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圖 3 很好地證明了這種轉(zhuǎn)變Bandres 和 Gutiérrez-Vega 的論文：2作者直接提供的另一個(gè)圖也顯示了這種轉(zhuǎn)變（對(duì)於 p = 4）：2當(dāng) e 接近 0 時(shí)，Ince-Gaussian DLL 準(zhǔn)確地再現(xiàn)了 Laguerre-Gaussian 模態(tài)的結(jié)果。

此外，當(dāng)前OpticStudio不支援在例如Y-Z平面上顯示橫截面PSF。如參考文獻(xiàn)[4]中所述，需要一個(gè)巨集來(lái)掃描不同Z位置的PSF並創(chuàng)建圖。1.4 參數(shù)化 DOE 矢高-> POP像上述方法一樣，可以透過(guò)在OpticStudio中對(duì)二進(jìn)制矢高建模來(lái)模擬菲涅耳波帶片。但是，對(duì)於這種類(lèi)型的DOE，光線追跡引擎將無(wú)法正常工作。垂直入射到DOE上的光線不會(huì)改變其方向，因?yàn)楸砻鏇](méi)有傾斜。

此外還有一點(diǎn)是我們需要特別注意的，範(fàn)例所使用的設(shè)計(jì)方法忽略了大部分的複雜人眼結(jié)構(gòu)，此處我們僅考慮瞳孔的大小，且此時(shí)無(wú)轉(zhuǎn)動(dòng)的眼睛也是不被納入考量的。如下圖，對(duì)一個(gè)遠(yuǎn)視的眼睛而言，其遠(yuǎn)點(diǎn)球位於眼球的後方。在OpticStudio中，眼科鏡片的設(shè)計(jì)看起來(lái)是十分簡(jiǎn)單的。我們可以輸入鏡片後表面頂點(diǎn)處的屈光率作為此表面的一組解，此時(shí)系統(tǒng)便只剩鏡片前表面的曲率半徑(或稱(chēng)為基本曲線)這個(gè)唯一變數(shù)。

相干性是OCT的必要來(lái)源屬性，因此我們將使用此方法並允許OpticStudio透過(guò)以下方式執(zhí)行帶寬計(jì)算和採(cǎi)樣：物件設(shè)定顯示:醫(yī)療保健的美好未來(lái)我們很高興看到OCT系統(tǒng)在醫(yī)學(xué)領(lǐng)域的發(fā)展以及在未來(lái)幾年中將要出現(xiàn)的創(chuàng)新。隨著這項(xiàng)技術(shù)的發(fā)展，醫(yī)療保健的品質(zhì)將不斷提高，從而使我們所有人的生活品質(zhì)得到改善。

經(jīng)過(guò)一番如魔術(shù)般建設(shè)性以及破壞性干涉後，最後的結(jié)果可以用巨觀的反射以及穿透?jìng)S數(shù)來(lái)表示。入射光的電場(chǎng)並非用單一個(gè)點(diǎn)來(lái)描述，相對(duì)的，我們會(huì)假設(shè)該電場(chǎng)比多重光束干涉發(fā)生的區(qū)域更大許多。在Zemax OpticStudio中，我們使用field係數(shù)來(lái)表示這個(gè)結(jié)果，這些係數(shù)已經(jīng)被薄膜膜層的程式驗(yàn)證過(guò)許多次。

探測(cè)器檢視器(Detector Viewer)可以顯示探測(cè)器上輻射特性的測(cè)量結(jié)果，但它不顯示從雷射雷達(dá)光源返回到雷射雷達(dá)探測(cè)器的光線經(jīng)過(guò)的距離。這就是ZOS-API派上用場(chǎng)的時(shí)候！自訂分析可以顯示探測(cè)器到物體的距離資料，從而反映飛行時(shí)間的資訊。使用光線資料庫(kù)檢視器讀取ZRD檔光線的路徑長(zhǎng)度可以在ZRD檔中讀取，這些檔是光線資料庫(kù)檔。

圖1（a）所示的SRG，可以通過(guò)幾種方法製造，如電子束寫(xiě)入，光刻，納米壓印，或鑽石車(chē)削。與VHG不同，SRG沒(méi)有空間變化的折射率。相反，光柵的表面是由周期性的微結(jié)構(gòu)組成的。為了對(duì)SRG進(jìn)行建模，需要採(cǎi)用類(lèi)似傅里葉模態(tài)法（也叫RCWA）的算法。本文將介紹VHG的工具。

每個(gè) Alvarez 透鏡都是一個(gè)自由曲面光學(xué)元件，只有一個(gè)對(duì)稱(chēng)平面。 Fig 3. Alvarez 鏡組 (圖片來(lái)源: www.spiedigitallibrary.org) 如下圖所示，每個(gè) Alvarez 鏡組代表一個(gè)具有光功率變化的光學(xué)元件。每對(duì)中Alvarez鏡片的橫向位移會(huì)改變Alvarez鏡組的光焦度。圖4.

設(shè)計(jì)變更的主導(dǎo)權(quán)，已大幅度的由傳統(tǒng)式的只做代工向上提升，每一批模具代工至少有一半以上的模具，是由 Tokyo Seiki 主導(dǎo)修改產(chǎn)品設(shè)計(jì)，例如最近接手的印表機(jī)組件的流道不平衡問(wèn)題，以及某知名國(guó)際相機(jī)廠牌的產(chǎn)品翹曲改良。對(duì)癥下藥，增加產(chǎn)品強(qiáng)度：流動(dòng)平衡與結(jié)合線問(wèn)題改良流動(dòng)平衡目的是避免成品後所發(fā)生變形的主要改善方案，尤其針對(duì)精密性產(chǎn)品，在分析過(guò)程中常以流動(dòng)平衡指數(shù)來(lái)作為比較數(shù)據(jù)。

將E和k分別以分量的形式帶入，我們可以得到下方的結(jié)果。任意兩種材料間的介面都可以使入射光產(chǎn)生偏極化的現(xiàn)象，而OpticStudio可以將這個(gè)結(jié)果完整的呈現(xiàn)。除此之外，OpticStudio也為一般的偏極化裝置提供了理想的模型。

下圖顯示了透鏡陣列1物體，它是由7 x 5個(gè)矩形透鏡組成的透鏡陣列，每個(gè)矩形透鏡都可以看作一個(gè)球面透鏡的矩形區(qū)域。其它可以用於該應(yīng)用程式的物體包括透鏡陣列2物件和六邊形透鏡陣列(Hexagonal Lenslet Array)物件。

在按下 [加工精靈] (Process Wizard) 按鈕後，便會(huì)顯示以下資訊。