Malvern Panalytical Aeris XRD:創(chuàng)新材料結(jié)構(gòu)分析

  • 臺(tái)灣科技大學(xué) 多功能材料制造實(shí)驗(yàn)室 / 廖宣銘 研究生
  • (轉(zhuǎn)載自繁體版ACMT電子技術(shù)月刊No.091)

前言

XRD為一非破壞材料檢測(cè)技術(shù),由于X光波長(zhǎng)與材料晶面間距相近,可使X光產(chǎn)生繞射現(xiàn)象。藉由分析繞射現(xiàn)象可得知材料的結(jié)晶組成,更進(jìn)一步可量測(cè)材料內(nèi)部的晶粒尺寸、相組成、殘留應(yīng)力等材料性質(zhì)。塊材、粉末藉由對(duì)應(yīng)載臺(tái)可有效進(jìn)行XRD分析;而薄膜材料則需使用低掠角技術(shù),達(dá)到較淺的穿透深度,以有效分析表面薄膜。

本文主要介紹使用Aeris桌上型X光繞射儀(Malvern Panalytical)掃描316基板上之冷噴涂Ti6Al4V涂層,輔以HighScore Plus軟件分析Ti6Al4V涂層經(jīng)過(guò)1150°C真空擴(kuò)散后的相組成。

Aeris XRD簡(jiǎn)介

當(dāng)初Malvern Panalytical負(fù)責(zé)對(duì)學(xué)生進(jìn)行儀器操作訓(xùn)練的李秉中博士在儀器訓(xùn)練時(shí),這樣向我們介紹:「在舊有的觀念中,有輻射的儀器都需要放置于鉛室內(nèi)才安全;而這臺(tái)Aeris可以直接放置于一般室內(nèi)是因?yàn)闄C(jī)臺(tái)內(nèi)部本身就有鉛室的功能。當(dāng)射源開(kāi)啟時(shí),警示燈會(huì)亮起,而射源在機(jī)臺(tái)內(nèi)部被單獨(dú)阻隔,因此沒(méi)有輻射外泄的疑慮。」經(jīng)過(guò)詳細(xì)地機(jī)臺(tái)介紹后,讓我們知道Aeris XRD不僅有便利性及占用空間少的優(yōu)點(diǎn),對(duì)于輻射管控更是安全為上。

簡(jiǎn)介實(shí)驗(yàn)流程

試片放入載臺(tái),確認(rèn)試片受測(cè)面與試片載臺(tái)維持同一水平面,后放置于試片臂上,即可點(diǎn)選機(jī)臺(tái)操作面板的按鈕,把試片送入Aeris XRD進(jìn)行量測(cè),儀器操作十分簡(jiǎn)單易懂。對(duì)于企業(yè)單位來(lái)說(shuō),由工程師先將測(cè)試參數(shù)設(shè)定好,作業(yè)員僅需要放入試片、輸入試片編號(hào),即可完成測(cè)試,簡(jiǎn)單又不容易出錯(cuò);而對(duì)于學(xué)術(shù)單位,Aeris XRD可快速得到大量數(shù)據(jù)進(jìn)行研究分析,是集效率與分析精度于一身的檢測(cè)儀器。

本次測(cè)試使用的參數(shù)設(shè)定

  • Start Position(°2θ):5
  • End Position(°2θ):90
  • Step Size(°2θ):0.02

HighScore軟件介紹

XRD儀器掃描完后的數(shù)據(jù)都需要透過(guò)軟件來(lái)進(jìn)行分析,而Malvern Panalytical的HighScore軟件可以提供方便的peak比對(duì)、計(jì)算晶粒尺寸等功能(軟件界面如圖1)。

Malvern Panalytical Aeris XRD:創(chuàng)新材料結(jié)構(gòu)分析的圖1

圖1:HighScore軟件界面

HighScore Plus不只可匯入Aeris XRD分析后的XRDML檔,亦兼容其他副檔名(例如raw檔等)。匯入分析的檔案后,可以在HighScore Plus軟件進(jìn)行Determine background的動(dòng)作,圖2為展示Determine background前后之比較。后續(xù)再進(jìn)行Search peak確認(rèn)資料中的peak都有被正確辨識(shí)后,即可進(jìn)行peak與晶體數(shù)據(jù)庫(kù)的比對(duì),進(jìn)行相組成的分析。而晶體數(shù)據(jù)庫(kù)比對(duì)的部分,HighScore會(huì)依據(jù)繞射峰的2θ以及角強(qiáng)度比例等去跟參考數(shù)據(jù)庫(kù)進(jìn)行比對(duì),再依照擬合程度去進(jìn)行評(píng)分,得分越高的卡號(hào)代表越有可能含有的相(如圖3),這個(gè)部分很大程度的提升了數(shù)據(jù)分析的效率。

Malvern Panalytical Aeris XRD:創(chuàng)新材料結(jié)構(gòu)分析的圖2

圖2:Determine background前后之比較


Malvern Panalytical Aeris XRD:創(chuàng)新材料結(jié)構(gòu)分析的圖3

圖3:Score欄位數(shù)值代表參考卡號(hào)與測(cè)試結(jié)果擬合程度

相組成分析

本次使用Aeris XRD分析了Ti6Al4V的粉末、冷噴涂后真空燒結(jié)涂層兩種狀態(tài)。Ti6Al4V粉末狀態(tài)下的XRD分析圖譜(請(qǐng)見(jiàn)圖4),經(jīng)卡號(hào)比對(duì)出HCP結(jié)構(gòu)之α相與BCC結(jié)構(gòu)之β相,判斷Ti6Al4V為α+β相;α相于35.646°、38.550°、40.699°2θ分別可發(fā)現(xiàn)(100)、(002)、(101)結(jié)晶方向的peak;而β相則在38.466°2θ可發(fā)現(xiàn)(011)結(jié)晶方向的peak。而Ti6Al4V冷噴涂涂層經(jīng)過(guò)真空擴(kuò)散后于XRD繞射峰比對(duì)發(fā)現(xiàn)了FeTi介金屬相及FeO相,XRD分析結(jié)果如圖5。

Malvern Panalytical Aeris XRD:創(chuàng)新材料結(jié)構(gòu)分析的圖4

圖4:Ti6Al4V粉末之XRD圖譜

Malvern Panalytical Aeris XRD:創(chuàng)新材料結(jié)構(gòu)分析的圖5

圖5:Ti6Al4V冷噴涂層經(jīng)真空擴(kuò)散后之XRD圖譜

結(jié)語(yǔ)

經(jīng)過(guò)Aeris XRD與HighScore軟件分析,確定了Ti6Al4V為α+β相,而Ti6Al4V冷噴涂涂層經(jīng)過(guò)真空擴(kuò)散后,形成了介金屬相。本文藉由Ti6Al4V粉末、涂層的分析,簡(jiǎn)單地介紹Aeris XRD與軟件HighScore Plus的功能。此外,還有晶粒尺寸、Micro strain、殘留應(yīng)力等更加深入的分析可探索。XRD分析就像廚具與廚藝的關(guān)系,Aeris XRD是一項(xiàng)好工具,是得到數(shù)據(jù)的便捷方法,而如何去運(yùn)用數(shù)據(jù)去計(jì)算與解釋結(jié)果,更是能展現(xiàn)專(zhuān)業(yè)的一大學(xué)問(wèn)。

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