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鍍膜方法主要可分為氣相生成法、氧化法、離子注入法、擴散法、電鍍法、涂布法、液相生長法等。其中，氣相生成法又可以分為物理氣相沉積（Phiysical Vapor Deposition, PVD）、化學氣相沉積（Chemical Vapor Deposition, CVD）和原子層沉積（Atomic Layer Deposition, ALD）等。