極限應(yīng)變率的案例
DEFORM常見問題：應(yīng)變值不變問題
■ 低于LMTSTR的應(yīng)變率流動應(yīng)力是基于從0到LMTSTR流動應(yīng)力之間的線性擬合計算。
■ 在每個變形時間步數(shù)中，計算所有變形單元的平均應(yīng)變率，此后更新的值便會重新計算極限應(yīng)變率。
■ 對于應(yīng)變率低于LMTSTR的單元，應(yīng)變和損傷值不會增加。
為什么這會引起問題？
如果模擬中每個單元的應(yīng)變率都小于極限應(yīng)變率，那么平均應(yīng)變率將不會被重新計算，極限應(yīng)變率也不會被重新計算。
這對于剛體運動的模擬是必要的，例如零件在模具中下降的早期階段可能就會發(fā)生此類情況。
然而，當(dāng)變形速度足夠慢，單元發(fā)生變形，但仍然低于極限值時，就會產(chǎn)生問題。若零件沒有顯示出應(yīng)變，可能會出現(xiàn)相當(dāng)大的變形。
此問題如何解決？
對于變形速率較慢的模擬，必須在模擬開始前重新定義平均和極限應(yīng)變率。
■ 每個塑性工件的值都在屬性對話框中設(shè)置，平均應(yīng)變率可以由V/L來估計，其中V為模具速度，L為零件的特征變形長度。
■ 極限應(yīng)變率通常應(yīng)定義為平均應(yīng)變率的1/100。
■ 用戶可以參照圖-2所示，從DEFORM的前處理器的界面進(jìn)行平均應(yīng)變率和極限應(yīng)變率的設(shè)置，當(dāng)然也可以利用文本編輯器打開KEY文件，進(jìn)行參數(shù)修改，如圖-3所示。
圖-2 平均應(yīng)變率和極限應(yīng)變率設(shè)置
圖-3 KEY文件中平均應(yīng)變率和極限應(yīng)變率設(shè)置
模擬除外，工件的剛性部分將看到高持續(xù)應(yīng)力低于屈服應(yīng)力，例如機(jī)械切削加工模擬和自由擠壓。在這些情況下，剛性區(qū)域可能傾向于在持續(xù)的應(yīng)力下“蠕變”。此時，應(yīng)使用比平均應(yīng)變率小5個數(shù)量級的極限應(yīng)變速率。
如何計算不同條件下的平均應(yīng)變率？
LMTSTR保持是指平均應(yīng)變率AVGSTR的恒定比率。在每個計算方案步驟之后，AVGSTR將重新計算為所有變形單元的非加權(quán)平均值。
展開 解決方案 | DEFORM常見問題：應(yīng)變值不變
對于變形速率較慢的模擬，必須在模擬開始前重新定義平均和極限應(yīng)變率。
■ 每個塑性工件的值都在屬性對話框中設(shè)置，平均應(yīng)變率可以由V/L來估計，其中V為模具速度，L為零件的特征變形長度。
■ 極限應(yīng)變率通常應(yīng)定義為平均應(yīng)變率的1/100。
■ 用戶可以參照圖2所示，從DEFORM的前處理器的界面進(jìn)行平均應(yīng)變率和極限應(yīng)變率的設(shè)置，當(dāng)然也可以利用文本編輯器打開KEY文件，進(jìn)行參數(shù)修改，如圖3所示。
圖2 平均應(yīng)變率和極限應(yīng)變率設(shè)置
圖3 KEY文件中平均應(yīng)變率和極限應(yīng)變率設(shè)置
模擬除外，工件的剛性部分將看到高持續(xù)應(yīng)力低于屈服應(yīng)力，例如機(jī)械切削加工模擬和自由擠壓。在這些情況下，剛性區(qū)域可能傾向于在持續(xù)的應(yīng)力下“蠕變”。
展開 基于CEL法的單樁基礎(chǔ)貫入過程模擬：考慮應(yīng)變軟化與應(yīng)變率效應(yīng) ￥100
在模型構(gòu)建中，除考慮土體強(qiáng)度隨埋深的變化外，還引入了 應(yīng)變軟化 與 應(yīng)變率效應(yīng) 兩個關(guān)鍵因素。應(yīng)變軟化反映了土體在達(dá)到峰值強(qiáng)度后強(qiáng)度逐漸降低的特性，對預(yù)測貫入阻力和樁周土體擾動范圍具有重要意義。而應(yīng)變率效應(yīng)則考慮了土體在高速加載下強(qiáng)度和剛度隨加載速率的增加而提高的規(guī)律。這兩者在樁貫入問題中往往是同時存在的：軟化決定了樁入土后的長期穩(wěn)定性，速率效應(yīng)則主導(dǎo)了瞬時的動力響應(yīng)。
通過研究，可以得到以下幾點主要認(rèn)識：
軟化效應(yīng)：若忽略，可能會高估貫入阻力，導(dǎo)致溜樁等事故發(fā)生。
速率效應(yīng)：對貫入速度較大的情況，土體等效強(qiáng)度提升明顯，使樁貫入力顯著增大；但該效應(yīng)在慢速貫入下相對有限。
相比傳統(tǒng)有限元方法，CEL模擬不僅能捕捉樁端土體的流動與回填現(xiàn)象，還能清晰展現(xiàn)樁周土體擾動區(qū)的形成與演化。提供了一個更接近實際工況的分析工具。
應(yīng)用領(lǐng)域
樁體、軟土貫入儀器貫入過程等軟土大變形領(lǐng)域
展開 極限應(yīng)變速率淺證
之前一篇講了極限應(yīng)變速率，今天剛好可以現(xiàn)身說法。壓縮樣高度是1000mm，然后上模的速度是5mm/s，極限應(yīng)變速率是0.01，下面看結(jié)果。計算過程一直無法收斂，在模擬過程中也看不到應(yīng)變，結(jié)果非常異常。
速度5mm/s，極限應(yīng)變速率0.01
然后我將速度增大10倍，改成50mm/s,得到以下結(jié)果，這個結(jié)果正常多了，計算過程也沒遇見無法收斂的情況。原因為何？原因就是50/1000=0.05＞0.01，即大于極限應(yīng)變速率。
速度 50 極限應(yīng)變速率0.01
那么既然只要大于極限應(yīng)變速率就行，那我是不是把極限應(yīng)變速率改小而不改變速度也行呢？答案是肯定的，以下就是結(jié)果，非常漂亮。
速度5 極限應(yīng)變速率0.001
好了，結(jié)果證明只改小極限應(yīng)變速率也行，那改小應(yīng)變速率之后，對結(jié)果會有什么影響嗎？那這次我們?nèi)匀蛔屗俣缺３譃?0，將極限應(yīng)變速率改成0.001，得到以下結(jié)果，和速度50，極限應(yīng)變速率0.01的結(jié)果對比，發(fā)現(xiàn)這倆結(jié)果一模一樣。得出結(jié)論，改小極限應(yīng)變速率并不會影響結(jié)果！
速度50 極限應(yīng)變速率0.001
展開 
地下開采誘發(fā)地表下沉的應(yīng)變極限準(zhǔn)則(Fracturing Limits)
控制沉降的一個主要評價指標(biāo)是斷裂極限(Fracturing Limits), 即巖石多大的應(yīng)變是可以接受的。
在過去的文章中，討論了地下開采引起地表沉降的影響因素以及沉降預(yù)測的經(jīng)驗方法，參考以下的鏈接。
崩落采礦誘發(fā)地表沉降預(yù)測的經(jīng)驗方法
丘基卡馬塔銅礦由露天開采轉(zhuǎn)入地下開采
地下采礦引起的地表沉降分析
采礦引起地表沉降的影響因素
2 斷裂極限準(zhǔn)則
位于智利的埃爾特尼恩特(El Teniente Mine)銅礦是世界上規(guī)模最大的地下礦山，因而地表沉降是一個必須關(guān)注的問題。Cavieres, P., et al. (2003) 使用3DEC對埃爾特尼恩特礦大規(guī)模地下開采誘發(fā)的斷裂極限進(jìn)行了三維數(shù)值模擬，他們通過數(shù)值反分析(數(shù)值反分析(Numerical Back-Analysis))確定出斷裂極限準(zhǔn)則由總應(yīng)變超過0.005(0.5%)的區(qū)域來定義，從而校驗大規(guī)模地表出現(xiàn)裂縫的極限狀態(tài)。雖然這個準(zhǔn)則是通過埃爾特尼恩特的斷裂極限進(jìn)行反分析而制定的，但I(xiàn)tasca(2018)通過對世界上其它4個礦山的反分析表明，總應(yīng)變 0.005在數(shù)值模型中劃分?jǐn)嗔严拗剖呛线m的。Zhao X. and Zhu Q. (2020) 從文獻(xiàn)中總結(jié)了其它一些應(yīng)變準(zhǔn)則， 如下圖所示。在我們的研究中，使用0.005作為應(yīng)變極限準(zhǔn)則。
3 參考文獻(xiàn)
[1] Cavieres, P., et al. (2003) Three-Dimensional Analysis of Fracturing Limits Induced by Large Scale Underground Mining at El Teniente Mine. pp. 893-900.
展開 如何跨越10納米分辨率極限
由于衍射極限的存在，寬場顯微鏡的分辨率被限制在橫向 200nm，軸向 600nm，視野中橫向或軸向距離小于這兩個數(shù)值的兩點就無法被區(qū)分。為了跨越這一衍射極限，2006 年，Betzig 和莊小威等人同時且分別提出 PALM 和 STORM 兩種單分子定位成像技術(shù)。
單分子成像技術(shù)是現(xiàn)存最靈敏、分辨率最高的顯微成像技術(shù)之一，它使用不同種類的特殊染料使得熒光分子的發(fā)光有一定的時序，避免了分子同時發(fā)光導(dǎo)致的相互遮蔽，因此超越了衍射極限，將分辨率提升至 ~20nm。但是，20nm 的分辨率尚不足以用于探測真正意義上的“分子”，而實現(xiàn)對尺寸在數(shù)納米的小分子的探測又對理解真實生命體中的生化反應(yīng)至關(guān)重要。
圖1：單分子定位成像技術(shù)原理示意圖
圖源：Nat Methods 3, 793–796 (2006), Fig. 1
單從原理上看，單分子定位甚至能實現(xiàn)無限小的分辨率，影響其分辨率的可能只有噪聲帶來的定位精度下降這一因素。人們相信 20nm 遠(yuǎn)不是這一技術(shù)的分辨率極限，因此很多研究人員付出了大量的努力，不斷開發(fā)出分辨率更高、性能更加優(yōu)越的成像系統(tǒng)。但是，這些研究不約而同地遇到了“10 納米”這一壁壘，主要體現(xiàn)在兩個方面：
1）當(dāng)小分子間的距離為幾個納米時，熒光分子的探測率都下降嚴(yán)重，因此許多微小的結(jié)構(gòu)信息都被成像系統(tǒng)遺漏；
2）熒光分子發(fā)射光子的各向異性會引發(fā)大量的定位誤差。
這些因素都導(dǎo)致 10 納米成為單分子定位技術(shù)分辨率的“極限”。
這一極限產(chǎn)生的原因是什么呢？又是怎樣才能克服它呢？
圖2：光開關(guān)指紋分析：光開關(guān)循環(huán)發(fā)生率如指紋一樣獨特又如條形碼一樣成為分子距離的讀取途徑
圖源：Dr.
展開 ZEMAX | 使用點擴(kuò)散函數(shù)的衍射極限成像系統(tǒng)的分辨率
成像系統(tǒng)（例如顯微鏡）的衍射極限分辨率可以通過不同方式表征。在本文中，我建議使用在 OpticStudio 中計算的點擴(kuò)散函數(shù) (PSF) 來客觀衡量這些成像系統(tǒng)的分辨率。文中介紹了重疊圖像（探測器）平面上兩個點的 PSF 的兩種方法。第一種方法使用多重結(jié)構(gòu)編輯器，第二種方法使用圖像模擬工具。文中比較了這兩種方法，并討論了它們的優(yōu)缺點。（聯(lián)系我們獲取文章附件）
簡介
成像系統(tǒng)的性能與其分辨率有關(guān)，但分辨率的定義各不相同。在超分辨率顯微鏡中，傅里葉環(huán)相關(guān)[1]用于評估分辨率。在衍射極限顯微鏡中，分辨率是用瑞利或斯派羅準(zhǔn)則估算的[2]。在實踐中，這些系統(tǒng)的分辨率也可以用微粒測量，微粒選擇明顯小于預(yù)期分辨率，選定上述標(biāo)準(zhǔn)之一。這些微粒充當(dāng)形成 PSF 的點發(fā)源，其尺寸給出了圖像分辨率的估計值，同樣，該尺寸根據(jù)其定義而變化。在本文中，我們使用 OpticStudio 中的 PSF 來更客觀地評估衍射極限成像系統(tǒng)的分辨率。
方法一：多重結(jié)構(gòu)編輯器（相干成像）
顯微鏡設(shè)計
在整篇文章中，我使用了基于 TL4X-SAP 物鏡（4X，0.2 NA）和 TTL200 管鏡的顯微鏡設(shè)計，如圖1所示。這兩種透鏡都可由 THORLABS 網(wǎng)站以黑盒形式提供。
圖 1 - 由 THORLABS 的黑匣子元件組成的顯微鏡設(shè)計。放大倍數(shù)為 4X，數(shù)值孔徑 (NA) 為0.2。
我們使用“真實圖像高度”定義并指定了在 X 和 Y 半寬為6.656毫米的正方形上具有相等面積的五個視場，對應(yīng)于物平面中的1.664毫米。視場由像面中具有2048x2048像素和13.312x13.312mm
2物理尺寸的科學(xué) CMOS (sCMOS) 探測器進(jìn)行建模。
展開 大數(shù)值孔徑顯微鏡極限分辨率的研究
光學(xué)測量＞顯微
任務(wù)/系統(tǒng)視圖
亮點
? 顯微鏡系統(tǒng)中光柵的全矢量分析
? 在幾秒鐘內(nèi)對復(fù)雜系統(tǒng)進(jìn)行快速高性能分析
? 光線追跡和物理光學(xué)建模之間的簡單切換
說明：光源
說明：透鏡系統(tǒng)
說明：樣品結(jié)構(gòu)
說明：探測器
結(jié)果：3D光線追跡
結(jié)果：光線追跡
結(jié)果：光線追跡衍射級數(shù)
結(jié)果：場追跡采樣平面
結(jié)果：場追跡焦平面
結(jié)果：減小光柵周期
隨著光柵周期的減小，光柵結(jié)構(gòu)不能被分辨。
文檔和技術(shù)信息
基于CEL法的單樁基礎(chǔ)貫入過程模擬（考慮應(yīng)變軟化與應(yīng)變率效應(yīng)） ￥50
<p><strong>【注意】考慮到后臺咨詢較多，最新帖子更新了子程序與CEL建模的講解視頻，請大家按需購買</strong></p><p><a href="https://www.yqgqt.org.cn/post/1983546" rel="noopener noreferrer" target="_blank">基于CEL法的單樁基礎(chǔ)貫入過程模擬：考慮應(yīng)變軟化與應(yīng)變率效應(yīng)_abaqus cel實例 ABAQUS二次開發(fā)-技術(shù)鄰</a></p><p>在abaqus軟件中基于<a href="https://www.yqgqt.org.cn/service/abaqus_cel" rel="noopener noreferrer" target="_blank">CEL</a>法的分層地基單樁基礎(chǔ)貫入過程模擬，通過編寫VUSDFLD子程序考慮了軟土的應(yīng)變軟化效應(yīng)與應(yīng)變率效應(yīng)。</p><p>以某海上風(fēng)機(jī)項目為背景，為節(jié)約計算資源，建立了1/8模型。</p><p>附件包含CAE模型、應(yīng)變軟化與應(yīng)變率效應(yīng)子程序，以及包含CEL法的建模、材料屬性設(shè)置、接觸關(guān)系設(shè)置等的資料以及一個演示視頻。
展開 VirtualLab應(yīng)用：大數(shù)值孔徑顯微鏡極限分辨率的研究
光學(xué)測量＞顯微
任務(wù)/系統(tǒng)視圖
亮點
?顯微鏡系統(tǒng)中光柵的全矢量分析
?在幾秒鐘內(nèi)對復(fù)雜系統(tǒng)進(jìn)行快速高性能分析
?光線追跡和物理光學(xué)建模之間的簡單切換
說明：光源
說明：透鏡系統(tǒng)
說明：樣品結(jié)構(gòu)
說明：探測器
結(jié)果：3D光線追跡
結(jié)果：光線追跡
結(jié)果：光線追跡衍射級數(shù)
結(jié)果：場追跡采樣平面
結(jié)果：場追跡焦平面
結(jié)果：減小光柵周期
隨著光柵周期的減小，光柵結(jié)構(gòu)不能被分辨。
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成像系統(tǒng)（例如顯微鏡）的衍射極限分辨率可以通過不同方式表征。 在本文中，我建議使用在OpticStudio中計算的點擴(kuò)散函數(shù) (PSF) 來客觀衡量這些成像系統(tǒng)的分辨率。文中介紹了重疊圖像（探測器）平面上兩個點的PSF的兩種方法。 第一種方法使用多重結(jié)構(gòu)編輯器，第二種方法使用圖像模擬工具。文中比較了這兩種方法，并討論了它們的優(yōu)缺點。
成像系統(tǒng)的性能與其分辨率有關(guān)，但分辨率的定義各不相同。在超分辨率顯微鏡中，傅里葉環(huán)相關(guān)[1]用于評估分辨率。 在衍射極限顯微鏡中，分辨率是用瑞利或斯派羅準(zhǔn)則估算的[2]。在實踐中，這些系統(tǒng)的分辨率也可以用微粒測量，微粒選擇明顯小于預(yù)期分辨率，選定上述標(biāo)準(zhǔn)之一。這些微粒充當(dāng)形成PSF的點發(fā)源，其尺寸給出了圖像分辨率的估計值，同樣，該尺寸根據(jù)其定義而變化。在本文中，我們使用OpticStudio中的PSF來更客觀地評估衍射極限成像系統(tǒng)的分辨率。
方法一：多重結(jié)構(gòu)編輯器（相干成像）
顯微鏡設(shè)計
在整篇文章中，我使用了基于TL4X-SAP物鏡（4X，0.2 NA）和TTL200管鏡的顯微鏡設(shè)計，如圖1所示。這兩種透鏡都可由THORLABS網(wǎng)站以黑盒形式提供。
圖 1 - 由THORLABS的黑匣子元件組成的顯微鏡設(shè)計。放大倍數(shù)為4X，數(shù)值孔徑 (NA) 為0.2。
我們使用“真實圖像高度”定義并指定了在X和Y半寬為6.656毫米的正方形上具有相等面積的五個視場，對應(yīng)于物平面中的1.664毫米。視場由像面中具有2048x2048像素和13.312x13.312mm2物理尺寸的科學(xué) CMOS (sCMOS) 探測器進(jìn)行建模。這些探測器通常用于顯微鏡，可以在Orca-Flash4.0 V3 (Hamamatsu) 或Zyla 4.2 plus (Andor) 等相機(jī)產(chǎn)品中找到。
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abaqus子程序VUSDFLD——考慮應(yīng)變率與應(yīng)變軟化效應(yīng)的軟土模型 ￥25
<p><strong>【注意】本貼子只包含子程序文件</strong></p><p>基于<a href="https://www.yqgqt.org.cn/qa/6302" rel="noopener noreferrer" target="_blank">abaqus子程序</a>VUSDFLD編寫的由Einav與Randolph提出的西澳模型，用于求解軟黏土體劇烈變形后的強(qiáng)度變化，可應(yīng)用于的大變形計算。</p><div contenteditable="false" width="100%"><img src="https://img.jishulink.com/upload/202306/f69f50d42a81489ea1cb5e7a03da5c14.png" title="8$U(VZ82]O{OEMQB}[P(ZMB.png" alt="8$U(VZ82]O{OEMQB}[P(ZMB.png" style="max-width:760px;" data-mobile-src="https://img.jishulink.com/upload/202306/f69f50d42a81489ea1cb5e7a03da5c14.png?image_process=/format,webp" data-pc-src="https://img.jishulink.com/upload/202306/f69f50d42a81489ea1cb5e7a03da5c14.png?image_process=/format,webp" data-initial-src="https://img.jishulink.com/upload/202306/f69f50d42a81489ea1cb5e7a03da5c14.png">
</div><p>文獻(xiàn)來源：Combining upper
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概要
成像系統(tǒng)（例如顯微鏡）的衍射極限分辨率可以通過不同方式表征。在本文中，我建議使用在 OpticStudio 中計算的點擴(kuò)散函數(shù) (PSF) 來客觀衡量這些成像系統(tǒng)的分辨率。文中介紹了重疊圖像（探測器）平面上兩個點的 PSF 的兩種方法。第一種方法使用多重結(jié)構(gòu)編輯器，第二種方法使用圖像模擬工具。文中比較了這兩種方法，并討論了它們的優(yōu)缺點。
簡介
成像系統(tǒng)的性能與其分辨率有關(guān)，但分辨率的定義各不相同。在超分辨率顯微鏡中，傅里葉環(huán)相關(guān)[1]用于評估分辨率。在衍射極限顯微鏡中，分辨率是用瑞利或斯派羅準(zhǔn)則估算的[2]。在實踐中，這些系統(tǒng)的分辨率也可以用微粒測量，微粒選擇明顯小于預(yù)期分辨率，選定上述標(biāo)準(zhǔn)之一。這些微粒充當(dāng)形成 PSF 的點發(fā)源，其尺寸給出了圖像分辨率的估計值，同樣，該尺寸根據(jù)其定義而變化。在本文中，我們使用 OpticStudio 中的 PSF 來更客觀地評估衍射極限成像系統(tǒng)的分辨率。
方法一：多重結(jié)構(gòu)編輯器（相干成像）
顯微鏡設(shè)計
在整篇文章中，我使用了基于 TL4X-SAP 物鏡（4X，0.2 NA）和 TTL200 管鏡的顯微鏡設(shè)計，如圖1所示。這兩種透鏡都可由 THORLABS 網(wǎng)站以黑盒形式提供。
圖 1 - 由 THORLABS 的黑匣子元件組成的顯微鏡設(shè)計。放大倍數(shù)為 4X，數(shù)值孔徑 (NA) 為0.2。
我們使用“真實圖像高度”定義并指定了在 X 和 Y 半寬為6.656毫米的正方形上具有相等面積的五個視場，對應(yīng)于物平面中的1.664毫米。視場由像面中具有2048x2048像素和13.312x13.312mm 2 物理尺寸的科學(xué) CMOS (sCMOS) 探測器進(jìn)行建模。
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成像系統(tǒng)（例如顯微鏡）的衍射極限分辨率可以通過不同方式表征。在本文中，我建議使用在 OpticStudio 中計算的點擴(kuò)散函數(shù) (PSF) 來客觀衡量這些成像系統(tǒng)的分辨率。文中介紹了重疊圖像（探測器）平面上兩個點的 PSF 的兩種方法。第一種方法使用多重結(jié)構(gòu)編輯器，第二種方法使用圖像模擬工具。文中比較了這兩種方法，并討論了它們的優(yōu)缺點。
簡介
成像系統(tǒng)的性能與其分辨率有關(guān)，但分辨率的定義各不相同。在超分辨率顯微鏡中，傅里葉環(huán)相關(guān)[1]用于評估分辨率。在衍射極限顯微鏡中，分辨率是用瑞利或斯派羅準(zhǔn)則估算的[2]。在實踐中，這些系統(tǒng)的分辨率也可以用微粒測量，微粒選擇明顯小于預(yù)期分辨率，選定上述標(biāo)準(zhǔn)之一。這些微粒充當(dāng)形成 PSF 的點發(fā)源，其尺寸給出了圖像分辨率的估計值，同樣，該尺寸根據(jù)其定義而變化。在本文中，我們使用 OpticStudio 中的 PSF 來更客觀地評估衍射極限成像系統(tǒng)的分辨率。
方法一：多重結(jié)構(gòu)編輯器（相干成像）
顯微鏡設(shè)計
在整篇文章中，我使用了基于 TL4X-SAP 物鏡（4X，0.2 NA）和 TTL200 管鏡的顯微鏡設(shè)計，如圖1所示。這兩種透鏡都可由 THORLABS 網(wǎng)站以黑盒形式提供。
圖 1 - 由 THORLABS 的黑匣子元件組成的顯微鏡設(shè)計。放大倍數(shù)為 4X，數(shù)值孔徑 (NA) 為0.2。
我們使用“真實圖像高度”定義并指定了在 X 和 Y 半寬為6.656毫米的正方形上具有相等面積的五個視場，對應(yīng)于物平面中的1.664毫米。視場由像面中具有2048x2048像素和13.312x13.312mm2物理尺寸的科學(xué) CMOS (sCMOS) 探測器進(jìn)行建模。
展開 幾種沖壓加工金屬材料的極限脹形系數(shù)和切向許用伸長率
用于脹形加工的金屬材料受拉應(yīng)力的作用產(chǎn)生拉深變形，材料的極限脹形變形程度和切向伸長率直接關(guān)系到脹形加工的難易程度。下面介紹幾款用于沖壓加工的金屬材料的脹形系數(shù)及切向伸長率.
