摘要

                               Field Inside Component Analyzer: FMM使用戶能夠分析電磁場在微納米結(jié)構(gòu)內(nèi)部的分布。為此，任意周期結(jié)構(gòu)(包括透射和反射、介質(zhì)或金屬光柵)內(nèi)的場通過應(yīng)用傅里葉模態(tài)方法/嚴格耦合波分析法(FMM/RCWA)來計算。還可以指定場的哪一部分應(yīng)該可視化:前向傳播的場、后向傳播的場或兩者都要可視化。 

尋找元件內(nèi)部場分析儀:FMM

                         元件內(nèi)部場分析儀:FMM是光柵光學(xué)設(shè)置的專用功能，可提供光柵結(jié)構(gòu)內(nèi)部電磁場的可視化。

 評估模式

                                                        為了更容易地區(qū)分入射場、反射場和透射場，可以只計算前向或后向傳播模式，或兩者的結(jié)合。 



          前向傳播模式                    后向傳播模式             前向和后向傳播模式 

評估區(qū)域                                                       光柵類型                                                                  元件內(nèi)部場分析儀可以對任意形狀的光柵結(jié)構(gòu)進行分析。這里有幾個例子。

 光柵表面采樣

     光柵表面采樣                                                                   對光柵結(jié)構(gòu)進行充分的采樣意味著采樣效應(yīng)不應(yīng)明顯地影響產(chǎn)生的場。例如，如果RCWA層分解太粗糙，則可能會由于剖面中的大采樣間隔而產(chǎn)生額外的影響。