ansys中如何建立邊坡的案例
ANSYS workbench中如何建立局部坐標系。
ANSYS workbench中如何建立局部坐標系。
ANSYS Workbench中批量建立螺栓的方法+批量建立彈簧的方法
（添加V：fwz0703）
在ANSYS Workbench中經常遇到法蘭或者箱體等產品，在其邊緣位置有很多的螺栓連接，如圖所示。
我們需要在對應的螺栓孔位置添加螺栓，但是螺栓孔太多，一個一個添加累死人，有沒有一種簡單有效的方法呢？ansys的開發者想到了大家的困難，設置了一種方法。
在Ansys workbench中提供一種工具，叫做對象生成器Object Generator，這個工具就是做重復繁瑣的操作步驟而設立的，如圖所示。
對于很多螺栓的創建方法過程如下
1. 建立選擇命名集合
在 Design Modeler 或 Mechanical 中，通過 “Select By” 功能，選擇相同尺寸的螺栓孔面，或者框選一側的圓弧面，命令如 “hole_upper”，另一側命令 “hole_lower”。
選擇過程中可以隱藏其他部分零件，僅僅保留該零件，通過size篩選相同尺寸的圓孔，這樣就可以全部選中圓孔了，命名即可
2. 創建一對梁連接
選擇一對對應的螺栓孔（分別選擇其表面的圓弧面），在 “Connections” 中，建立 “Beam” 連接。設置螺栓半徑即可。
3. 打開對象生成器面板：
在菜單欄中，選擇 “Automation->Object Generation”，進入對象生成器面板。
4. 設置生成參數
選中創建的beam梁，之后右側面板設置參數，分別選擇之前創建的命名，設置好兩個螺栓孔之間的距離范圍，只有在這個范圍內的孔，才會被選擇到。如下圖所示。
5.
展開 ANSYS結合動態規劃法如何做邊坡結構整體可靠度
找到篇ANSYS 蒙特卡洛LHS結合動態規劃法分析邊坡可靠度的論文。（見附件）
但對于文中所述有幾點不解之處，請教各位高手幫忙解答下。這個方法簡單來說，先一樣的定義各種隨機變量，定義一個失效函數，然后求出每一個節點的可靠度，然后用動態規劃法來求整體可靠度。我所遇到的問題是如何求每一個節點的可靠度。很多例子都是用get命令來把最大的那個失效節點定義為響應變量。但在這個例子中，需要求出每一個節點的可靠度，不會需要我每一個節點都定義為一個響應變量吧？倒是想過用ETABLE命令來處理，但因為定義的響應變量不能是數組，就不知道怎么得到可靠度了。還有用ETABLE命令是不是計算的都是單元的？能不能直接用來計算節點，請高手指點。也想過直接輸出ETABLE數據，然后手動統計可靠度，但不知道在可靠度計算時，怎么實現數據輸出。。。
其次，是關于動態規劃法的問題，文中假設 beta=1，然后又算出beta‘，再代入算beta，感覺很奇怪啊，好像迭代不出來吧。有會的高手請不吝賜教啊！萬分感謝
基于動態規劃和隨機有限元的邊坡可靠性分析.rar
展開 基于hypermesh與ansys apdl的聯合仿真——如何建立運動副
建立機架與mpc單元，這里由于是對地，所以機架很關鍵，最后要對這部分進行固定操作，mpc單元本質就是在同一個位置建立了兩個點所建立的單元，下面是建立過程中的選項
采用轉動的value
便于選點（重合點）在preference中打開graphics中的coincident picking，效果如下，可以看到，這里實際上是兩個點
最終結果如下
最困難的是之后去建立轉動副的過程，用到的是contact的部分，下面是樹狀圖
在接觸組中需要選擇接觸單元與目標單元，也就是這里的contact surfaces與單獨的一個點集合sets，接觸面為齒輪內表面，目標面也就是前面建立的mpc單元的節點，單元采用的是contact173與targe170單元，相關的參數設置如下：
這里的參數使用的都是apdl中很經典的接觸參數設定，感興趣去的可以找本講單元的書去琢磨琢磨。
最后考慮到hypermesh中相關轉動只能繞著x軸或者z軸去轉動，所以建立一個坐標系很重要，如下
在analysis中的systems中
同理apdl中坐標系的建立需要從11開始，要進行重新的編號tool-renumber
移動副
到這里就介紹完畢了，下面是移動副的介紹，本質上的一樣的所以講的稍微粗糙些，如下
導入我們在solidworks中建立的裝配體模型，并且進行網格劃分操作
移動副的區別在于建立兩個接觸組，接觸面與mpc的i節點連接，目標面與mpc的j節點連接，如下
樹狀圖如下
對于mpc單元這里的設定改為了移動而不是轉動
后續操作都是一樣的就不介紹了，也就是建立坐標系，坐標系編號，建立約束。
展開 
Ansys Zemax | 如何建立LCD背光源模型
本文建立了楔形LCD背光源模型，并對其進行分析，并按照照明輸出標準對其進行優化。
附件下載
聯系工作人員獲取附件
簡介
液晶顯示器 (LCDs) 作為一種顯示技術，在當今社會中已經得到了廣泛的應用。在商業領域中最突出的應用包括計算機顯示器、移動電話、電視和手持數字設備。
當環境光照條件不足時，大多數LCD都是接收后方照明以提供光照的。采用的兩種照明方案為：底部照明和邊緣照明，OpticStudio能夠對這兩種照明方案進行建模，且邊緣照明方案中存在更復雜的設計問題，本文將重點對此進行介紹。
LCD 照明方案
LCD底部照明方案使用陣列光源，如發光二極管，或均勻光源（如放置在LCD后面的電致發光面板）。此方案具有良好的均勻性和亮度，但需要更多的能量和更厚的保護殼。
本文的重點內容是邊緣照明設計，使用楔形導光板對放置于LCD顯示器旁邊的光源發出的光進行分布。與底部照明方案相比，此方案消耗的能量更少，且封裝更薄，但是均勻性和亮度較差。
本文中忽略實際的液晶層，只考慮背光源設計。
建立背光源模型
邊緣照明LCD的詳細布局圖如下圖所示：
光源通常是冷陰極熒光燈管 (CCFL) 或一系列發光二極管 (LED) ，且在光源的后面放置反射器可以提高系統的效率。楔形光波導利用全內反射 (TIR) 使光更均勻地分布在顯示區域。用反射鏡圍繞光波導，也可以提高系統效率。使用不同增亮膜 (BEF) 的陣列模式，可用于控制發射光的發光強度和偏振特性。
在此設計案例中假設一些約束條件：將基于標準的移動電話選擇顯示屏的面積，并根據整體封裝高度的限制選擇光波導厚度。
展開 Ansys Zemax | 如何建立LCD背光源模型
附件下載
聯系工作人員獲取附件
概要
本文建立了楔形LCD背光源模型，并對其進行分析，并按照照明輸出標準對其進行優化。
簡介
液晶顯示器 (LCDs) 作為一種顯示技術，在當今社會中已經得到了廣泛的應用。在商業領域中最突出的應用包括計算機顯示器、移動電話、電視和手持數字設備。
當環境光照條件不足時，大多數LCD都是接收后方照明以提供光照的。采用的兩種照明方案為：底部照明和邊緣照明，OpticStudio能夠對這兩種照明方案進行建模，且邊緣照明方案中存在更復雜的設計問題，本文將重點對此進行介紹。
LCD 照明方案
LCD底部照明方案使用陣列光源，如發光二極管，或均勻光源（如放置在LCD后面的電致發光面板）。此方案具有良好的均勻性和亮度，但需要更多的能量和更厚的保護殼。
本文的重點內容是邊緣照明設計，使用楔形導光板對放置于LCD顯示器旁邊的光源發出的光進行分布。與底部照明方案相比，此方案消耗的能量更少，且封裝更薄，但是均勻性和亮度較差。
本文中忽略實際的液晶層，只考慮背光源設計。
建立背光源模型
邊緣照明LCD的詳細布局圖如下圖所示：
光源通常是冷陰極熒光燈管 (CCFL) 或一系列發光二極管 (LED) ，且在光源的后面放置反射器可以提高系統的效率。楔形光波導利用全內反射 (TIR) 使光更均勻地分布在顯示區域。用反射鏡圍繞光波導，也可以提高系統效率。使用不同增亮膜 (BEF) 的陣列模式，可用于控制發射光的發光強度和偏振特性。
在此設計案例中假設一些約束條件：將基于標準的移動電話選擇顯示屏的面積，并根據整體封裝高度的限制選擇光波導厚度。
展開 Ansys Zemax | 如何建立二向分色分光鏡
這篇文章將說明如何在OpticStudio的非序列模式(non-sequential mode)中建立二向分色分光鏡，以及如何根據需求自訂鍍膜結構以產生分光表面。
（聯系我們獲取文章附件）
簡介
作為一個常見的光學元件，分光鏡(beam splitter)可將入射光分為折射和反射光線路徑。依據元件的型態，我們可以將分光鏡分為以下三個類別:
· 立方體分光鏡(Cube beam splitters)
· 平板分光鏡(Plate beam splitters)
· 薄膜分光鏡(Pellicle beam splitters)
在OpticStudio中，分光鏡根據入射角、偏振態波長等特性將入射光分為兩條不同的路徑。
在這篇文章中，我們將示范如何在非序列模式中完成二向分色分光鏡的建立和模擬。
二向分色分光鏡
二向分色分光鏡利用特殊的鍍膜表面，使入射光分為如下圖的兩道光路。在這篇文章中，我們將假設你已熟悉基本的鍍膜操作。假如還不是很熟悉的讀者，建議在進行后續步驟前可以先參考這篇文章Ansys Zemax | 如何模擬部分反射和散射的表面
在市面上眾多的分光鏡選擇中，本范例會以一款可在CVI Laser, LLC購得的款式為原型。此分光鏡為短波通(SWP)的類型，這種類型的分光鏡在入射光波長較短時具有高穿透率(即低反射率)。反之，當入射光為長波長時，則穿透率較低(高反射率)。下圖為典型的SWP二向分色鍍膜的穿透率曲線。
更多關于CVI雷射二向分色分光鏡的信息可以參考這個網站CVI - Home Redirect (cvilaseroptics.com)。
在下圖中，我們可以依照能量的穿透率將二向分色鍍膜的特性曲線分為三個部分。
展開 如何在 COMSOL 中建立線性和非線性光學模型
在 COMSOL Multiphysics 中，這種方法可以用瞬態或頻域分析來建模，其中使用非線性系數(d)定義極化，如下所示。在高斯光束的二次諧波產生教程模型中，需要將與電場相關的非線性項引入電位移場 (D)中。在這個模型中，引入非線性項的方式是通過巧妙使用殘余電電位移(Dr)。事實上，殘余電位移也可以接受一個非線性場量，這里涉及到一個電場分量的平方。這種方法顯示了和頻生成以及差頻生成。
其中，
,
是非線性系數，Ez 是 z-電場的分量。
在
高斯光束的二次諧波產生
教程模型中，只能分析一個特定的頻率。(換句話說，用亥姆霍茲方程只能分析一個頻率。)因此，該模型建立了兩個接口，并耦合了兩個物理場。第一個界面代表基波，第二個界面代表二次諧波頻率。第一個界面的極化
，以及第二個界面的極化
，可定義如下:
其中，d 是非線性系數，
是 y-基頻電場分量，
是 y-二次諧波頻率下的電場分量。
左:輸出頻譜。大峰左邊的小峰表示差頻產生，右邊的小峰表示 SHG。右:基波和二次諧波的電場 y- 分量。
光學材料的三階磁化率
具有顯著三階磁化率的材料（
）顯示出諸如光學克爾效應、自相位調制、交叉相位調制、三次諧波生成和四波混頻等現象。為了說明
COMSOL Multiphysics 中的光學克爾效應
，高強度（GW/cm2）單色光束（例如 Nd:YAG 激光源）通過由 BK-7 制成的非線性晶體傳播。由于 BK-7 中占主導地位的三階材料非線性，折射率隨單色輸入光的光束強度(I)的函數變化如下：
其中，n0 是折射率的常數（線性）部分，γ 是非線性折射率系數，I 是光束強度。
展開 [分享]ABAQUS中如何建立接觸
今天給大伙分享個ABAQUS建立接觸的方法。
以比較典型的殼單元與實體單元接觸為例，實體面為面1（主面），殼面為面2（從面）
步驟1：定義set，主要為面2定義set=slave,方便后面選擇:Analysis→ entity set → name=slave,選擇面2 → create
步驟2：定義實體面Analysis → contactsurfs → solid faces → name=master → elem 選擇相關的實體單元 → node on face → node 在已選擇的實體單元面上選擇若干節點→ create 系統自動得出實體單元的接觸面。
Ansys Zemax | 如何使用反射式偏光增亮膜建立模型
這篇文章將會說明如何在非序列模式（Non-Sequential mode）中利用「反射式偏光增亮表面（Dual Brightness Enhancement Film Surface）」的功能，在OpticStudio模擬「反射式偏光增亮膜（Dual Brightness Enhancement Film， DBEF）」。為了確認這種結構的效能，我們在范例檔案中建立了一個經簡化的LCD模型，結構包括光源、反光罩（reflective enclosure）、散射表面（diffusive surface）和偏振片（polarizer）。利用這個模型，我們可以比較DBEF的存在與否，會對系統的發光效能造成什么影響。
附件下載
聯系工作人員獲取附件
簡介
這篇文章將講述如何在OpticStudio中建立DBEF。注意，我們不會在檔案中建立實際DBEF表面的每一層結構，而是根據需要的輸出結果（例如一道已知偏振態（polarization）、且穿過DBEF的光的強度比例）建立模型。透過DBEF在系統中的成效，我們可以確定這種架構是否是可行的。
液晶顯示器
在近年來的顯示器發展中，液晶顯示器（Liquid crystal display， LCD）占有舉足輕重的地位。LCD結合了液晶分子和偏振片的光學特性，有效的控制了影像的顯現。這種類型的顯示器主要由背光板（backlight）、顯示增益薄膜（display enhancement film）、液晶面板（LCD cell）以及前后兩層的偏振片（polarizer）等組件構成。下圖是一個典型的筆記本電腦顯示器的架構圖。
「反射式偏光增亮膜（Dual Brightness Enhancement Film）」是一個時常用于建構LCD的結構。在顯示器中，DBEF被用來當作反射式偏振片。
展開 Ansys Zemax | 如何使用反射式偏光增亮膜建立模型
附件下載
聯系工作人員獲取附件
概要
這篇文章將會說明如何在非序列模式（Non-Sequential mode）中利用「反射式偏光增亮表面（Dual Brightness Enhancement Film Surface）」的功能，在OpticStudio模擬「反射式偏光增亮膜（Dual Brightness Enhancement Film， DBEF）」。為了確認這種結構的效能，我們在范例檔案中建立了一個經簡化的LCD模型，結構包括光源、反光罩（reflective enclosure）、散射表面（diffusive surface）和偏振片（polarizer）。利用這個模型，我們可以比較DBEF的存在與否，會對系統的發光效能造成什么影響。
簡介
這篇文章將講述如何在OpticStudio中建立DBEF。注意，我們不會在檔案中建立實際DBEF表面的每一層結構，而是根據需要的輸出結果（例如一道已知偏振態（polarization）、且穿過DBEF的光的強度比例）建立模型。透過DBEF在系統中的成效，我們可以確定這種架構是否是可行的。
液晶顯示器
在近年來的顯示器發展中，液晶顯示器（Liquid crystal display， LCD）占有舉足輕重的地位。LCD結合了液晶分子和偏振片的光學特性，有效的控制了影像的顯現。這種類型的顯示器主要由背光板（backlight）、顯示增益薄膜（display enhancement film）、液晶面板（LCD cell）以及前后兩層的偏振片（polarizer）等組件構成。下圖是一個典型的筆記本電腦顯示器的架構圖。
「反射式偏光增亮膜（Dual Brightness Enhancement Film）」是一個時常用于建構LCD的結構。
展開 
1-如何在star ccm+中建立流線動畫 ￥20
后面還會陸續更新，2-如何在star ccm+中生成帶邊界層的網格
3-如何生成java批處理文件
4-如何判斷流動是層流還是湍流
希望大家多多支持，有什么想要了解的也可以在留言區寫下來。
Ansys Zemax光學設計軟件技術教程：如何建立LCD背光源模型
為了確定二階y方向的起始點，查看通用繪圖并與評價函數中的值進行對比。打開一維通用圖（分析 (Analysis) >通用繪圖 (Universal Plot)）并應用以下設置。
點擊OK鍵，并進行繪圖更新；這個過程可能需要幾分鐘，具體所需時長取決于電腦的速度。根據下圖，將陣列物體上的“ Delta2 Y ”參數設置為5E-3。
背光源設計形式是固定的，只需要優化陣列參數。考慮到這一事實，使用正交下降 (OD) 算法進行錘形優化對于達到目標非常有效。錘形優化在長時間運行時性能最好，完成之后可以確定沒有與起點相似的更好的設計。在運行錘形優化約20小時后，OpticStudio得出了具有良好空間均勻性和可接受的發光強度的解。請注意，此種發光強度是此類光波導的特性，不可能在不大幅度改變設計參數的情況下產生顯著變化。優化后的系統見附件：“End Point.zmx”。
還要注意，系統效率已經上升到大約60%。如果降低最小相對光線強度閾值，得到的效率接近62%。有可能可以通過在系統中再添加散射和/或膜層屬性進一步提升其性能。
光研科技南京有限公司是國內可靠的Ansys Zemax光學設計軟件代理商！公司已經為廣大企業，研究所以及高校提供了很多優秀的相關產品和服務，在行業內建立了值得信任的口碑。
Ansys Zemax光學軟件
咨詢與訂購方式
聯系人：光研科技南京有限公司徐保平
手機號：15051861513
微信號：13627124798
展開 Moldex3D模流分析之如何在Studio中建立BLM網格
如何在Studio中建立BLM網格 (Tips for BLM Mesh Generation in Studio)
1、BLM生成指南
?尺寸 Vs. 偏移比：表面網格尺寸較大(相對厚度)時，會建議使用較低的偏移比來避免中心生成狹長的四面體網格或其他網格缺陷。
?撒點時的最小段數：需要依據屬性及位置確保不同的撒點段數：
?特殊制程的模擬需要更高的邊界層數
對于有纖維強化材料、高黏滯生熱、高剪切生熱或特殊制程模塊(Solution Add-Ons)，建議使用較高的邊界層數(由預設的3至最高的5)。
2、流道實體網格生成的限制
流道實體網格在Studio BLM下的限制基本與eDesign一樣，除了多了下面數項：
?不支持混合使用線定義流道與BREP (CAD)流道
?不支援STL流道
?不支持BREP (CAD)流道的對稱設置
展開 在midas GTS NX中，如何建立復雜的幾何實體？
通常在巖土工程的建模分析中，為了簡化分析，通常假設地層為均勻地層，但是實際工程中會遇到很多復雜的地形以及地層，這樣的實際模型在MIDAS GTS NX中都是怎么實現的呢？
①地形數據生成器，在midas GTS中提供了基于三維點云生成地表面的地形數據生成器功能，具體實現是通過導入含有高程信息的等高線，選擇需要分析的區域生成地形面即可。
②層面助手需要結合地質勘測提供的層面助手來生成，原理是利用鉆孔點的坐標與每一個層面與鉆孔的距離，插值獲得真實的地形圖。層面助手最好和層面助手的模板excel一起使用，具體模板可以私信我獲得。（百度云鏈接有時候會失效。）
③直接導入三維等高線，然后選擇等高線上的點， 利用點云生成，但是這個功能需要把等高線打斷，這樣獲得的點才足夠多的，樣本數據足，生成的地形面才真實。需要注意的一點是：此功能對電腦配置要求較高，但是操作簡單粗暴，適合于有強勁電腦的人，普通電腦這一步花費的時間會比較久。
④從其他軟件進行導入，例如BIM軟件的civil3D，達索公司的CATIA，RHINO等等，可以參見我其他的帖子，這里不做贅述。
⑤如果實在信息有限，勘察只提供了平面圖與剖面圖，也是可以通過GTS的邊界面來生成需要的模型的。如下圖
展開 