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膜層本身不用光線追跡來處理，而用不同的函數(shù)來操作。對(duì)於光線追跡，光學(xué)相位的超前或延遲都是沿著光線觀察的。Zemax OpticStudio直接追跡光線到基板的位置，忽略中間的膜層及其厚度。膜層被假設(shè)鍍?cè)诨灞砻嬷啊Ｕ_計(jì)算光線的相位需要把電場(chǎng)逆向傳播到薄膜起始的位置，並且修正薄膜的相位計(jì)算方式為沿著光線方向，而不是表面法向量方向。

例如，沒有辦法考慮所有繞射階數(shù)來檢查點(diǎn)擴(kuò)展函數(shù)（PSF）。類似地，儘管可以追蹤“非有效”的順序光線，但沒有計(jì)算出繞射效率，因此沒有辦法知道雜散光路中的功率比。

CP2K計(jì)算電荷密度7.2. 自旋密度7.3. HOMO/LUMO分子軌道7.4. 電荷密度差分7.5. 平面平均的電荷密度7.6. Bader 電荷案例分析：QM/MM模擬KCl表面 第四天 下午 8. 復(fù)現(xiàn)文獻(xiàn)案例以及如何進(jìn)行分析8.1.

2.1.3 表格 1）物料平衡表：包括物流組成、溫度、壓力、狀態(tài)、流量、密度、焓值、粘度等理化常數(shù)（熱負(fù)荷表示在此表中或PFD圖上）。 2）工藝設(shè)備數(shù)據(jù)表：根據(jù)設(shè)備形式不同、作用不同以及介質(zhì)不同可分為容器、塔器、換熱器、工業(yè)爐、機(jī)泵、攪拌器的等。工藝設(shè)備數(shù)據(jù)表需表示出設(shè)備位號(hào)、介 質(zhì)名稱、操作壓力、設(shè)計(jì)壓力、操作溫度、設(shè)計(jì)溫度、材質(zhì)、傳動(dòng)機(jī)構(gòu)、外形尺寸、特征尺寸及特殊要求。