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正確計(jì)算光線的相位需要把電場(chǎng)逆向傳播到薄膜起始的位置，並且修正薄膜的相位計(jì)算方式為沿著光線方向，而不是表面法向量方向。Zemax OpticStudio把這些稱(chēng)之為 “ray” 係數(shù)。因?yàn)楣饴窂介L(zhǎng)是沿著光線方向計(jì)算的，並且光線長(zhǎng)度在薄膜中會(huì)隨著角度增加，因此光線的相位會(huì)以 1/cos(theta) 的變化方式近似，這樣才是增加膜層相位的光路徑長(zhǎng)時(shí)，正確表示方式。

波前的計(jì)算當(dāng)我們說(shuō)波前時(shí)，事實(shí)上通常是指波前 “差”，或是光程差，指的是同一件事。OpticStudio預(yù)設(shè)使用出瞳作為波前差的計(jì)算參考。因此，當(dāng)我們要計(jì)算一條光線的OPD時(shí)，此光線會(huì)從物面出發(fā)後一路追跡穿過(guò)光學(xué)系統(tǒng)，最終到達(dá)像面後，在循原方向後退追跡到 “參考球面”。此參考球面的球心是主光線與像面的交點(diǎn)，半徑是主光線與像面交點(diǎn)到主光線與出瞳面的焦點(diǎn)。

但是，在此限制下，使用 Laguerre-Gaussian DLL 在 OpticStudio 中對(duì)這些模態(tài)進(jìn)行建模在計(jì)算上更有效。隨著 e 接近 ∞，當(dāng)由 Ince-Gaussian DLL 計(jì)算的特徵值解發(fā)散時(shí)，就會(huì)到達(dá)一個(gè)點(diǎn)。這種發(fā)散行為是計(jì)算算法的限制。當(dāng)達(dá)到發(fā)散點(diǎn)時(shí)，Ince-Gaussian DLL 產(chǎn)生的結(jié)果變得不準(zhǔn)確。

類(lèi)似地，儘管可以追蹤“非有效”的順序光線，但沒(méi)有計(jì)算出繞射效率，因此沒(méi)有辦法知道雜散光路中的功率比。Figure 1 在OpticStudio中設(shè)計(jì) DOE /超穎透鏡的可能工作流程1.2 相位 -> 微觀結(jié)構(gòu) ->用POP + FDTD驗(yàn)證為了解決先前流程的缺點(diǎn)，即在製造之前無(wú)法模擬系統(tǒng)性能，可以使用物理光學(xué)傳播（POP）和 FDTD 來(lái)精確計(jì)算PSF。

下圖為算例仿真結(jié)果：船體在0-360°不同方向入射電磁波下發(fā)出的相對(duì)電場(chǎng)強(qiáng)度船體在30度方向入射電磁波下發(fā)出的相對(duì)電場(chǎng)瞬時(shí)強(qiáng)度 0-360°不同方向入射電磁波下的單位長(zhǎng)度雷達(dá)截面積(RCS)，可以看到圖中90 °和270°處的突出峰，因?yàn)榇膫?cè)邊是平坦的，如果雷達(dá)在這個(gè)方向，則發(fā)射波的大部分都能被反射。文章內(nèi)容轉(zhuǎn)自公眾號(hào)“云數(shù)仿真”！

Chong 先生指出：「由於憑傳統(tǒng)經(jīng)驗(yàn)和直覺(jué)的設(shè)計(jì)方式已經(jīng)無(wú)法完全掌握日新月異的產(chǎn)品，因此以嚴(yán)謹(jǐn)?shù)?CAE 分析計(jì)算來(lái)決定模具設(shè)計(jì)品質(zhì)已成為該公司的絕佳競(jìng)爭(zhēng)力和業(yè)務(wù)著力點(diǎn)，模流分析結(jié)果更是有效說(shuō)服客戶修改設(shè)計(jì)的優(yōu)質(zhì)工具。」

透射和反射全像的繞射波和穿透波的TE(橫向電場(chǎng))的偏振電場(chǎng)可以用以下4個(gè)公式計(jì)算。注意，在這個(gè)理論中，能量被假設(shè)為只在入射波、零階（直射波）和一階繞射波之間交換。若要消除這個(gè)限制，需要嚴(yán)格耦合波分析理論。對(duì)於TM(橫向磁場(chǎng))極化，我們可以簡(jiǎn)單地將κ替換為κTM，如下所示，仍然使用前面的公式。

過(guò)去，Sultanova等人發(fā)表了 15種光學(xué)塑膠的折射率資料(參考資料2)，每種材料都有8個(gè)波長(zhǎng)的資料，並同時(shí)計(jì)算了每個(gè)材料的阿貝數(shù) (V)。每個(gè)OpticStudio的眼科光學(xué)塑膠材料 (包含現(xiàn)在使用的這個(gè)) 都是先假設(shè)其色散曲線、折射率、阿貝數(shù)均與Sultanova的塑膠相似，接著利用Conrady公式，從NF、Nd、Ne及NC的數(shù)值中建立材料檔案。

這篇解釋了 Alvarez 變焦鏡頭的主要原理，並包括在 Zemax OpticStudio 中對(duì) Alvarez 變焦鏡頭計(jì)算和建模的演示。Luis Walter Alvarez（生於1911 年 6 月 13 日 – 卒於1988 年 9 月 1 日）是美國(guó)實(shí)驗(yàn)物理學(xué)家、發(fā)明家和教授。他還是 1968 年諾貝爾物理學(xué)獎(jiǎng)獲得者。

相干性是OCT的必要來(lái)源屬性，因此我們將使用此方法並允許OpticStudio透過(guò)以下方式執(zhí)行帶寬計(jì)算和採(cǎi)樣：物件設(shè)定顯示:醫(yī)療保健的美好未來(lái)我們很高興看到OCT系統(tǒng)在醫(yī)學(xué)領(lǐng)域的發(fā)展以及在未來(lái)幾年中將要出現(xiàn)的創(chuàng)新。隨著這項(xiàng)技術(shù)的發(fā)展，醫(yī)療保健的品質(zhì)將不斷提高，從而使我們所有人的生活品質(zhì)得到改善。

Altair 雷達(dá)系統(tǒng)的RCS和散射仿真01內(nèi)容大綱1. 電磁隱身仿真物理概念2. 電磁隱身仿真流程與演示3. 電磁模型模型處理與求解器選擇4. 電磁隱身典型算例：自動(dòng)駕駛、天線陣，低散射目標(biāo)等5.

總結(jié)與討論當(dāng)顆粒數(shù)超過(guò)6w時(shí)，對(duì)于普通的PC電腦來(lái)說(shuō)，一般的成樣方法可能需要花費(fèi)2-3天，而本文提出的成樣方法對(duì)于二維大概一個(gè)小時(shí)、三維一天就能夠算完。

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面對(duì)時(shí)代賦予的機(jī)遇和挑戰(zhàn)，國(guó)家超級(jí)計(jì)算無(wú)錫中心“神工坊”團(tuán)隊(duì)，秉持“算力賦能、協(xié)同創(chuàng)新”的理念，提供高性能仿真應(yīng)用定制開(kāi)發(fā)服務(wù)，基于客戶需求和客戶實(shí)際工作場(chǎng)景，開(kāi)發(fā)定制化高性能仿真應(yīng)用，賦予其高保真仿真能力的同時(shí)，具備友好的用戶使用體驗(yàn)。

ps:一階濾波器詳細(xì)分析參考《一階RC低通濾波算法》我們?cè)僭囋嚩A濾波器，二階低通濾波器函數(shù)為：二階高通濾波器為：令所有系數(shù)為1，a1=a2=a3=b1=b2=b3=1,畫(huà)出濾波器的伯德圖結(jié)果也是符合預(yù)期的。所以，可以看見(jiàn)很過(guò)論文把這個(gè)過(guò)程進(jìn)行了總結(jié)，給出了通用的低通濾波函數(shù)：當(dāng)C(s) = 常數(shù)時(shí)，對(duì)應(yīng)的就是一階濾波器。

形狀建模后首先用腳本導(dǎo)入步驟1算得各偏壓下的折射率分布，分別利用Eigenmode求解器算出波長(zhǎng)1.55um下的基本模態(tài)信息，包含等效折射率、群折射率、損耗、以及估算有效調(diào)變長(zhǎng)度為4.5毫米下的相移，并用腳本提取有效折射率相對(duì)于零偏差的變化，零偏差是 INTERCONNECT 中傳輸線幅度調(diào)制的參考（中間）偏差。

關(guān)鍵概念：容性和阻性，容性：輸入流量和輸入壓力，阻性：根據(jù)變壓差算流量。

這里小編推薦一款由工采網(wǎng)代理的國(guó)產(chǎn)品牌MYSENTECH推出的電容傳感芯片，數(shù)字電容傳感芯片 - MC11S，該芯片是高集成度雙通道電容型傳感芯片，芯片直接與被測(cè)物附近的差分電容極板相連，通過(guò)諧振激勵(lì)并解算測(cè)量微小電容的變化。激勵(lì)頻率在0.1~20MHz范圍內(nèi)可配置，其頻率測(cè)量輸出為16bit數(shù)字信號(hào)，對(duì)應(yīng)的電容感知較高分辨率為1fF。