元件內部場分析儀:FMM
摘要
Field Inside Component Analyzer: FMM使用戶能夠分析電磁場在微納米結構內部的分布。為此,任意周期結構(包括透射和反射、介質或金屬光柵)內的場通過應用傅里葉模態方法/嚴格耦合波分析法(FMM/RCWA)來計算。還可以指定場的哪一部分應該可視化:前向傳播的場、后向傳播的場或兩者都要可視化。
尋找元件內部場分析儀:FMM
元件內部場分析儀:FMM是光柵光學設置的專用功能,可提供光柵結構內部電磁場的可視化。
評估模式
為了更容易地區分入射場、反射場和透射場,可以只計算前向或后向傳播模式,或兩者的結合。
前向傳播模式 后向傳播模式 前向和后向傳播模式
評估區域
光柵類型
元件內部場分析儀可以對任意形狀的光柵結構進行分析。這里有幾個例子。
光柵表面采樣
光柵表面采樣
對光柵結構進行充分的采樣意味著采樣效應不應明顯地影響產生的場。例如,如果RCWA層分解太粗糙,則可能會由于剖面中的大采樣間隔而產生額外的影響。
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