接觸元素下方的實體元素的質量會隨著磨損程度的增加而逐漸變差。為了成功模擬大量的磨損，需要重新劃分網格。這個示例展示了如何在模型經歷大量磨損時使用非線性網格自適應性來提高網格質量。
展開 【零基礎學習Ansys/Ls-dyna】面對面接觸
分析流程：用ANSYS Mechanical APDL Product Launcher打開ANSYS，注意在打開時選擇帶有LS-DYNA的license并勾選LS-DYNA模塊→在GUI過濾的預前設置處勾選LS-DYNA顯示分析→設置單元、實常數并建立幾何模型（該粘合的地方需要粘合）→Mesh Attributes進行材料分布處理，然后劃分網格→在LS-DYNA Options處創建Part，定義接觸類型、時間邊界條件、初始速度→設置時間控制、時間步長、能量選項和沙漏控制等→輸出K文件，修改K文件，遞交求解器求解→用Ls-prepost軟件進行后處理，或者用Matlab進行數據處理等。
圖1 ANSYS建立有限元模型
圖2 Ls-prepost查看結果
圖3 Ls-prepost繪制曲線
圖4 將結果導入Matlab并繪制曲線
下面是部分K文件中比較重要的關鍵字：
*KEYWORD
*TITLE
$
*DATABASE_FORMAT
0
..........
展開 ansys中定義面面之間的無摩擦接觸
定義中間實體，兩邊夾著實體 兩個面的無摩擦接觸，面面之間可以又可以分離，不知道怎么定義接觸好？
是否可以直接定義摩擦系數為0呢。
求救！！！！！！！！！！！！！1
請教一個ansys剛體與柔體面面接觸分析問題
請問：一根鉆管（柔體）怎樣沿著轉向器目標面（剛體）的軌跡行進一段位移？目標面是一彎曲的表面，我做的模型怎么老是沿著直線走，拐不了彎啊！
Ansys Zemax | 如何對中間面進行優化
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展開 Ansys Zemax | 如何建模離軸拋物面鏡
離軸拋物面反射鏡是光學工業中一種重要的設計類型。本文演示了如何根據制造商給出的規格設計一個離軸拋物面反射鏡，并演示如何使用主光線求解將像面中心與主光線路徑對齊。(聯系我們獲取文章附件)
簡介
離軸拋物面反射鏡的優點是光束通過反射到達像面途中將不會受到遮擋。使用 OpticStudio 可以很簡單地建模一個表面的任何離軸部分，不管其是否為拋物面。本教程將向您展示如何建模一個離軸拋物面反射鏡。這里所示的概念適用于任何偏心表面，并不局限于離軸拋物面反射鏡。
離軸拋物面鏡設計參數
我們將制作一個商用的離軸拋物面反射鏡。這個設計練習的目標是能夠使反射鏡在光軸（Z軸）上的任意一點繞X軸傾斜。反射鏡的規格如下：
離軸距離:150mm
焦距:1000mm
元件物理直徑:203mm
反射鏡背面的基底垂直于光軸。
如果您不熟悉任何在本教程中使用的步驟，請先參考 “如何使序列光學元件傾斜和偏心” 文章后，再嘗試本文內的詳細步驟。
輸入基礎幾何結構
設計開始時，我們將首先定義系統設置。在系統資源管理器中進行以下調整：
·設置 系統孔徑 (Aperture)…孔徑類型 (Aperture Type) ：入瞳直徑 (Entrance Pupil Diameter) 和孔徑值 (Aperture Value) ：100
·設置 單位 (Units) …鏡頭單位 (Lens Units)：毫米 (Millimeters)
·設置 波長 (Wavelengths) …波長1 (Wavelength 1) : 0.550 um
接下來我們可以開始定義系統的幾何結構。在鏡頭數據編輯器中的光闌面后添加一個表面，然后在表面1-3上輸入以下參數。
展開 Ansys Zemax | 如何以數據的方式定義網格矢高表面
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概要
本文示范了如何輸入表面起伏數據，以定義Zemax OpticStudio中的網格矢高 (Grid Sag) 類型表面，表面起伏數據應為Z坐標軸上的矢高 (Sag)。
正文
表面起伏數據格式是這樣定義的：
第一行，由7個數字表示。
第1, 2個數字，代表x與y方向的數據數量，數據類型為整數。
第3, 4個數字，代表x與y方向的數據間隔，數據類型為浮點數。
第5個數字，代表數據的單位，0表示單位是mm。
第6, 7個數字，代表整體數據點的偏心量，數據類型為浮點數。
第二行及以后之后的數據格式如下：
注：數據最少需要5x5個點。
在網格矢高 (Grid Sag) 面的設定中，若指定使用雙三次樣條 (Bicubic-spline) 進行內插，為了使數據點之間sag的內插結果平滑，要求必須要輸入微分值。
但是，若設定所有的微分值為0，或是該數據留白不輸入，OpticStudio會默認使用有限差分法 (Finite Difference Method) 來計算微分值。
數據的紀錄順序定義如下：
1. 從的面的左上角，也就是Xmin、Ymax開始。
2. 下一個輸入的數據是該點的右邊一個值 (就是X方向加一個間隔)。
3. 第一行結束后，從第二行左邊開頭繼續。
4. 填滿時，最后一個數字應為Xmax、Ymin
矢高 (Sag) 數據的基準面可以是平面，也可以是球面、圓錐曲面或是非球面。
關于數據文件的后綴名，若是在用在序列模式中，應為 “.DAT”，若是用在非序列模式，則應為 “.GRD”。
展開 ANSYS workbench如何施加局部載荷（印記面功能）
在金典版本的ANSYS中，我們可以直接施加集中力在節點上，在某個局部范圍內上，但是在ANSYS workbench中就沒有那么方便了，比如一個體或者面上，無法實現局部力作用。
但是在workbench中有一個功能可以實現，imprint face（就是傳說中的印記功能），在前面DM編輯中創建，隨便創建你想要的局部效果，然后在mechanical中將力局部施加在你創建的印記面上。
例如：
（1）創建一個長方體
在DM，創建一個長方體。
（2）創建一個加力印記面。
現在準備在該長方體的上面某個地方，創建一個施加集中力的地方。
首先選擇該長方體的上表面創建一個平面。
接著在該面（plane4)上創建一個圓形，這需要使用繪制草圖的方式。
并使用尺寸約束對該圓形定位，并確定圓的半徑，如果是集中力，自然小一點為好。
其尺寸如下
最后使用拉伸的方式拉伸該草圖，但是要注意在拉伸的細節視圖中所進行的設置。
此處，操作是imprint faces,就像蓋印章一樣，在這里蓋一個面而已。
結果如下
現在該表面生成了一個加力面，這就是前期*好的一個后期施加力的局部面。
（3）劃分網格。
自動生成劃分網格。
仔細觀察我們剛創建的加力面。
加入一個局部細分后，結果如下
這個網格并不理想。有更好的方式可以把網格劃分得很漂亮，但是，這不是我們的的重點，所以，自己在慢慢玩
（4）施加固定邊界條件。
固定左端面
（5）在加力面上施加集中力。
（6）計算一下
（7）看看效果
然而
對于空間實體而言，集中力很少只是施加在一個點上，比如金典ANSYS中施加集中力也不會只在一個節點上，比如一條線上的節點，或者多個節點，類似就是會有一個加力面的效果。
展開 Ansys Zemax｜如何自定義優化操作數
Zemax OpticStudio支持用戶編程，計算出特定的數據，再通過Merit Function Editor(MFE)中的操作數來定義該數據。這些數據可以是獨立于Zemax OpticStudio計算的，也可以是由Zemax OpticStudio計算的但是沒有具體的優化操作數表達的。當然，不管是上述哪種情況，使用者都可以用以下兩種方法計算此數值:
使用ZPL宏語言
使用外部定義和匯編程序
ZPL宏具有容易編寫、執行快速、以及和Zemax OpticStudio集成較好的特點。只要使用者具備一點點的編程經驗就可以編程計算。
另外ZPLM優化操作數可以用于從評價函數中調用ZPL宏，這樣使用者就可以直接使用宏計算出結果并返回到評價函數編輯器中從而實現優化。
本文我們將介紹如何使用宏計算并通過操作數ZPLM將數值返回給評價函數。
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使用操作數ZPLM返回宏計算的數值
如果您不熟悉如何創建、編輯、保存和執行宏，推薦閱讀“編程語言 (ZPL) 簡介”，然后再繼續本練習。
現在，假設我們需要計算并優化Working F/#。當然Zemax OpticStudio中操作數WFNO已經可以解決此問題，本文只是舉一個例子。所以我們可以先假設操作數WFNO不存在，我們需要用宏計算該數值并返回到評價函數中進行優化。Working F/#的定義如下：
其中n為像方空間的折射率， θ為實際邊緣光線（Real Marginal Ray）在像空間的角度。根據這些定義，我們需要用宏追跡一條實際光線并計算Working F/#：
注意OPTRETURN關鍵字的使用，此關鍵字記錄了全局陣列位置0處“X”的結果值。我們在MFE的ZPLM操作數“Dat#”列中填入的就是這個全局陣列的位置數。
展開 Ansys Zemax | 如何在 OpticStudio 內對斜切端面光線進行建模
與方法 2 類似，這個光纖模態傾斜角可以通過 Analyze...光纖耦合...單模耦合器設置進行定義。現在，我們將 “Tilt About X ” 設置為 -8 度，經過此調整后在選中 Use Polarization 選項的情況下，光纖耦合效率再次恢復到 88.2%。
您可以在下載部分找到此文件 “conic_interconnect_angle_cleaved_method_3_cb_pop_negative_tilt.zar”。
結論
本文介紹了建立斜切端面光纖耦合系統的三種不同方法。我們還介紹了一種從斜切光纖發射光束的方法。它討論了在像面上使用 Coordinate Break 表面和 Tilted 表面類型之間的區別。它演示了如何對斜切光纖端面進行建模，以及如何引入模態傾斜角來補償斜切。我們可以看到，通過適當的光纖對準補償，斜切光纖的耦合效率與使用正常端面光纖的耦合效率非常匹配。這三種方法都可以在 OpticStudio 中直接實現，選擇的方法將取決于用戶的應用和偏好。
展開 
Ansys Zemax | 如何以數據的方式定義網格矢高表面審
引言
本文示范了如何輸入表面起伏數據，以定義Zemax OpticStudio中的網格矢高 (Grid Sag) 類型表面，表面起伏數據應為Z坐標軸上的矢高 (Sag)。(聯系我們獲取文章附件)
正文
表面起伏數據格式是這樣定義的：
第一行，由7個數字表示。
1、第1, 2個數字，代表x與y方向的數據數量，數據類型為整數。
2、第3, 4個數字，代表x與y方向的數據間隔，數據類型為浮點數。
3、第5個數字，代表數據的單位，0表示單位是mm。
4、第6, 7個數字，代表整體數據點的偏心量，數據類型為浮點數。
第二行及以后之后的數據格式如下：
注：數據最少需要5×5個點。
在網格矢高 (Grid Sag) 面的設定中，若指定使用雙三次樣條 (Bicubic-spline) 進行內插，為了使數據點之間sag的內插結果平滑，要求必須要輸入微分值。
但是，若設定所有的微分值為0，或是該數據留白不輸入，OpticStudio會默認使用有限差分法 (Finite Difference Method) 來計算微分值。
數據的紀錄順序定義如下：
1. 從的面的左上角，也就是Xmin、Ymax開始。
2. 下一個輸入的數據是該點的右邊一個值 (就是X方向加一個間隔)。
3. 第一行結束后，從第二行左邊開頭繼續。
4. 填滿時，最后一個數字應為Xmax、Ymin
矢高 (Sag) 數據的基準面可以是平面，也可以是球面、圓錐曲面或是非球面。
關于數據文件的后綴名，若是在用在序列模式中，應為 “.DAT”，若是用在非序列模式，則應為 “.GRD”。
展開 Ansys Zemax | 如何使用 ZPL 創建用戶自定義求解
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概述
本文使用兩個示例演示了如何使用 ZPL 創建用戶自定義解。第一個示例介紹了如何創建 ZPL 解以確保序列文件中像面的曲率半徑等于系統的 Petzval 曲率。第二個示例介紹了如何在非序列元件編輯器(Non-Sequential Component Editor)中基于其他物體的參數來約束的物體位置。
簡介
求解 ( Solve ) 是可以在諸如鏡頭數據編輯器或非序列元件編輯器之類的編輯器中主動調整特定值的功能。例如，可以在曲率半徑，圓錐系數或 TCE 上指定求解類型，并通過單擊要放置的求解單元的求解框進行設置。盡管 OpticStudio 提供了許多默認的求解類型，但用戶有可能希望自定義求解類型，這可以通過使用Zemax 編程語言（ Zemax Programming Language ，ZPL）來實現。
ZPL 宏求解可用于任何編輯器中的幾乎所有單元（曲率半徑，厚度，參數，多重結構等）。可以像任何其他求解類型一樣，通過在編輯器中單擊參數單元格右側的小框來設置 ZPL 宏求解。
ZPL 宏求解通過執行 ZPL 宏來確定解的值，并使用 SOLVERETURN 關鍵字將其返回給編輯器。一旦創建了用于求解的宏，并將其放置在 <Documents>\Zemax\Macros 目錄中，即可在求解窗口的“宏：( Macro: )”中輸入該宏的名稱：
請注意，在求解框中輸入的宏名稱不區分大小寫，并且不需要其擴展名（.ZPL）。為確保宏求解按照預期的方式工作，需要遵循一些規則，請參閱“技巧和陷阱”部分以獲取更多信息。
Petzval 曲率求解示例
假設我們想要能夠自動將像面的曲率半徑設置為等于 Petzval 曲率的解。
展開 Ansys Zemax | 如何在 OpticStudio 內對斜切端面光線進行建模
與方法 2 類似，這個光纖模態傾斜角可以通過 Analyze...光纖耦合...單模耦合器設置進行定義。現在，我們將 “Tilt About X ” 設置為 -8 度，經過此調整后在選中 Use Polarization 選項的情況下，光纖耦合效率再次恢復到 88.2%。
您可以在下載部分找到此文件 “conic_interconnect_angle_cleaved_method_3_cb_pop_negative_tilt.zar”。
結論
本文介紹了建立斜切端面光纖耦合系統的三種不同方法。我們還介紹了一種從斜切光纖發射光束的方法。它討論了在像面上使用 Coordinate Break 表面和 Tilted 表面類型之間的區別。它演示了如何對斜切光纖端面進行建模，以及如何引入模態傾斜角來補償斜切。我們可以看到，通過適當的光纖對準補償，斜切光纖的耦合效率與使用正常端面光纖的耦合效率非常匹配。這三種方法都可以在 OpticStudio 中直接實現，選擇的方法將取決于用戶的應用和偏好。
展開 Ansys Zemax | 如何使用 Binary2 面型設計衍射光學元件
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概述
這篇文章介紹了如何在 OpticStudio 中建立衍射光學表面以及如何使用 Binary2（二元面2）模擬衍射光學元件。本文使用的示例文件請聯系工作人員下載。
Binary2 面型
Zemax LLC 感謝 Optics1 公司的 Robert E.Fischer 先生授權使用其著作《Optical System Design》中的圖表。
在 OpticStudio 中，許多表面除了可以定義折射光焦度以外，還可以定義衍射光焦度。衍射光焦度與材料折射率和表面矢高無關，但可以改變光的相位。有關建立衍射光學表面的詳細信息，見文章“OpticStudio 建模衍射光學表面”。
Binary2 中的衍射光焦度會在光學表面的截面上引入連續的相位變化：
其中系數 Ai 的單位為弧度。
由于相位變化在表面的截面上是連續的，因此 Binary2 面型模擬的是一個理想的二元衍射元件，其二元面的臺階尺寸趨近于無窮小或小于光的波長。
通常來講，Binary2 面型模擬衍射光學元件的環形衍射區 ( Diffraction Zones) 的尺寸與該區域到表面頂點的徑向距離有關，如下圖所示。OpticStudio 可以自動計算每個環形衍射區的徑向坐標使相鄰區域的相位差為 2π。
Binary2 面型在固定徑向坐標處所引入的附加相位與波長無關。與波長相關的光程由下式給出：
下圖布局圖所示為 Binary2 的色差：
Binary2 消色差單透鏡
Binary2 面型經常用來矯正色差。在一個簡單的單透鏡中，長波長光的焦距相比短波長的光更長，如下圖（a）。
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