新型納米復合材料實現光學器件的反復擦寫
光學波導器件是光學通訊的重要元器件,這類光波導器件通常采用傳統的半導體工藝制備,如光刻、電子束曝光、物理氣相沉積等,具有較高的制備成本及工藝難度;另一方面,傳統光學波導元件一旦制備成型,便無法擦除修正。隨著信息科學技術的迅猛發展,人們對光學元器件的快速、低成本制備及可重復擦寫充滿了期待。
近來,美國德克薩斯大學奧斯汀分校機械工程系的鄭躍兵教授及其帶領的研究團隊,研究開發了新的納米復合材料,首次實現了全光學技術制備、擦除光學波導器件,該技術可廣泛應用于新一代光學芯片的設計與開發。
德州大學研究團隊研發的納米復合材料,將低成本的鋁納米顆粒陣列嵌入一層300 nm的有機薄膜(聚甲基丙烯酸甲酯,PMMA)中。在光激發的條件下,該復合材料可同時兼具貴金屬納米顆粒的表面等離子激元和光學波導的屬性,成為等離子激元—波導混合模。為了實現該混合模波導的可擦寫,研究者將一種光感變色的螺吡喃(spiropyran)分子摻入PMMA薄膜中。在紫外光的照射下,螺吡喃分子在綠光波段產生激子,并與混合模波導發生強耦合作用,隨后他們將波導工作頻率調制到其他波段,從而實現了光波導的擦除;反之,在綠光的照射下,螺吡喃分子呈現光學透明性質,使混合波導有效工作,從而實現波導器件的寫入。

在該工作中,研究者在紫色光照射后的樣品中利用綠色激光掃描或投射改變復合波導的諧振頻率,將器件圖案直接寫入芯片上,再利用紫色光照射,實現波導器件的擦除。該技術充分利用了光學技術的高效和可控性,可實現不同復雜器件的重復性寫入和擦除。

該研究團隊表示,要將這項技術應用到半導體工業中,首先需要提高該復合材料的光學穩定性,延長其使用壽命。 此外,還需要調控嵌入納米顆粒陣列的光學屬性,使波導的諧振頻率與通訊頻率相匹配。鄭躍兵教授認為,超越傳統波導的可重寫光波導的出現,將會進一步引導其他可擦寫光學元器件的研發,如光學濾波器、傳感器、激光器、調制器等。這將主導光子集成電路的未來發展方向。
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