主要用于介紹如何在OptiBPM中創建一個簡單的多模干涉耦合器，主要步驟如下：

? 定義MMI耦合器的材料；

? 定義布局設定；

? 創建一個MMI耦合器；

? 插入輸入面；

? 運行模擬；

? 在OptiBPM_Analyzer中預覽模擬結果。

 

1. 定義MMI耦合器的材料

為了定義MMI耦合器的材料，需要進行如下操作：

1) 通過File-New打開“初始性能對話框（Initial Properties）“

 

圖1.初始性能對話框

 

2) 點擊圖1中的“輪廓和材料（Profiles And Materials）”以激活“輪廓設計窗口（Profile Designer）”

 

圖2.輪廓設計窗口

 

3) 右鍵單擊圖2中材料（Materials）標簽下的“電介質（Dielectric）“，選擇New以激活電介質材料創建窗口

 

 

圖3.電介質材料創建窗口

 

4) 在圖3中窗口創建第一種電解質材料：

? Name : Guide

? Refractive Index (Re) : 3.3

? 點擊“Store”以保存創建的第一種電解質材料并關閉窗口

 

圖4.創建Guide材料

 

5) 重復步驟3）和4），創建第二種電解質材料：

? Name : Cladding

? Refractive Index (Re) : 3.27

? 點擊“Store”以保存創建的第一種電解質材料并關閉窗口

 

    

圖5.左圖為創建Cladding材料，右圖為材料創建成功后電解質材料標簽下的顯示

 

6) 雙擊Profiles標簽下的Channel-Channel1，進入通道編輯窗口，構建通道：

? Name ：Guide_Channel

? 2D profile definition: Guide

? 點擊“Store”保存創建的通道并關閉通道編輯窗口，關閉Profile Designer窗口

 

圖6.構建通道

2. 定義布局設定

為了定義布局設定，需要在“初始性能對話框（Initial Properties）”窗口進行以下操作：

1) 點擊“默認波導（Default Waveguide）”標簽

? Width：2.8

注意：所有的波導將會使用此設定以作為默認厚度

? Profile：Channel-Guide

圖7.默認波導標簽下“Width”以及“Profile”設置 

 

2) 切換到“晶圓尺寸（Wafer Dimension）”標簽：

? Length：5300

? Width：60

 

圖8.設置晶圓尺寸

 

3) 切換到“2D晶圓屬性（2D Wafer Properties）”標簽：

? Material：Cladding

? 點擊OK以激活布局窗口

 

圖9.晶圓材料設置

 

4) 布局窗口

 

圖10.默認情況下布局窗口顯示

 

5) 調整顯示比率，以便更好進行波導結構布局設置：

? View-Layout Options以激活布局設置選項窗口

? Display ratio : Z=40,點擊OK，如圖11所示

? 調整縮放比率為0.6 ，最終布局顯示如圖12所示

 

圖11.調整Z方向和X方向的顯示比率

 

圖12.最終布局顯示

 

3. 創建一個MMI耦合器

為了構建一個MMI耦合器，需要進入如下操作：

1) 在“繪圖（Draw）”菜單下選擇“線性波導（Linear Waveguide）”或者在波導欄 下選擇線性波導

2) 當鼠標指針變為十字叉時，點擊布局窗口左側，并向右側拖拽波導后松開鼠標，以生成第一個線性波導

 

圖13 .繪制第一個線性波動