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ansys激光熔覆溫度場模擬 ¥150
激光單道熔覆文件
Ansys Zemax | 在OpticStudio中模擬高階激光光束
在這種條件下,應該使用高斯束腰選項來模擬光束模式。
Ansys Zemax 在OpticStudio中模擬高階激光光束
在這種條件下,應該使用高斯束腰選項來模擬光束模式。
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ANSYS高斯脈沖激光光源溫度場模擬APDL ¥100
以下為中間過程中的溫度場
本實例介紹在一個高斯脈沖激光光源溫度場的模擬,包含了脈沖激光的apdl程序,高斯光源的APDL程序,以及隨溫度變化的材料參數設置,apdl程序為參數化建模,只需修改相應的數據,即可更換模型參數。
下層基板:長1000微米,寬300微米,高300微米;上層板材:長1000微米,寬300微米,厚30微米。
激光照射上層板材,由寬度方向的中點進入,沿長度方向直線掃描一道,到另一邊中點結束
激光為普通高斯光源,形式為脈沖激光,如圖3,其中激光頻率=1/TCycle, 占空比=TPulse/TCycle
在模擬的過程中要實現激光功率,掃描速度,激光頻率和占空比的可變。求得上層板材中心位置溫度隨時間的變化曲線
1. 溫度場只考慮傳熱,不考慮對流以及輻射,環境溫度為室溫25攝氏度。
2. 材料的各項參數不是固定參數,而是隨溫度變化的參數。
激光參數:
光斑直徑:100微米
激光功率:200W
掃描速率v=800mm/s
占空比ra=0.5
激光頻率f=20000Hz
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