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摘要可變角度橢圓偏振光譜儀（VASE）是一種常用的技術，由于其對光學參數的微小變化具有高靈敏度，而被用在許多使用薄膜結構的應用中，如半導體、光學涂層、數據存儲、平板制造等。在本用例中，我們演示了VirtualLab Fusion中的橢圓偏振分析器在二氧化硅（SiO2）涂層上的使用。對于系統的參數，我們參考Woollam等人的工作 "可變角度橢圓偏振光譜儀（VASE）概述。I.

摘要 可變角度橢圓偏振光譜儀（VASE）是一種常用的技術，由于其對光學參數的微小變化具有高靈敏度，而被用在許多使用薄膜結構的應用中，如半導體、光學涂層、數據存儲、平板制造等。在本用例中，我們演示了VirtualLab Fusion中的橢圓偏振分析器在二氧化硅（SiO2）涂層上的使用。對于系統的參數，我們參考Woollam等人的工作 "可變角度橢圓偏振光譜儀（VASE）概述。

摘要可變角度橢圓偏振光譜儀（VASE）是一種常用的技術，由于其對光學參數的微小變化具有高靈敏度，而被用在許多使用薄膜結構的應用中，如半導體、光學涂層、數據存儲、平板制造等。在本用例中，我們演示了VirtualLab Fusion中的橢圓偏振分析器在二氧化硅（SiO2）涂層上的使用。對于系統的參數，我們參考Woollam等人的工作 "可變角度橢圓偏振光譜儀（VASE）概述。I.

摘要可變角度橢圓偏振光譜儀（VASE）是一種常用的技術，由于其對光學參數的微小變化具有高靈敏度，而被用在許多使用薄膜結構的應用中，如半導體、光學涂層、數據存儲、平板制造等。在本用例中，我們演示了VirtualLab Fusion中的橢圓偏振分析器在二氧化硅（SiO2）涂層上的使用。對于系統的參數，我們參考Woollam等人的工作 "可變角度橢圓偏振光譜儀（VASE）概述。I.

有一點必須要特別注意的，Jones Matrix並不會因為Ez的變化產生改變 (系統預設入射光垂直入射偏振片)。一般而言，偏振片和玻板(waveplate)確實是用在準直入射光線或發散角(divergence angle)極小的情況下。假如是入射光束是準直的，且與Jones Matrix互相垂直。

這個慣例暗示了相位變化在正向入射上為最大，並且隨著入射角變大、相對應餘弦值變小而相位變化也漸漸變小。但光線追跡上，我們是使用不同的方法來描述的。光線追跡的處理方式是如同上面第一張圖表的。過程中只有三條光線：入射、穿透以及反射。你可以隨意的放大檢視，永遠只有三條線。膜層本身不用光線追跡來處理，而用不同的函數來操作。對於光線追跡，光學相位的超前或延遲都是沿著光線觀察的。

定義後，此類光束可以在 OpticStudio 中使用物理光學傳播設計的任何光學系統中傳播。從具有矩形、圓形和橢圓形增益孔徑的雷射共振腔產生的光束可以使用 Hermite-Gaussian、Laguerre-Gaussian Ince-Gaussian 光束的可用模型進行表徵。

橢圓偏振分析器 本用例展示了橢圓偏振法的基本原理，并說明了VirtualLab Fusion中內置的橢圓儀分析器的使用。 SiO2涂層的可變角度光譜橢圓偏振（VASE）分析 本用例說明了在VirtualLab Fusion中實現的橢圓偏振分析器在文獻中的使用：Woollam et al., Proc.

SiO2涂層的可變角度光譜橢圓偏振（VASE）分析本用例說明了在VirtualLab Fusion中實現的橢圓偏振分析器在文獻中的使用：Woollam et al., Proc. SPIE 10294, 1029402 (1999).

模型系統健康人眼的角膜和虹膜（A）以及視網膜組織（B）的橫截面圖像如下所示。 顏色變化對應於返迴光強度的變化。 這表明發生了重大變化。代表性的OCT系統如下所示。 光束應均勻地分成兩臂，其中一個在樣品體積上會聚，以最小化給定掃描的照射面積。 光源應為一束準直的寬帶光束；大帶寬意味著低相干性和高精度定位產生相干性的深度。

實例系統請參閱完整的用例：SiO2涂層的可變角度橢偏光譜(VAS)分析分析器的示例輸出分析器的示例輸出——穆勒矩陣文件信息延伸閱讀SiO2涂層的可變角度橢偏光譜(VAS)分析

與入射面成45°角的線偏振光，由一個完善的系統反射或透射，輸出時將保持不變。ψ將保持在45°和Δ在0°或180°之間，取決于奇偶校驗。我們通過測量所需方向的輸出輻照度和任何正交偏振光的輸出輻照度來檢查這一點，并將PM定義為所需偏振模式的輻照度與總輻照度之比，其比例為0至100.0%。PM是一個可優化的量。圖4. 115nm SiO2保護膜銀反射鏡在45°入射時的反射和反射PM。

薄膜偏振片的種類很多，涉及到不同的光學制備工藝和具有實際應用價值的各種性能： 平板偏振器(圖1)僅由鍍膜玻璃板組成。這種設計通常是這樣設計的，即入射角在布魯斯特角處是必不可少的。以此方式，容易避免背面的透射光的反射損失。對于其他入射角度，如45°(通常很方便)，背面需要防反射涂層，而正面的層結構設計也可能更加困難。

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其中，I.50膜層是理想的50%透射的膜層，AR膜層是四分之波長厚度的MgF2抗反射膜層。 分析透射光強現在我們已經模擬了分光棱鏡的水平透射光路（折射光路）。您也可以通過鍍膜文件定義任意透射比例的理想膜層，或通過定義膜層厚度和材料種類的方法或定義透射率根據波長和入射角的函數的方法創建非理想的膜層。

圖4. 115nm SiO2保護膜銀反射鏡在45°入射時的反射和反射PM。 可以在堆棧文檔或包含介質的設計中進行錐角光源入射計算。在這里，我們相對于入射光的軸向光線及其入射平面定義p和s偏振。無論偏振是什么，接收器都測量總輻照度。錐角光線中的偏斜光線具有局部入射平面，并且它們的p和s方向可以與軸向光線不同，從而導致錐體的偏振模式之間的泄漏。如圖5 圖5.

在本文中，我們將在序列模式中建立如下圖所示的分光棱鏡系統： 系統中包含一個與偏振無關的50/50分光棱鏡。該棱鏡由 N-BK7 玻璃組成，并且表面鍍有 MgF2 抗反射膜層。其中，中間的50/50分光膜層為理想膜層，并且與偏振、入射角和波長無關。在上圖中顯示的綠色光線為反射光線，在入射到上面的像面前首先經過下面的反射鏡反射。

圖4. 115nm SiO2保護膜銀反射鏡在45°入射時的反射和反射PM。 可以在堆棧文檔或包含介質的設計中進行錐角光源入射計算。在這里，我們相對于入射光的軸向光線及其入射平面定義p和s偏振。無論偏振是什么，接收器都測量總輻照度。錐角光線中的偏斜光線具有局部入射平面，并且它們的p和s方向可以與軸向光線不同，從而導致錐體的偏振模式之間的泄漏。如圖5 圖5.

同時，光在雙折射晶體中的傳播距離很短，因此光線在像面上基本重疊。定義雙折射輸入/輸出面的模式參數為2，設置輸入光為45°線偏光。我們可以看到輸出光為完美的軸上圓偏振光。這一結果和真正的零級波片基本一致，如下圖所示： 然而，隨著輸入光入射角的增加，等效零級波片逐漸引入相位延遲誤差，使輸出光的偏振態變為橢圓偏振光。

定義雙折射輸入/輸出面的模式參數為2，設置輸入光為45°線偏光。我們可以看到輸出光為完美的軸上圓偏振光。這一結果和真正的零級波片基本一致，如下圖所示：然而，隨著輸入光入射角的增加，等效零級波片逐漸引入相位延遲誤差，使輸出光的偏振態變為橢圓偏振光。在31.5°的入射角下，等效零級波片的所引入的延遲更接近于半波片而不是四分之一波片。有時候我們也會想要分析只有尋常光或非尋常光時的結果。