ASML:最新光刻機可支持5nm制程工藝,很快進入中國市場

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2018中國集成電路產業發展研討會暨第二十一屆中國集成電路制造年會9月13日-14日正在無錫召開。全球高端光刻機壟斷霸主ASML亞太區技術營銷協理鄭國偉介紹,2018年下半年ASML已開始出貨最先進的浸潤式光刻機NXT:2000i,符合集成電路制造5nm制程工藝需求。ASML中國區總裁沈波在接受采訪時表示,這臺ASML最先進的設備也將很快在中國市場看到。

此前曾有消息稱ASML受到限制沒有把最好的機器設備銷售給中國,對此,沈波表示,上述說法并非事實。ASML的EUV、NXT:1980等高端設備均已進入中國。目前ASML最新最先進的支撐7nm/5nm制程工藝的NXT:2000i也會很快在中國市場看到。

根據 中銀國際 機械團隊統計,2018年5月19日,長江存儲訂購的ASML193nm浸沒式光刻機運抵武漢;5月21日,華力二期(華虹六廠)訂購的193nm雙極沉浸式光刻機NXT:1980Di已經進場。 中芯國際 也已向ASML購買一臺EUV(極紫外線)光刻設備,預計2019年交付。這些設備價格十分高昂,單價在7000萬美元至1.2億美元。

據統計,2017年全球半導體光刻設備廠中,ASML以80%以上的市占率穩居龍頭,其次是日本廠商尼康(Nikon)和 佳能 (Canon),而在高端EUV光刻機臺方面,ASML幾乎100%壟斷供應。

“如果我們交不出EUV的話,摩爾定律就會從此停止”,ASML董事長Peter曾接受媒體采訪時說。摩爾定律演進對設備廠商提出很大的技術研發挑戰,巨額的研發投入已經不是一家公司能夠負擔。目前, 英特爾 、 臺積電 、 三星 等ASML所服務的集成電路制造客戶,已經成為ASML的股東,協助ASML研發。 摩根大通 最新報告表示,ASML已經確認1.5nm制程的發展性,可支撐摩爾定律延續至2030年。沈波指出,2018年ASML投入16億歐元研發,占營收約15 %。

ASML總部位于荷蘭,脫胎于 飛利浦 光刻設備研究組,1995年在納斯達克上市。

來源:中證網 

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