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帖子 Moldex3D模流分析之Tokyo Seiki公司使用模流大幅減少試模次數(shù)
設(shè)計變更的主導(dǎo)權(quán),已大幅度的由傳統(tǒng)式的只做代工向上提升,每一批模具代工至少有一半以上的模具,是由 Tokyo Seiki 主導(dǎo)修改產(chǎn)設(shè)計,例如最近接手的印表機(jī)組件的流道不平衡問題,以及某知名國際相機(jī)廠牌的產(chǎn)品翹曲改良。對癥下藥,增加產(chǎn)品強(qiáng)度:流動平衡與結(jié)合線問題改良流動平衡目的是避免成品後所發(fā)變形的主要改善方案,尤其針對精密性產(chǎn)品,在分析過程中常以流動平衡指數(shù)來作為比較數(shù)據(jù)。
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Moldex3D 中國 ??? 3年前
Moldex3D模流分析之Tokyo Seiki公司使用模流大幅減少試模次數(shù)
帖子 Ansys Zemax光學(xué)設(shè)計軟件技術(shù)教程:眼科鏡片設(shè)計
然而,這個結(jié)論是根據(jù)我們的設(shè)計流程而來的,基於平面入射波、視場角與其權(quán)重、透鏡與眼睛旋轉(zhuǎn)中心的距離、一些像差的忽略 (尤其是對畸變的忽略),以及其他更多的假設(shè)。在一般的認(rèn)知中,以上的方法並不能產(chǎn)具有“最佳形態(tài)”或是“校正曲線”的透鏡,意思是無法製造出能完美修正像差,同時又可配合所有鏡片屈光率的微小基本曲線半徑。可產(chǎn)最佳成像品質(zhì)的鏡片設(shè)計會根據(jù)配戴者和視覺環(huán)境的不同而存在極大的差異。
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w**elab86_Swsp ??? 3年前
Ansys Zemax光學(xué)設(shè)計軟件技術(shù)教程:眼科鏡片設(shè)計
帖子 ZEMAX軟件技術(shù)應(yīng)用專題:如何在OpticStudio中設(shè)計DOE透鏡或超穎透鏡
參考文獻(xiàn)[4]中討論了一個很好的例子,其中DOE矢高由產(chǎn)像菲涅耳 (Fresnel)透鏡的閃耀結(jié)構(gòu)的方程式描述。除了功能大小的限制之外,此方法的另一個缺點是設(shè)計人員可能仍需要定制一些工具來增強(qiáng)OpticStudio提供的功能。例如,如參考文獻(xiàn)[4]中所述,目前尚無原生序列表面支撐起泡的下垂。用戶需要創(chuàng)建自己的序列表面DLL來建模唯一的表面下垂。
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w**elab86_Swsp ??? 3年前
ZEMAX軟件技術(shù)應(yīng)用專題:如何在OpticStudio中設(shè)計DOE透鏡或超穎透鏡
帖子 ZEMAX軟件技術(shù)應(yīng)用專題:在 OpticStudio 中模擬高階雷射光束
定義後,此類光束可以在 OpticStudio 中使用物理光學(xué)傳播設(shè)計的任何光學(xué)系統(tǒng)中傳播。從具有矩形、圓形和橢圓形增益孔徑的雷射共振腔產(chǎn)的光束可以使用 Hermite-Gaussian、Laguerre-Gaussian Ince-Gaussian 光束的可用模型進(jìn)行表徵。
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w**elab86_Swsp ??? 3年前
ZEMAX軟件技術(shù)應(yīng)用專題:在 OpticStudio 中模擬高階雷射光束
帖子 ZEMAX軟件技術(shù)應(yīng)用專題:智慧型手機(jī)鏡頭模組
同樣,OpticStudio 提供了分析特性的能力,例如最大局部表面斜率,並在優(yōu)化過程中控制這些特性以確保最終的光學(xué)設(shè)計是可製造的。射出成型技術(shù)使可能的創(chuàng)新光學(xué)機(jī)構(gòu)設(shè)計技術(shù),具有大規(guī)模產(chǎn)的模塊很多好處。鏡頭可以設(shè)計成具有復(fù)雜的邊緣特徵,使它們能夠堆疊,從而簡化組裝並消除對齊的需要。Zemax 工具使注塑光學(xué)元件的可能性最大化變得簡單。
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w**elab86_Swsp ??? 3年前
ZEMAX軟件技術(shù)應(yīng)用專題:智慧型手機(jī)鏡頭模組
帖子 ZEMAX軟件技術(shù)應(yīng)用專題:在薄膜計算中Ray以及Field系數(shù)是什麼?
某個角度的一道入射平面波會在下面兩個介面中反覆交錯無數(shù)次:空到膜層介面以及膜層到基板介面。在每一次的交錯中,就相應(yīng)產(chǎn)一道穿透以及一道反射光場,最後這些光場會在同調(diào)的假設(shè)下相加。經(jīng)過一番如魔術(shù)般建設(shè)性以及破壞性干涉後,最後的結(jié)果可以用巨觀的反射以及穿透係數(shù)來表示。入射光的場並非用單一個點來描述,相對的,我們會假設(shè)該場比多重光束干涉發(fā)的區(qū)域更大許多。
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w**elab86_Swsp ??? 3年前
ZEMAX軟件技術(shù)應(yīng)用專題:在薄膜計算中Ray以及Field系數(shù)是什麼?
帖子 Zemax光學(xué)設(shè)計技術(shù)教程:如何使用Jones Matrix表面
任意兩種材料間的介面都可以使入射光產(chǎn)偏極化的現(xiàn)象,而OpticStudio可以將這個結(jié)果完整的呈現(xiàn)。除此之外,OpticStudio也為一般的偏極化裝置提供了理想的模型。
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w**elab86_Swsp ??? 3年前
Zemax光學(xué)設(shè)計技術(shù)教程:如何使用Jones Matrix表面
帖子 高靈敏度10按鍵觸摸感應(yīng)芯片VK3610IM電容式觸控IC原廠,提供串行界面SCK、SDA、INT 作為與MCU溝通方式
6 內(nèi)建 LDO 及抗源雜訊的處理程序,對源漣波的干擾有很好的耐受能力。 7 不使用的按鍵請接地,避免太過靈敏而產(chǎn)誤動。
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西瓜妹1 ??? 2年前
高靈敏度10按鍵觸摸感應(yīng)芯片VK3610IM電容式觸控IC原廠,提供串行界面SCK、SDA、INT 作為與MCU溝通方式
帖子 ZEMAX軟件技術(shù)應(yīng)用專題:如何為光學(xué)相干斷層掃描系統(tǒng)建模
這表明發(fā)了重大變化。代表性的OCT系統(tǒng)如下所示。 光束應(yīng)均勻地分成兩臂,其中一個在樣品體積上會聚,以最小化給定掃描的照射面積。 光源應(yīng)為一束準(zhǔn)直的寬帶光束;大帶寬意味著低相干性和高精度定位產(chǎn)相干性的深度。深度掃描也稱為軸向掃描或A掃描,它根據(jù)反射到樣品中的距離來測量反射光的強(qiáng)度。
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w**elab86_Swsp ??? 3年前
ZEMAX軟件技術(shù)應(yīng)用專題:如何為光學(xué)相干斷層掃描系統(tǒng)建模
帖子 Moldex3D模流分析之螺桿分析模組
然而,不真實的熔化溫度會誤導(dǎo)進(jìn)一步的製程,而無法透過射出成型產(chǎn)高性能產(chǎn)品。然而,ScrewPlus 在射出成型初期階段擷取真實熔化溫度上扮演著重要的角色。尤其是,ScrewPlus 可幫助我們在螺牙剪切後估計真實的熔化溫度,而非只能挑選噴嘴溫度或最後區(qū)域溫度。此外,可用於評估熔件的溫度均勻性,這可控制整個射出成型的品質(zhì)。
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Moldex3D 中國 ??? 1年前
Moldex3D模流分析之螺桿分析模組
帖子 ZEMAX軟件技術(shù)應(yīng)用專題:利用Kogelnik方法模擬體積全像光柵的繞射效率
透射和反射全像的繞射波和穿透波的TE(橫向場)的偏振場可以用以下4個公式計算。注意,在這個理論中,能量被假設(shè)為只在入射波、零階(直射波)和一階繞射波之間交換。若要消除這個限制,需要嚴(yán)格耦合波分析理論。對於TM(橫向磁場)極化,我們可以簡單地將κ替換為κTM,如下所示,仍然使用前面的公式。
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w**elab86_Swsp ??? 3年前
ZEMAX軟件技術(shù)應(yīng)用專題:利用Kogelnik方法模擬體積全像光柵的繞射效率
帖子 演講嘉賓揭曉!Ansys 2024 全球仿真大會邀您共赴蘇州參會交流
蘇州英磁新能源科技有限公司 電氣工程學(xué)院 二級教授(博導(dǎo))演講主題:軟磁材料多物理場下性能表征與電機(jī)模型重建技術(shù)秦宗仁 | 博世華域轉(zhuǎn)向系統(tǒng)有限公司 工程師演講主題:博世華域汽車轉(zhuǎn)向TAS傳感器電磁設(shè)計劉勇進(jìn) | 日立能源(中國)有限公司 變壓器技術(shù)中心研發(fā)工程師演講主題:利用PyAEDT實現(xiàn)干式變壓器電磁仿真自動化戴冀 | 臺達(dá)電子企業(yè)管理(上海)有限公司 機(jī)設(shè)計
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技術(shù)鄰公告 ??? 1年前
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