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這些模式的電場(chǎng)分佈可以寫成 Hermite 多項(xiàng)式。此類模式可以在 OpticStudio 中使用 POP 設(shè)置對(duì)話框中的內(nèi)置“高斯腰”光束定義進(jìn)行建模：此模式的主要輸入是 X 和 Y 中束腰以及 X 和 Y 中光束的階數(shù)。以上設(shè)置演示瞭如何對(duì) X 和 Y 中具有相同腰尺寸的 (0,0) 模式進(jìn)行建模，對(duì)應(yīng)於單模高斯光束。

光學(xué)相干斷層掃描（OCT）是一種斷層成像系統(tǒng)，可以根據(jù)從圖像反射或散射的光生成橫截面或三維圖像。 醫(yī)用組織成像是該系統(tǒng)的最典型應(yīng)用，因?yàn)镺CT安全且具有高分辨率，儘管光可以穿透的深度限制在毫米量級(jí)。OCT測(cè)量系統(tǒng)依賴於邁克森干涉儀 (Michelson interferometer)，使得從參考物反射的光與樣品之間的相干性表明散射光源自樣品中與參考鏡的位置相對(duì)應(yīng)的深度。

第一對(duì)Alvarez鏡組代表伽利略系統(tǒng)的物鏡，而第二對(duì)Alvarez鏡組代表目鏡。要了解更多資訊，您可以在 MyZemax.com 找到以下文章，這些文章將介紹如何在 OpticStudio 中對(duì) Alvarez 變焦鏡頭進(jìn)行建模並查看真實(shí)範(fàn)例！

如下圖，對(duì)一個(gè)遠(yuǎn)視的眼睛而言，其遠(yuǎn)點(diǎn)球位於眼球的後方。在OpticStudio中，眼科鏡片的設(shè)計(jì)看起來(lái)是十分簡(jiǎn)單的。我們可以輸入鏡片後表面頂點(diǎn)處的屈光率作為此表面的一組解，此時(shí)系統(tǒng)便只剩鏡片前表面的曲率半徑(或稱為基本曲線)這個(gè)唯一變數(shù)。下圖我們可以看到前述的-3.00D範(fàn)例的LDE設(shè)定 (此時(shí)後表面頂點(diǎn)的屈光率是-0.003mm^-1)。

在上圖中可以看到透鏡陣列。 （這張照片由 In Vision 提供，www.in-vision.at）。陣列中每個(gè)單獨(dú)的光學(xué)元件的形狀可以是正方形或矩形。單個(gè)光學(xué)元件的表面形狀可以是球面或變形（垂直和水準(zhǔn)子午線的光焦度不同）。光焦度通常僅在陣列的一個(gè)表面上，而第二個(gè)表面通常是平面的。在 OpticStudio 中對(duì)此設(shè)置進(jìn)行建模的最簡(jiǎn)單方法之一是使用陣列物件 (array object)。

讓我們?cè)谙衩嬷靶略鰞蓚€(gè)面，第一個(gè)面的厚度給予設(shè)定求解 = Pupil Position，第二個(gè)面給予設(shè)定求解 = Pickup，設(shè)定為前一個(gè)面的厚度乘以-1。並指定第二個(gè)面的Radius為求解Pickup，一樣是前一個(gè)面的厚度乘以-1。第二個(gè)面就是我們所說(shuō)的參考球面。

而傳播向量k的三個(gè)分量{l, m, n}則是電磁波在x, y, z方向上的Cosine分量。為了使下方的式子成立，E和k必須互相垂直。將E和k分別以分量的形式帶入，我們可以得到下方的結(jié)果。任意兩種材料間的介面都可以使入射光產(chǎn)生偏極化的現(xiàn)象，而OpticStudio可以將這個(gè)結(jié)果完整的呈現(xiàn)。除此之外，OpticStudio也為一般的偏極化裝置提供了理想的模型。

此外，當(dāng)前OpticStudio不支援在例如Y-Z平面上顯示橫截面PSF。如參考文獻(xiàn)[4]中所述，需要一個(gè)巨集來(lái)掃描不同Z位置的PSF並創(chuàng)建圖。1.4 參數(shù)化 DOE 矢高-> POP像上述方法一樣，可以透過(guò)在OpticStudio中對(duì)二進(jìn)制矢高建模來(lái)模擬菲涅耳波帶片。但是，對(duì)於這種類型的DOE，光線追跡引擎將無(wú)法正常工作。垂直入射到DOE上的光線不會(huì)改變其方向，因?yàn)楸砻鏇](méi)有傾斜。