VirtualLab:準直系統中鬼像效應的研究

摘要 

仿真技術的主要作用之一是提供一個平臺,以便在系統制造之前研究系統的性能,以便盡可能多地預防潛在的缺陷。雜散光是影響系統性能的最常見現象之一,雜散光可能有多個來源,其中包括系統中的內部偽反射。在這個用例中,我們分析了高Na激光二極管準直透鏡系統中這種反射的存在,我們模擬了產生的鬼像對探測場的影響(由主準直光束的干涉引起的同心環圖案和由雜散光產生的二次發散),并確定需要在透鏡系統的關鍵表面上涂上抗反射涂層。

VirtualLab:準直系統中鬼像效應的研究的圖1

建模任務

VirtualLab:準直系統中鬼像效應的研究的圖2

VirtualLab:準直系統中鬼像效應的研究的圖3

準直系統

VirtualLab:準直系統中鬼像效應的研究的圖4

非序列追跡

VirtualLab:準直系統中鬼像效應的研究的圖5

總結—元件

VirtualLab:準直系統中鬼像效應的研究的圖6

VirtualLab:準直系統中鬼像效應的研究的圖7

系統光線追跡結果

VirtualLab:準直系統中鬼像效應的研究的圖8

完美的減反射(AR)涂層

VirtualLab:準直系統中鬼像效應的研究的圖9

有內部反射

VirtualLab:準直系統中鬼像效應的研究的圖10

文件信息

VirtualLab:準直系統中鬼像效應的研究的圖11

進一步閱讀

? Modeling of Etalon with Planar or Curved Surfaces

? Channel Setting for Non-Sequential Tracing

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