干涉條紋研究

干涉測(cè)量是用于精確測(cè)量中最廣泛應(yīng)用的技術(shù)之一。通過觀察和研究條紋圖案,可以判斷表面形狀質(zhì)量或關(guān)于光譜帶寬的儀表信息。利用VirtualLab Fusion中非序列場(chǎng)追跡技術(shù),可以輕松地設(shè)置和分析光學(xué)干涉儀。在這里提出兩個(gè)經(jīng)典的基于邁克爾遜干涉儀的例子:一個(gè)高質(zhì)量相干激光光源,另一個(gè)寬帶白光光源。

干涉條紋研究的圖1

模擬使用氙氣燈作為光源的邁克爾遜干涉儀,充分考慮了光源的光譜特性(有限的相干長(zhǎng)度)。

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