ansys中如何建立工況的案例
ANSYS workbench中如何建立局部坐標(biāo)系。
ANSYS workbench中如何建立局部坐標(biāo)系。
ANSYS Workbench中批量建立螺栓的方法+批量建立彈簧的方法
（添加V：fwz0703）
在ANSYS Workbench中經(jīng)常遇到法蘭或者箱體等產(chǎn)品，在其邊緣位置有很多的螺栓連接，如圖所示。
我們需要在對(duì)應(yīng)的螺栓孔位置添加螺栓，但是螺栓孔太多，一個(gè)一個(gè)添加累死人，有沒(méi)有一種簡(jiǎn)單有效的方法呢？ansys的開(kāi)發(fā)者想到了大家的困難，設(shè)置了一種方法。
在Ansys workbench中提供一種工具，叫做對(duì)象生成器Object Generator，這個(gè)工具就是做重復(fù)繁瑣的操作步驟而設(shè)立的，如圖所示。
對(duì)于很多螺栓的創(chuàng)建方法過(guò)程如下
1. 建立選擇命名集合
在 Design Modeler 或 Mechanical 中，通過(guò) “Select By” 功能，選擇相同尺寸的螺栓孔面，或者框選一側(cè)的圓弧面，命令如 “hole_upper”，另一側(cè)命令 “hole_lower”。
選擇過(guò)程中可以隱藏其他部分零件，僅僅保留該零件，通過(guò)size篩選相同尺寸的圓孔，這樣就可以全部選中圓孔了，命名即可
2. 創(chuàng)建一對(duì)梁連接
選擇一對(duì)對(duì)應(yīng)的螺栓孔（分別選擇其表面的圓弧面），在 “Connections” 中，建立 “Beam” 連接。設(shè)置螺栓半徑即可。
3. 打開(kāi)對(duì)象生成器面板：
在菜單欄中，選擇 “Automation->Object Generation”，進(jìn)入對(duì)象生成器面板。
4. 設(shè)置生成參數(shù)
選中創(chuàng)建的beam梁，之后右側(cè)面板設(shè)置參數(shù)，分別選擇之前創(chuàng)建的命名，設(shè)置好兩個(gè)螺栓孔之間的距離范圍，只有在這個(gè)范圍內(nèi)的孔，才會(huì)被選擇到。如下圖所示。
5.
展開(kāi) 基于hypermesh與ansys apdl的聯(lián)合仿真——如何建立運(yùn)動(dòng)副
建立機(jī)架與mpc單元，這里由于是對(duì)地，所以機(jī)架很關(guān)鍵，最后要對(duì)這部分進(jìn)行固定操作，mpc單元本質(zhì)就是在同一個(gè)位置建立了兩個(gè)點(diǎn)所建立的單元，下面是建立過(guò)程中的選項(xiàng)
采用轉(zhuǎn)動(dòng)的value
便于選點(diǎn)（重合點(diǎn)）在preference中打開(kāi)graphics中的coincident picking，效果如下，可以看到，這里實(shí)際上是兩個(gè)點(diǎn)
最終結(jié)果如下
最困難的是之后去建立轉(zhuǎn)動(dòng)副的過(guò)程，用到的是contact的部分，下面是樹(shù)狀圖
在接觸組中需要選擇接觸單元與目標(biāo)單元，也就是這里的contact surfaces與單獨(dú)的一個(gè)點(diǎn)集合sets，接觸面為齒輪內(nèi)表面，目標(biāo)面也就是前面建立的mpc單元的節(jié)點(diǎn)，單元采用的是contact173與targe170單元，相關(guān)的參數(shù)設(shè)置如下：
這里的參數(shù)使用的都是apdl中很經(jīng)典的接觸參數(shù)設(shè)定，感興趣去的可以找本講單元的書(shū)去琢磨琢磨。
最后考慮到hypermesh中相關(guān)轉(zhuǎn)動(dòng)只能繞著x軸或者z軸去轉(zhuǎn)動(dòng)，所以建立一個(gè)坐標(biāo)系很重要，如下
在analysis中的systems中
同理apdl中坐標(biāo)系的建立需要從11開(kāi)始，要進(jìn)行重新的編號(hào)tool-renumber
移動(dòng)副
到這里就介紹完畢了，下面是移動(dòng)副的介紹，本質(zhì)上的一樣的所以講的稍微粗糙些，如下
導(dǎo)入我們?cè)趕olidworks中建立的裝配體模型，并且進(jìn)行網(wǎng)格劃分操作
移動(dòng)副的區(qū)別在于建立兩個(gè)接觸組，接觸面與mpc的i節(jié)點(diǎn)連接，目標(biāo)面與mpc的j節(jié)點(diǎn)連接，如下
樹(shù)狀圖如下
對(duì)于mpc單元這里的設(shè)定改為了移動(dòng)而不是轉(zhuǎn)動(dòng)
后續(xù)操作都是一樣的就不介紹了，也就是建立坐標(biāo)系，坐標(biāo)系編號(hào)，建立約束。
展開(kāi) Ansys Zemax | 如何建立LCD背光源模型
本文建立了楔形LCD背光源模型，并對(duì)其進(jìn)行分析，并按照照明輸出標(biāo)準(zhǔn)對(duì)其進(jìn)行優(yōu)化。
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簡(jiǎn)介
液晶顯示器 (LCDs) 作為一種顯示技術(shù)，在當(dāng)今社會(huì)中已經(jīng)得到了廣泛的應(yīng)用。在商業(yè)領(lǐng)域中最突出的應(yīng)用包括計(jì)算機(jī)顯示器、移動(dòng)電話、電視和手持?jǐn)?shù)字設(shè)備。
當(dāng)環(huán)境光照條件不足時(shí)，大多數(shù)LCD都是接收后方照明以提供光照的。采用的兩種照明方案為：底部照明和邊緣照明，OpticStudio能夠?qū)@兩種照明方案進(jìn)行建模，且邊緣照明方案中存在更復(fù)雜的設(shè)計(jì)問(wèn)題，本文將重點(diǎn)對(duì)此進(jìn)行介紹。
LCD 照明方案
LCD底部照明方案使用陣列光源，如發(fā)光二極管，或均勻光源（如放置在LCD后面的電致發(fā)光面板）。此方案具有良好的均勻性和亮度，但需要更多的能量和更厚的保護(hù)殼。
本文的重點(diǎn)內(nèi)容是邊緣照明設(shè)計(jì)，使用楔形導(dǎo)光板對(duì)放置于LCD顯示器旁邊的光源發(fā)出的光進(jìn)行分布。與底部照明方案相比，此方案消耗的能量更少，且封裝更薄，但是均勻性和亮度較差。
本文中忽略實(shí)際的液晶層，只考慮背光源設(shè)計(jì)。
建立背光源模型
邊緣照明LCD的詳細(xì)布局圖如下圖所示：
光源通常是冷陰極熒光燈管 (CCFL) 或一系列發(fā)光二極管 (LED) ，且在光源的后面放置反射器可以提高系統(tǒng)的效率。楔形光波導(dǎo)利用全內(nèi)反射 (TIR) 使光更均勻地分布在顯示區(qū)域。用反射鏡圍繞光波導(dǎo)，也可以提高系統(tǒng)效率。使用不同增亮膜 (BEF) 的陣列模式，可用于控制發(fā)射光的發(fā)光強(qiáng)度和偏振特性。
在此設(shè)計(jì)案例中假設(shè)一些約束條件：將基于標(biāo)準(zhǔn)的移動(dòng)電話選擇顯示屏的面積，并根據(jù)整體封裝高度的限制選擇光波導(dǎo)厚度。
展開(kāi) 
Ansys Zemax | 如何建立LCD背光源模型
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概要
本文建立了楔形LCD背光源模型，并對(duì)其進(jìn)行分析，并按照照明輸出標(biāo)準(zhǔn)對(duì)其進(jìn)行優(yōu)化。
簡(jiǎn)介
液晶顯示器 (LCDs) 作為一種顯示技術(shù)，在當(dāng)今社會(huì)中已經(jīng)得到了廣泛的應(yīng)用。在商業(yè)領(lǐng)域中最突出的應(yīng)用包括計(jì)算機(jī)顯示器、移動(dòng)電話、電視和手持?jǐn)?shù)字設(shè)備。
當(dāng)環(huán)境光照條件不足時(shí)，大多數(shù)LCD都是接收后方照明以提供光照的。采用的兩種照明方案為：底部照明和邊緣照明，OpticStudio能夠?qū)@兩種照明方案進(jìn)行建模，且邊緣照明方案中存在更復(fù)雜的設(shè)計(jì)問(wèn)題，本文將重點(diǎn)對(duì)此進(jìn)行介紹。
LCD 照明方案
LCD底部照明方案使用陣列光源，如發(fā)光二極管，或均勻光源（如放置在LCD后面的電致發(fā)光面板）。此方案具有良好的均勻性和亮度，但需要更多的能量和更厚的保護(hù)殼。
本文的重點(diǎn)內(nèi)容是邊緣照明設(shè)計(jì)，使用楔形導(dǎo)光板對(duì)放置于LCD顯示器旁邊的光源發(fā)出的光進(jìn)行分布。與底部照明方案相比，此方案消耗的能量更少，且封裝更薄，但是均勻性和亮度較差。
本文中忽略實(shí)際的液晶層，只考慮背光源設(shè)計(jì)。
建立背光源模型
邊緣照明LCD的詳細(xì)布局圖如下圖所示：
光源通常是冷陰極熒光燈管 (CCFL) 或一系列發(fā)光二極管 (LED) ，且在光源的后面放置反射器可以提高系統(tǒng)的效率。楔形光波導(dǎo)利用全內(nèi)反射 (TIR) 使光更均勻地分布在顯示區(qū)域。用反射鏡圍繞光波導(dǎo)，也可以提高系統(tǒng)效率。使用不同增亮膜 (BEF) 的陣列模式，可用于控制發(fā)射光的發(fā)光強(qiáng)度和偏振特性。
在此設(shè)計(jì)案例中假設(shè)一些約束條件：將基于標(biāo)準(zhǔn)的移動(dòng)電話選擇顯示屏的面積，并根據(jù)整體封裝高度的限制選擇光波導(dǎo)厚度。
展開(kāi) Ansys Zemax | 如何建立二向分色分光鏡
這篇文章將說(shuō)明如何在OpticStudio的非序列模式(non-sequential mode)中建立二向分色分光鏡，以及如何根據(jù)需求自訂鍍膜結(jié)構(gòu)以產(chǎn)生分光表面。
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簡(jiǎn)介
作為一個(gè)常見(jiàn)的光學(xué)元件，分光鏡(beam splitter)可將入射光分為折射和反射光線路徑。依據(jù)元件的型態(tài)，我們可以將分光鏡分為以下三個(gè)類別:
· 立方體分光鏡(Cube beam splitters)
· 平板分光鏡(Plate beam splitters)
· 薄膜分光鏡(Pellicle beam splitters)
在OpticStudio中，分光鏡根據(jù)入射角、偏振態(tài)波長(zhǎng)等特性將入射光分為兩條不同的路徑。
在這篇文章中，我們將示范如何在非序列模式中完成二向分色分光鏡的建立和模擬。
二向分色分光鏡
二向分色分光鏡利用特殊的鍍膜表面，使入射光分為如下圖的兩道光路。在這篇文章中，我們將假設(shè)你已熟悉基本的鍍膜操作。假如還不是很熟悉的讀者，建議在進(jìn)行后續(xù)步驟前可以先參考這篇文章Ansys Zemax | 如何模擬部分反射和散射的表面
在市面上眾多的分光鏡選擇中，本范例會(huì)以一款可在CVI Laser, LLC購(gòu)得的款式為原型。此分光鏡為短波通(SWP)的類型，這種類型的分光鏡在入射光波長(zhǎng)較短時(shí)具有高穿透率(即低反射率)。反之，當(dāng)入射光為長(zhǎng)波長(zhǎng)時(shí)，則穿透率較低(高反射率)。下圖為典型的SWP二向分色鍍膜的穿透率曲線。
更多關(guān)于CVI雷射二向分色分光鏡的信息可以參考這個(gè)網(wǎng)站CVI - Home Redirect (cvilaseroptics.com)。
在下圖中，我們可以依照能量的穿透率將二向分色鍍膜的特性曲線分為三個(gè)部分。
展開(kāi) [分享]ABAQUS中如何建立接觸
今天給大伙分享個(gè)ABAQUS建立接觸的方法。
以比較典型的殼單元與實(shí)體單元接觸為例，實(shí)體面為面1（主面），殼面為面2（從面）
步驟1：定義set，主要為面2定義set=slave,方便后面選擇:Analysis→ entity set → name=slave,選擇面2 → create
步驟2：定義實(shí)體面Analysis → contactsurfs → solid faces → name=master → elem 選擇相關(guān)的實(shí)體單元 → node on face → node 在已選擇的實(shí)體單元面上選擇若干節(jié)點(diǎn)→ create 系統(tǒng)自動(dòng)得出實(shí)體單元的接觸面。
如何在 COMSOL 中建立線性和非線性光學(xué)模型
在 COMSOL Multiphysics 中，這種方法可以用瞬態(tài)或頻域分析來(lái)建模，其中使用非線性系數(shù)(d)定義極化，如下所示。在高斯光束的二次諧波產(chǎn)生教程模型中，需要將與電場(chǎng)相關(guān)的非線性項(xiàng)引入電位移場(chǎng) (D)中。在這個(gè)模型中，引入非線性項(xiàng)的方式是通過(guò)巧妙使用殘余電電位移(Dr)。事實(shí)上，殘余電位移也可以接受一個(gè)非線性場(chǎng)量，這里涉及到一個(gè)電場(chǎng)分量的平方。這種方法顯示了和頻生成以及差頻生成。
其中，
,
是非線性系數(shù)，Ez 是 z-電場(chǎng)的分量。
在
高斯光束的二次諧波產(chǎn)生
教程模型中，只能分析一個(gè)特定的頻率。(換句話說(shuō)，用亥姆霍茲方程只能分析一個(gè)頻率。)因此，該模型建立了兩個(gè)接口，并耦合了兩個(gè)物理場(chǎng)。第一個(gè)界面代表基波，第二個(gè)界面代表二次諧波頻率。第一個(gè)界面的極化
，以及第二個(gè)界面的極化
，可定義如下:
其中，d 是非線性系數(shù)，
是 y-基頻電場(chǎng)分量，
是 y-二次諧波頻率下的電場(chǎng)分量。
左:輸出頻譜。大峰左邊的小峰表示差頻產(chǎn)生，右邊的小峰表示 SHG。右:基波和二次諧波的電場(chǎng) y- 分量。
光學(xué)材料的三階磁化率
具有顯著三階磁化率的材料（
）顯示出諸如光學(xué)克爾效應(yīng)、自相位調(diào)制、交叉相位調(diào)制、三次諧波生成和四波混頻等現(xiàn)象。為了說(shuō)明
COMSOL Multiphysics 中的光學(xué)克爾效應(yīng)
，高強(qiáng)度（GW/cm2）單色光束（例如 Nd:YAG 激光源）通過(guò)由 BK-7 制成的非線性晶體傳播。由于 BK-7 中占主導(dǎo)地位的三階材料非線性，折射率隨單色輸入光的光束強(qiáng)度(I)的函數(shù)變化如下：
其中，n0 是折射率的常數(shù)（線性）部分，γ 是非線性折射率系數(shù)，I 是光束強(qiáng)度。
展開(kāi) Ansys Zemax | 如何使用反射式偏光增亮膜建立模型
這篇文章將會(huì)說(shuō)明如何在非序列模式（Non-Sequential mode）中利用「反射式偏光增亮表面（Dual Brightness Enhancement Film Surface）」的功能，在OpticStudio模擬「反射式偏光增亮膜（Dual Brightness Enhancement Film， DBEF）」。為了確認(rèn)這種結(jié)構(gòu)的效能，我們?cè)诜独龣n案中建立了一個(gè)經(jīng)簡(jiǎn)化的LCD模型，結(jié)構(gòu)包括光源、反光罩（reflective enclosure）、散射表面（diffusive surface）和偏振片（polarizer）。利用這個(gè)模型，我們可以比較DBEF的存在與否，會(huì)對(duì)系統(tǒng)的發(fā)光效能造成什么影響。
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簡(jiǎn)介
這篇文章將講述如何在OpticStudio中建立DBEF。注意，我們不會(huì)在檔案中建立實(shí)際DBEF表面的每一層結(jié)構(gòu)，而是根據(jù)需要的輸出結(jié)果（例如一道已知偏振態(tài)（polarization）、且穿過(guò)DBEF的光的強(qiáng)度比例）建立模型。透過(guò)DBEF在系統(tǒng)中的成效，我們可以確定這種架構(gòu)是否是可行的。
液晶顯示器
在近年來(lái)的顯示器發(fā)展中，液晶顯示器（Liquid crystal display， LCD）占有舉足輕重的地位。LCD結(jié)合了液晶分子和偏振片的光學(xué)特性，有效的控制了影像的顯現(xiàn)。這種類型的顯示器主要由背光板（backlight）、顯示增益薄膜（display enhancement film）、液晶面板（LCD cell）以及前后兩層的偏振片（polarizer）等組件構(gòu)成。下圖是一個(gè)典型的筆記本電腦顯示器的架構(gòu)圖。
「反射式偏光增亮膜（Dual Brightness Enhancement Film）」是一個(gè)時(shí)常用于建構(gòu)LCD的結(jié)構(gòu)。在顯示器中，DBEF被用來(lái)當(dāng)作反射式偏振片。
展開(kāi) Ansys Zemax | 如何使用反射式偏光增亮膜建立模型
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概要
這篇文章將會(huì)說(shuō)明如何在非序列模式（Non-Sequential mode）中利用「反射式偏光增亮表面（Dual Brightness Enhancement Film Surface）」的功能，在OpticStudio模擬「反射式偏光增亮膜（Dual Brightness Enhancement Film， DBEF）」。為了確認(rèn)這種結(jié)構(gòu)的效能，我們?cè)诜独龣n案中建立了一個(gè)經(jīng)簡(jiǎn)化的LCD模型，結(jié)構(gòu)包括光源、反光罩（reflective enclosure）、散射表面（diffusive surface）和偏振片（polarizer）。利用這個(gè)模型，我們可以比較DBEF的存在與否，會(huì)對(duì)系統(tǒng)的發(fā)光效能造成什么影響。
簡(jiǎn)介
這篇文章將講述如何在OpticStudio中建立DBEF。注意，我們不會(huì)在檔案中建立實(shí)際DBEF表面的每一層結(jié)構(gòu)，而是根據(jù)需要的輸出結(jié)果（例如一道已知偏振態(tài)（polarization）、且穿過(guò)DBEF的光的強(qiáng)度比例）建立模型。透過(guò)DBEF在系統(tǒng)中的成效，我們可以確定這種架構(gòu)是否是可行的。
液晶顯示器
在近年來(lái)的顯示器發(fā)展中，液晶顯示器（Liquid crystal display， LCD）占有舉足輕重的地位。LCD結(jié)合了液晶分子和偏振片的光學(xué)特性，有效的控制了影像的顯現(xiàn)。這種類型的顯示器主要由背光板（backlight）、顯示增益薄膜（display enhancement film）、液晶面板（LCD cell）以及前后兩層的偏振片（polarizer）等組件構(gòu)成。下圖是一個(gè)典型的筆記本電腦顯示器的架構(gòu)圖。
「反射式偏光增亮膜（Dual Brightness Enhancement Film）」是一個(gè)時(shí)常用于建構(gòu)LCD的結(jié)構(gòu)。
展開(kāi) 1-如何在star ccm+中建立流線動(dòng)畫(huà) ￥20
后面還會(huì)陸續(xù)更新，2-如何在star ccm+中生成帶邊界層的網(wǎng)格
3-如何生成java批處理文件
4-如何判斷流動(dòng)是層流還是湍流
希望大家多多支持，有什么想要了解的也可以在留言區(qū)寫(xiě)下來(lái)。
Ansys Zemax光學(xué)設(shè)計(jì)軟件技術(shù)教程：如何建立LCD背光源模型
為了確定二階y方向的起始點(diǎn)，查看通用繪圖并與評(píng)價(jià)函數(shù)中的值進(jìn)行對(duì)比。打開(kāi)一維通用圖（分析 (Analysis) >通用繪圖 (Universal Plot)）并應(yīng)用以下設(shè)置。
點(diǎn)擊OK鍵，并進(jìn)行繪圖更新；這個(gè)過(guò)程可能需要幾分鐘，具體所需時(shí)長(zhǎng)取決于電腦的速度。根據(jù)下圖，將陣列物體上的“ Delta2 Y ”參數(shù)設(shè)置為5E-3。
背光源設(shè)計(jì)形式是固定的，只需要優(yōu)化陣列參數(shù)。考慮到這一事實(shí)，使用正交下降 (OD) 算法進(jìn)行錘形優(yōu)化對(duì)于達(dá)到目標(biāo)非常有效。錘形優(yōu)化在長(zhǎng)時(shí)間運(yùn)行時(shí)性能最好，完成之后可以確定沒(méi)有與起點(diǎn)相似的更好的設(shè)計(jì)。在運(yùn)行錘形優(yōu)化約20小時(shí)后，OpticStudio得出了具有良好空間均勻性和可接受的發(fā)光強(qiáng)度的解。請(qǐng)注意，此種發(fā)光強(qiáng)度是此類光波導(dǎo)的特性，不可能在不大幅度改變?cè)O(shè)計(jì)參數(shù)的情況下產(chǎn)生顯著變化。優(yōu)化后的系統(tǒng)見(jiàn)附件：“End Point.zmx”。
還要注意，系統(tǒng)效率已經(jīng)上升到大約60%。如果降低最小相對(duì)光線強(qiáng)度閾值，得到的效率接近62%。有可能可以通過(guò)在系統(tǒng)中再添加散射和/或膜層屬性進(jìn)一步提升其性能。
光研科技南京有限公司是國(guó)內(nèi)可靠的Ansys Zemax光學(xué)設(shè)計(jì)軟件代理商！公司已經(jīng)為廣大企業(yè)，研究所以及高校提供了很多優(yōu)秀的相關(guān)產(chǎn)品和服務(wù)，在行業(yè)內(nèi)建立了值得信任的口碑。
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展開(kāi) Moldex3D模流分析之如何在Studio中建立BLM網(wǎng)格
如何在Studio中建立BLM網(wǎng)格 (Tips for BLM Mesh Generation in Studio)
1、BLM生成指南
?尺寸 Vs. 偏移比：表面網(wǎng)格尺寸較大(相對(duì)厚度)時(shí)，會(huì)建議使用較低的偏移比來(lái)避免中心生成狹長(zhǎng)的四面體網(wǎng)格或其他網(wǎng)格缺陷。
?撒點(diǎn)時(shí)的最小段數(shù)：需要依據(jù)屬性及位置確保不同的撒點(diǎn)段數(shù)：
?特殊制程的模擬需要更高的邊界層數(shù)
對(duì)于有纖維強(qiáng)化材料、高黏滯生熱、高剪切生熱或特殊制程模塊(Solution Add-Ons)，建議使用較高的邊界層數(shù)(由預(yù)設(shè)的3至最高的5)。
2、流道實(shí)體網(wǎng)格生成的限制
流道實(shí)體網(wǎng)格在Studio BLM下的限制基本與eDesign一樣，除了多了下面數(shù)項(xiàng)：
?不支持混合使用線定義流道與BREP (CAD)流道
?不支援STL流道
?不支持BREP (CAD)流道的對(duì)稱設(shè)置
展開(kāi) 在midas GTS NX中，如何建立復(fù)雜的幾何實(shí)體？
通常在巖土工程的建模分析中，為了簡(jiǎn)化分析，通常假設(shè)地層為均勻地層，但是實(shí)際工程中會(huì)遇到很多復(fù)雜的地形以及地層，這樣的實(shí)際模型在MIDAS GTS NX中都是怎么實(shí)現(xiàn)的呢？
①地形數(shù)據(jù)生成器，在midas GTS中提供了基于三維點(diǎn)云生成地表面的地形數(shù)據(jù)生成器功能，具體實(shí)現(xiàn)是通過(guò)導(dǎo)入含有高程信息的等高線，選擇需要分析的區(qū)域生成地形面即可。
②層面助手需要結(jié)合地質(zhì)勘測(cè)提供的層面助手來(lái)生成，原理是利用鉆孔點(diǎn)的坐標(biāo)與每一個(gè)層面與鉆孔的距離，插值獲得真實(shí)的地形圖。層面助手最好和層面助手的模板e(cuò)xcel一起使用，具體模板可以私信我獲得。（百度云鏈接有時(shí)候會(huì)失效。）
③直接導(dǎo)入三維等高線，然后選擇等高線上的點(diǎn)， 利用點(diǎn)云生成，但是這個(gè)功能需要把等高線打斷，這樣獲得的點(diǎn)才足夠多的，樣本數(shù)據(jù)足，生成的地形面才真實(shí)。需要注意的一點(diǎn)是：此功能對(duì)電腦配置要求較高，但是操作簡(jiǎn)單粗暴，適合于有強(qiáng)勁電腦的人，普通電腦這一步花費(fèi)的時(shí)間會(huì)比較久。
④從其他軟件進(jìn)行導(dǎo)入，例如BIM軟件的civil3D，達(dá)索公司的CATIA，RHINO等等，可以參見(jiàn)我其他的帖子，這里不做贅述。
⑤如果實(shí)在信息有限，勘察只提供了平面圖與剖面圖，也是可以通過(guò)GTS的邊界面來(lái)生成需要的模型的。如下圖
展開(kāi) 如何在ADAMS中建立滑輪旋轉(zhuǎn)軸線不平行的繩索
ADAMS的繩索模塊建立繩索時(shí)，同一個(gè)繩索中的滑輪旋轉(zhuǎn)軸線一定要是平行的，我們沒(méi)有辦法修改其設(shè)置。但是實(shí)際情況中，經(jīng)常會(huì)遇到一些滑輪旋轉(zhuǎn)軸線不平行的繩索。下面將用兩種辦法來(lái)建立滑輪軸線垂直的例子。
方法一：將兩個(gè)繩索的錨點(diǎn)連接在同一個(gè)物體上，以此來(lái)實(shí)現(xiàn)滑輪軸線的垂直。結(jié)果如下圖所示。
方法二:旋轉(zhuǎn)體方法,旋轉(zhuǎn)體達(dá)到將滑輪旋轉(zhuǎn)的方法來(lái)實(shí)現(xiàn)滑輪軸線的垂直。結(jié)果如下圖所示:
