技術 | CPU與頂蓋(IHS)是如何焊接的?來自德國超頻達人的詳細分析(圖文詳解)!

這篇文章來自德國的超頻達人、開蓋狂魔der8auer(名稱來自德文“der Bauer” [d??? ?ba???],“農民”或“建造者”),而他的資料來源于Intel在2006年發的文章:

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以下是節選編譯。


一、為什么要有頂蓋?


CPU的頂蓋被稱為集成散熱器(Integrated Heat Spreader,IHS),從名字就能看出來,它是幫助CPU散熱的。CPU芯片(die,常被稱為裸片、核心)的表面積很小而發熱卻不小,需要有效地把熱量傳導出去。


另一個問題是,如果CPU散熱器(臺式機)直接安裝在芯片上,對小小的芯片施加壓力,有可能造成印制電路板(PCB)的變形,使其與主板CPU底座的連接不穩。頂蓋在這里起到了平攤壓力的作用。



二、有頂蓋的CPU大概是個什么結構?


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圖1:C4倒裝片封裝


不同的材料熱脹冷縮的程度不同,底部填充膠起到了必要的固定作用,避免芯片的損壞。

頂蓋通過黏合劑固定在電路板上,這種固定不是死的,使其可以有限地熱脹冷縮而不損壞芯片。



三、頂蓋用什么材料來做?


銅是個不錯的選擇,導熱系數達到400 W/(m*K),而價格不高。



四、拿什么把硅和銅焊接到一起?


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圖2:原料硅 [powerguru.org]

[譯注:此節數據不一定準確]


硅和銅的性質差異很大,

1.硅的導熱系數不低,有150 W/(m*K),而熱(線)膨脹系數較小,為2.6 μm/(m*K);

2.銅的熱(線)膨脹系數達16.5 μm/(m*K),是硅的6倍多,也就是說,銅的熱脹冷縮更為明顯。

對銅的焊接很常見,比如焊電路板時常用的錫焊。


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圖3:Sn60Pb40 有鉛焊錫 [pollin.de]


可是我們遇到了問題:焊錫和硅焊不到一起

另一個麻煩是,焊錫在凝固的過程中會收縮,有可能損壞芯片


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圖4:銦錠 [bloomfieldknoble.com]


幸運的是,有(且目前僅知)一種材料既能焊銅也能焊硅:


1.銦在凝固時不會縮得太厲害,減小了問題(但問題依然存在)。

2.銦的導熱系數不如銅高,但也達到了 81.8 W/(m*K),而一般的導熱膏只有5~10 W/(m*K)。

3.銦的延展性好,在頂蓋與芯片中間起到緩沖的作用,避免銅與硅熱脹冷縮程度不同造成的損壞。

4.銦的熔點約157 ℃,比常見的錫鉛合金低,比低溫回流焊用的錫鉍合金高。


銦可真棒不是嗎?但是用銦也有一些要考慮的地方:


1.銦暴露在空氣中會像鋁一樣形成一層氧化層;

2.銦的全球年產量不到1000噸(金有3000噸),十分稀有而昂貴(2014年約800美元/千克)。

3.視CPU尺寸而定,銦的原材料成本即達2-5美元。


[譯注:銦在科技領域應用廣泛,最大的用途是液晶屏的生產。銦的故事還很多,比如液態金屬,比如IGZO顯示屏,比如半導體前沿的砷化鎵銦,比如泛亞有色金屬交易所,比如我國是銦第一大產國……]



五、頂蓋的預處理


問題變得復雜了,有很多需要考慮的地方。

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圖5:開蓋后的CPU [xtreview.com]


可以看到,實際的CPU頂蓋并不顯銅的顏色,這是因為銅的表面鍍了一層鎳。鎳在這里主要起到擴散阻擋層(diffusion barrier)的作用,阻止銅原子的遷移。同時鎳也具有抗氧化、抗腐蝕、增強硬度與耐磨性的作用。

但是銦和鎳不太焊得來,為了結合得更緊密,又需要再來一層易潤濕(浸潤)的金屬,比如金、銀或鈀——都是些貴金屬。


金和銦比較容易形成合金,也是實際生產中的選擇:

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圖6:鍍金的頂蓋,鍍層厚度約1-3 μm [overclocking.guide]


六、釬料的預處理


銦表面的氧化層可用鹽酸處理。

銦必須有足夠的厚度(約1mm),避免在多次冷熱交替后出現裂痕。


七、芯片的預處理


如果將銦直接焊到硅上的話,銦將擴散入硅中,影響半導體性質乃至損壞芯片。所以需要在芯片表面再添一個阻擋層。

這個阻擋層包含的材料更為豐富:鈦、鎳和釩

在阻擋層之上,為了與銦結合,又需要一層金。


[譯注:原文在行文順序上有一定迷惑性。銦在此處作為釬焊料并非出于其對銅與硅的良好潤濕性,而是其較低的熔點與良好的延展性,與金結合后焊接牢固(粘附極佳)。銦作為特殊焊料在集成電路領域有重要地位]


八、焊接前后的狀態


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圖7:焊接前的各層材料 [overclocking.guide]

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上圖注解:
頂蓋:鎳、銅、鎳、金
釬料:銦
芯片:金、鎳釩合金、鈦、硅

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焊接的溫度控制在170 ℃左右。溫度過低會導致填隙不良,溫度過高會永久損壞CPU。


一些材料會在焊接過程中形成合金,焊接完畢后的結果如圖:

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圖8:焊接后的各層材料厚度 [overclocking.guide]

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上圖注解:

鎳(20μm)、銅(2mm)、鎳(20μm)、銦鎳金合金(0.1μm)、
銦金合金(2.5μm)、銦(1mm)、銦金合金(0.5μm)、銦鎳金合金(2μm)、
鎳釩合金、鈦、硅

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至此,頂蓋與芯片焊接完畢,大功告……成?


九、可能出現的問題

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圖9:銦在凝固過程中對頂蓋與芯片的互相拉扯,夸張圖示 [Intel]


需要注意的是,在焊接頂蓋與芯片的同時,頂蓋與電路板也粘合固定了。銦在凝固過程中不可避免地要收縮,往往造成邊角的質地不均勻。


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圖10:溫度循環造成的釬料中的空洞 [Intel]

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上圖注解:

1.焊接后(下線成品,end-of-line)、中度的溫度循環后、劇烈的溫度循環后

2.劇烈的溫度循環(冷熱交替)對釬料造成了顯著影響,張力使其內部產生了空洞。

3.空洞降低了導熱性能并增加了熱阻(Rjc),最終將會出現微裂紋,通常從四角開始。


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圖11:劇烈的溫度循環造成的微裂紋,照片總寬度約400μm [Intel]

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上圖注解:

Crack 裂紋、Solder TIM 釬料(導熱界面焊料)、Die Corner 芯片的一角

此處一個溫度循環為-55 ℃至125 ℃,并各保持15分鐘。

在沒有鍍金層的情況下,數個溫度循環后即出現釬料脫層。

(在有鍍金層的情況下)200至300個溫度循環后開始出現微裂紋,對四角處的熱阻提升明顯。微裂紋將會不斷增多,直至其作為導熱界面材料的功能失效。

空洞與微裂紋對整體散熱的危害程度與焊接面積有關,較小的芯片面積(小于130 mm2)會受其影響十分顯著,而較大的芯片面積(大于270 mm2)則受影響甚微。

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圖12:在劇烈的溫度循環后,較小的面積下熱阻增加明顯 [Intel]


譯注

德國超頻達人der8auer寫這篇文章的緣由非常有DIY精神:

    他想給i7 6700K極限超頻;

    他給6700K開了蓋,他想上液氮;

    在低于-190 ℃的低溫下,液態金屬無法正常工作,甚至導熱膏也不能;

    他開始查資料、學習、折騰,試圖把頂蓋焊到6700K上。

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可喜的是,與頂蓋焊接后的6700K在常溫風冷下表現良好(跟液金差不多);

可惜的是,在液氮下的測試失敗了,他“試圖尋找原因”但未見下文。


雖然沒有達到目標,卻也不白折騰,der8auer留下了這篇雄文,使得愛好者社群炸開了鍋,之后流傳甚廣,以至于Google搜索“cpu solder”或者“cpu soldering”出來的第一篇就是此文。


而關于Intel為何不再使用釬焊,文章自然也順著思路給出了答案:越來越小的芯片面積(die-size)和越來越薄的印制電路板(PCB)。

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當然這個答案并不足以服眾,有人傾向于技術原因,有人傾向于商業原因,眾說紛紜。而本文的重點在于CPU與頂蓋的焊接本身,便不多著墨。

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