TRCX：摻雜過程分析
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在 LTPS 制造過程中，使用自對準掩模通過離子注入來金屬化有源層。當通過 TRCX 計算電容時，應用與實際工藝相同的原理。工程師可以根據真實的 3D 結構提取準確的電容，并分析有源層離子注入前后的電位分布，如下圖所示。
(a)FIB
(b) 摻雜前后對比
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