Imec和三井化學簽署戰略合作協議!將用于EUV光刻的CNT薄膜技術商業化
CINNO research產業資訊,2023年12月14日-全球領先的納米電子、數字技術研究和創新中心Imec與日本領先的化學公司和EUV薄膜供應商三井化學宣布,開始就極紫外光刻用碳納米管(CNT)基薄膜(Pellicle)的商業化建立戰略合作伙伴關系。根據這一合作伙伴關系,三井化學將把imec的碳納米管基薄膜創新地整合到其現有碳納米管薄膜技術中,以建立完整的生產規格。這一合作的目標是在2025-2026年將其用于大功率EUV系統的制造中,雙方的簽約儀式在東京舉行的Semicon Japan 2023上舉行。
據介紹,合作伙伴雙方計劃通過相關咨詢和imec的EUV掃描設備驗證,共同開發EUV薄膜,以便在三井化學公司進行商業化。這種薄膜可以保護光掩模在EUV曝光過程中免受污染,它具有極高的EUV透射率(≥94%)、極低的EUV反射率和最小的光學影響——這些是先進半導體制造工藝中實現高產量和高良率生產的關鍵特性。CNT薄膜能夠承受超過1kW的EUV功率水平,能夠支持實現未來EUV光源的目標功率(>600W)。鑒于這些優勢,這種碳納米管基薄膜,引起了眾多希望在其大批量制造過程中使用EUV光刻技術的公司的強烈興趣。在這樣的市場背景下,上述合作伙伴雙方希望通過共同開發適合行業的CNT薄膜,以滿足市場需求。
“Imec在支持半導體生態系統推進光刻技術發展方面有著悠久的歷史。自2015年以來,我們與整個供應鏈的合作伙伴合作,開發了一種創新的基于CNT的薄膜設計,用于先進的EUV光刻,”Imec高級圖案化、工藝和材料高級副總裁Steven Scheer表示:“我們相信,公司對CNT膜的測量、表征和參數性能方面的深入了解將加速三井化學的產品開發。我們希望共同將CNT膜投入商業生產,用于未來幾代EUV光刻系統的構建。”
從上述光刻技術的路線圖看出,市場預計在2025-2026年會推出新的薄膜,即下一代ASML 0.33NA EUV光刻系統,支持600W及更高功率水平的光源。該時間與超過2nm邏輯技術節點的插入相關聯。
關于imec
Imec是全球領先的納米電子、數字技術研究和創新中心。該研究中心利用其最先進的研發基礎設施及其5500多名員工和頂尖研究人員的團隊。除了先進半導體、硅光子學、人工智能、5G通信和傳感技術之外,他們還致力于健康和生命科學、移動、工業4.0、農產品、智能城市、可持續能源等眾多應用領域的研發。Imec將半導體價值鏈、佛蘭德斯和國際科技、制藥、醫療和ICT公司、初創企業、學術界和知識中心的世界行業領導者團結在一起。Imec的總部位于魯汶(比利時),在比利時、荷蘭和美國設有研究機構,并在三大洲設有代表處。2022年,imec的收入(P&L)總計8.46億歐元。
關于三井化學
三井化學的起源可以追溯到1912年,當時該公司最先在日本開始用煤氣副產品生產化肥原材料。這項事業大大提高了農業生產力,它是當時的一個主要社會問題。后來,該公司將其技術從煤化工發展到天然氣化工,并于1958年建造了日本第一個石化聯合企業,從而為日本工業的快速發展提供了動力。如今,該公司擁有許多世界級的產品,銷售額超過16000億日元,在30個國家擁有160多家公司。其業務組合包括生命與醫療保健解決方案、移動解決方案、ICT解決方案、基礎與綠色材料。
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