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圖 3 很好地證明了這種轉(zhuǎn)變Bandres 和 Gutiérrez-Vega 的論文：2作者直接提供的另一個圖也顯示了這種轉(zhuǎn)變（對於 p = 4）：2當(dāng) e 接近 0 時，Ince-Gaussian DLL 準確地再現(xiàn)了 Laguerre-Gaussian 模態(tài)的結(jié)果。

體積全像在許多類型的光學(xué)系統(tǒng)中很受歡迎，例如：抬頭顯示器（HUD）、擴增實境（AR）和虛擬實境（VR）的頭戴型顯示器（HMD）。全像能夠?qū)⒐饩€繞射到任何所需的角度，其波長和角度的選擇性使其能夠創(chuàng)造更輕、更緊密的光學(xué)系統(tǒng)。OpticStudio長期以來一直支持理想全像的模擬。然而，為了準確地說明體積全像的特性，除了考慮繞射光線的傳播方向外，還必須考慮繞射效率、材料收縮或折射率變化等因素。

透鏡參數(shù)在光學(xué)設(shè)計上常使用的最小化Seidel斜向像散的方法可透過在OpticStudio的評價函數(shù)中加入ASTI操作數(shù)達成目的，此時我們將目標值設(shè)為0、加大權(quán)重，並且使用單一波長。在縮小遠點球面上最小模糊圈的方面，我們可以透過OpticStudio的預(yù)設(shè)優(yōu)化函數(shù)和光點半徑標準等功能達成目的。

一般而言，偏振片和玻板(waveplate)確實是用在準直入射光線或發(fā)散角(divergence angle)極小的情況下。假如是入射光束是準直的，且與Jones Matrix互相垂直。我們可以經(jīng)由 k ? E = 0以及傳播向量k具有{0, 0, 1}分量，這兩個前提得知Ez一定為0。同時，我們可以利用Ex和Ey表示入射光的偏振態(tài)。

基本資訊：螺桿的直徑與長度2. 料管：?料管類型：平面或凹槽類型?加熱區(qū)域特性3. 螺桿特性：?區(qū)段長度及其類型?螺紋距離及其寬度?溝槽深度材料：需要熱力學(xué)與流變性特性。Moldex3D「材料精靈」會自動提供。製程條件：必須指定如螺桿位置等運作條件。Moldex3D「加工精靈」會自動提供一些重要的製程條件。

陣列中每個單獨的光學(xué)元件的形狀可以是正方形或矩形。單個光學(xué)元件的表面形狀可以是球面或變形（垂直和水準子午線的光焦度不同）。光焦度通常僅在陣列的一個表面上，而第二個表面通常是平面的。在 OpticStudio 中對此設(shè)置進行建模的最簡單方法之一是使用陣列物件 (array object)。

沖擊特性：沖擊測試Izodimpact 測試已經(jīng)是比較材料耐沖擊性的標準，一般多以在試片上做「缺口(notched)」之試片的測試結(jié)果作為參考。

一般而言，偏振片和玻板(waveplate)確實是用在準直入射光線或發(fā)散角(divergence angle)極小的情況下。假如是入射光束是準直的，且與 Jones Matrix 互相垂直。我們可以經(jīng)由 k ? E = 0 以及傳播向量k具有 {0, 0, 1} 分量，這兩個前提得知 Ez 一定為 0。同時，我們可以利用 Ex 和 Ey 表示入射光的偏振態(tài)。

一般而言，偏振片和玻板(waveplate)確實是用在準直入射光線或發(fā)散角(divergence angle)極小的情況下。假如是入射光束是準直的，且與 Jones Matrix 互相垂直。我們可以經(jīng)由 k ? E = 0 以及傳播向量k具有 {0, 0, 1} 分量，這兩個前提得知 Ez 一定為 0。同時，我們可以利用 Ex 和 Ey 表示入射光的偏振態(tài)。

? 在流動方向上具有很高的拉伸強度與拉伸模數(shù)。? 成型周期時間短、冷卻時間短，且不容易產(chǎn)生毛邊。? 低吸濕性和低熱膨脹系數(shù)(CTE)，材料性質(zhì)可與鋼和陶瓷媲美，尺寸穩(wěn)定性高。? 熱變形溫度(HDT) 高，最佳等級可高達340° C；但某些等級（例如III 型）要低得多。

一般而言，偏振片和玻板(waveplate)確實是用在準直入射光線或發(fā)散角(divergence angle)極小的情況下。假如是入射光束是準直的，且與 Jones Matrix 互相垂直。我們可以經(jīng)由 k ? E = 0 以及傳播向量k具有 {0, 0, 1} 分量，這兩個前提得知 Ez 一定為 0。同時，我們可以利用 Ex 和 Ey 表示入射光的偏振態(tài)。

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